2022年?yáng)|大秋現(xiàn)代材料測(cè)試技術(shù)在線作業(yè)3

1、(單選題) 1: 在入射電子束作用下被轟擊出來(lái)并離開樣品表面的樣品的核外電子叫做（ ）。A: 二次電子 B: 背散射電子 C: 俄歇電子對(duì)的答案：(單選題) 2: 把透鏡像平面容許的軸向偏差定義為（ ）。A: 球差 B: 景深 C: 焦深對(duì)的答案：(單選題) 3: 俄歇電子能譜儀的重要功能是（ ）。A: 測(cè)表面成分和晶體構(gòu)造 B: 測(cè)內(nèi)部化學(xué)成分和組織 C: 測(cè)表面化學(xué)成分 對(duì)的答案：(單選題) 4: 倒易點(diǎn)陣中的一點(diǎn)代表的是正點(diǎn)陣中的（ ）。A: 一種點(diǎn) B: 一種晶面 C: 一組晶面。對(duì)的答案：(單選題) 5: 讓透射束通過(guò)物鏡光闌而把衍射束擋掉得到圖像襯度的措施，叫做（ ）。A: 明場(chǎng)成

2、像 B: 暗場(chǎng)成像 C: 中心暗場(chǎng)成像對(duì)的答案：(單選題) 6: X射線衍射時(shí)濾波的目的是( )。A: 避免熒光輻射 B: 獲得K系單色 C: 避免光電效應(yīng)對(duì)的答案：(單選題) 7: X射線持續(xù)譜中存在一種短波極限，其波長(zhǎng)入（ ）。A: /V(千伏) nm B: 12.4/V(千伏) nm C: 12.4/V伏 nm對(duì)的答案：(單選題) 8: 透射電鏡的兩種重要功能是檢測(cè)（ ）。A: 表面形貌和晶體構(gòu)造B: 內(nèi)部組織和晶體構(gòu)造C: 表面形貌和內(nèi)部組織對(duì)的答案：(單選題) 9: 在debye照相法中，不受底片收縮影響的底片安裝措施是（ ）。 A: 正裝 B: 反裝 C: 不對(duì)稱對(duì)的答案：(單選題

3、) 10: 通過(guò)透鏡中心且與主軸垂直的平面叫做（ ）。A: 焦平面 B: 透鏡主平面 C: 像平面對(duì)的答案：(判斷題) 1: 產(chǎn)生特性X射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外,原子處在激發(fā)狀態(tài)。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 2: 掃描電鏡的表面形貌襯度是采用背散射電子形成的電子像。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 3: 當(dāng)X射線管電壓低于臨界電壓時(shí)僅可以產(chǎn)生持續(xù)X射線；當(dāng)X射線管電壓超過(guò)臨界電壓就可以產(chǎn)生特性X射線和持續(xù)X射線。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 4: 晶體的電子衍射斑點(diǎn)是相應(yīng)晶體倒易點(diǎn)陣二維截面的放大象。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 5: 透

4、射電鏡成像系統(tǒng)中，若使中間鏡物平面與物鏡像平面重疊的操作稱為成像操作；而使中間鏡的物平面與物鏡背焦面重疊的操作稱為衍射操作。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 6: 透射電鏡圖像的襯度與樣品成分無(wú)關(guān)。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 7: 激發(fā)限與吸取限是一回事,只是從不同角度看問(wèn)題。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 8: X射線是一種電磁波，產(chǎn)生X射線的核心部件是X射線管。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 9: 當(dāng)X射線照射在一種晶體時(shí)，產(chǎn)生衍射的必要和充足條件是必須滿足布拉格方程。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 10: 透鏡的數(shù)值孔徑與折射率有關(guān)。A

5、: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(單選題) 1: 在入射電子束作用下被轟擊出來(lái)并離開樣品表面的樣品的核外電子叫做（ ）。A: 二次電子 B: 背散射電子 C: 俄歇電子對(duì)的答案：(單選題) 2: 把透鏡像平面容許的軸向偏差定義為（ ）。A: 球差 B: 景深 C: 焦深對(duì)的答案：(單選題) 3: 俄歇電子能譜儀的重要功能是（ ）。A: 測(cè)表面成分和晶體構(gòu)造 B: 測(cè)內(nèi)部化學(xué)成分和組織 C: 測(cè)表面化學(xué)成分 對(duì)的答案：(單選題) 4: 倒易點(diǎn)陣中的一點(diǎn)代表的是正點(diǎn)陣中的（ ）。A: 一種點(diǎn) B: 一種晶面 C: 一組晶面。對(duì)的答案：(單選題) 5: 讓透射束通過(guò)物鏡光闌而把衍射束擋掉得到圖像襯度的措

6、施，叫做（ ）。A: 明場(chǎng)成像 B: 暗場(chǎng)成像 C: 中心暗場(chǎng)成像對(duì)的答案：(單選題) 6: X射線衍射時(shí)濾波的目的是( )。A: 避免熒光輻射 B: 獲得K系單色 C: 避免光電效應(yīng)對(duì)的答案：(單選題) 7: X射線持續(xù)譜中存在一種短波極限，其波長(zhǎng)入（ ）。A: /V(千伏) nm B: 12.4/V(千伏) nm C: 12.4/V伏 nm對(duì)的答案：(單選題) 8: 透射電鏡的兩種重要功能是檢測(cè)（ ）。A: 表面形貌和晶體構(gòu)造B: 內(nèi)部組織和晶體構(gòu)造C: 表面形貌和內(nèi)部組織對(duì)的答案：(單選題) 9: 在debye照相法中，不受底片收縮影響的底片安裝措施是（ ）。 A: 正裝 B: 反裝 C

7、: 不對(duì)稱對(duì)的答案：(單選題) 10: 通過(guò)透鏡中心且與主軸垂直的平面叫做（ ）。A: 焦平面 B: 透鏡主平面 C: 像平面對(duì)的答案：(判斷題) 1: 產(chǎn)生特性X射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外,原子處在激發(fā)狀態(tài)。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 2: 掃描電鏡的表面形貌襯度是采用背散射電子形成的電子像。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 3: 當(dāng)X射線管電壓低于臨界電壓時(shí)僅可以產(chǎn)生持續(xù)X射線；當(dāng)X射線管電壓超過(guò)臨界電壓就可以產(chǎn)生特性X射線和持續(xù)X射線。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 4: 晶體的電子衍射斑點(diǎn)是相應(yīng)晶體倒易點(diǎn)陣二維截面的放大象。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 5: 透射電鏡成像系統(tǒng)中，若使中間鏡物平面與物鏡像平面重疊的操作稱為成像操作；而使中間鏡的物平面與物鏡背焦面重疊的操作稱為衍射操作。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 6: 透射電鏡圖像的襯度與樣品成分無(wú)關(guān)。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 7: 激發(fā)限與吸取限是一回事,只是從不同角度看問(wèn)題。A: 錯(cuò)誤B: 對(duì)的對(duì)的答案：(判斷題) 8: X射線是一種電磁波，產(chǎn)生X射線的核心部