光刻膠高精度光刻關(guān)鍵材料

1、表 1：相關(guān)公司盈利預(yù)測與估值（更新至 2020 年 4 月 23 日收盤價）公司股價市值（元） （億元）歸母凈利潤（億元）181920E21E凈利潤增速181920E21EPE181920E21E雅克科技36.99171.001.332.533.424.34285%91%35%27%129675039南大光電24.591000.510.530.961.7351%4%80%80%19518810458飛凱材料17.8692.452.842.552.933.52239%-10%15%20%33363226強力新材15.7481.101.471.491.621.7616%2%9%9%5555504

2、6晶瑞股份31.6256.260.500.310.330.3739%-38%7%9%112180168154資料來源：Wind， 表 2：重點公司核心邏輯股票代碼公司核心邏輯雅克科技產(chǎn)品線豐富，是覆蓋半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈最廣的材料公司之一。雅克科技通過不斷參股和并購其他公司獲取先進(jìn)光刻膠技術(shù)，目前已獲取彩色光刻膠技術(shù)和 TFT 光刻膠技術(shù)，預(yù)計 LCD002409.SZ雅克科技需求增加將使雅克科技持續(xù)獲益。預(yù)計公司 2020 年半導(dǎo)體化學(xué)材料業(yè)務(wù)收入將達(dá) 5.76 億元，同比增長 45%左右，毛利率達(dá)到 39%，總體營收可達(dá) 23.44 億元，毛利率保持在 33%左右。南大光電是我國 MO 源龍頭企業(yè)

3、，現(xiàn)已延伸業(yè)務(wù)范圍至電子特氣和光刻膠研發(fā)。南大光電著力于 ArF 光刻膠領(lǐng)域，獲得國家 02 專項立項并建設(shè) 193nm 光刻膠生產(chǎn)線。南大光電布局電300346.SZ南大光電子特氣和半導(dǎo)體光刻膠兩大關(guān)鍵領(lǐng)域，有望實現(xiàn)光刻膠國產(chǎn)替代，帶來可觀收益。預(yù)計公司2020 年總體營收達(dá) 6.28 億元，毛利率約為 55%，歸母凈利潤達(dá)到 0.96 億元。300398.SZ飛凱材料飛凱材料擁有包括 TFT-LCD 液晶面板的正性光刻膠等電子材料產(chǎn)品，專利數(shù)量多達(dá) 320 個，深入推進(jìn)半導(dǎo)體材料布局，尤其是積極拓展光刻膠項目，多個相關(guān)項目已建成并投入使用?？紤]到公司對光刻膠和 OLED 等關(guān)鍵材料都掌握自

4、主專利技術(shù)和量產(chǎn)能力，發(fā)展的增量空間很大。預(yù)計公司 2020 年總體營收可達(dá) 25.13 億元，毛利率保持在 46%左右。強力新材從事光刻膠專用電子化學(xué)品研發(fā)生產(chǎn)，隨著 PCB 和 LCD 的產(chǎn)業(yè)東遷和需求增長，公司有望持續(xù)受益。強力新材已布局 KrF 光刻膠單體多年，其豐富的專利使其在構(gòu)筑起技術(shù)300429.SZ強力新材壁壘的同時得以布局更廣的半導(dǎo)體材料。預(yù)計公司 2020 年 PCB 光刻膠業(yè)務(wù)收入將達(dá) 3.11 億元，同比增長 16%左右，毛利率達(dá) 40%，總體營收達(dá) 11.43 億元，毛利率保持在 39%左右。300655.SZ晶瑞股份晶瑞股份是國內(nèi)的 i 線光刻膠龍頭廠商，在光刻膠領(lǐng)

5、域積累深厚，考慮到高端光刻膠國產(chǎn)替代的巨大需求，光刻膠業(yè)務(wù)增量空間巨大，值得期待。晶瑞股份還擁有超凈高試劑、鋰電池粘結(jié)劑等下游需求很大的關(guān)鍵材料。預(yù)計公司 2020 年光刻膠業(yè)務(wù)收入將達(dá)到 0.95 億元，同比增長 20%左右，毛利率達(dá)到 52%，總體營收可達(dá) 10.03 億元，毛利率保持在 28%左右。資料來源：Wind， 目錄 HYPERLINK l _TOC_250007 光刻膠高精度光刻的關(guān)鍵 1 HYPERLINK l _TOC_250006 光刻膠應(yīng)用領(lǐng)域?qū)掗?，半?dǎo)體光刻膠尤為重要 4 HYPERLINK l _TOC_250005 下游需求旺盛，光刻膠市場向好 7 HYPERLI

6、NK l _TOC_250004 日韓美壟斷市場，光刻膠國產(chǎn)化迫在眉睫 8 HYPERLINK l _TOC_250003 光刻膠領(lǐng)域重點海外公司 12 HYPERLINK l _TOC_250002 光刻膠領(lǐng)域重點本土公司 19 HYPERLINK l _TOC_250001 相關(guān)公司盈利預(yù)測和估值 38 HYPERLINK l _TOC_250000 風(fēng)險提示 39圖目錄圖 1：材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要支撐 1圖 2：光刻機工藝操作圖 1圖 3：ASML EUV（TWINSCAN NXE:3350B）光刻機 1圖 4：光刻過程示意圖 2圖 5：光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈概要 2圖 6：光刻膠組成成分 3圖

7、 7：正性/負(fù)性光刻膠 3圖 8：各類光刻膠市場份額占比 5圖 9：各類半導(dǎo)體用光刻膠市場份額占比 5圖 10：全球光刻膠市場規(guī)模及增速 7圖 11：全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模及預(yù)測 7圖 12：中國光刻膠市場規(guī)模及增速 7圖 13：全球面板需求面積及增速 7圖 14：全球光刻膠市場格局 8圖 15：國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值份額 9圖 16：全球半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)規(guī)模及增長率（億美元） 10圖 17：中國半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)規(guī)模及增長率（億元） 10圖 18：全球光刻膠市場結(jié)構(gòu) 12圖 19：i/g 型光刻膠市場結(jié)構(gòu) 12圖 20：東京應(yīng)化發(fā)展歷程 14圖 21：KrF 光刻膠市場結(jié)構(gòu) 14圖 22：ArF 光刻膠

8、市場結(jié)構(gòu) 14圖 23：羅門哈斯發(fā)展歷程 16圖 24：信越化學(xué)發(fā)展歷程 17圖 25：富士電子材料發(fā)展歷程 18圖 26：富士膠片業(yè)務(wù)結(jié)構(gòu) 18圖 27：富士膠片醫(yī)療及材料業(yè)務(wù)結(jié)構(gòu) 18圖 28：雅克科技營業(yè)收入（億元） 21行業(yè)深度研究報告圖 29：雅克科技?xì)w母凈利潤（億元） 21圖 30：雅克科技營收構(gòu)成（產(chǎn)品） 21圖 31：雅克科技毛利率和凈利率 21圖 32：南大光電營業(yè)收入及其增長率 24圖 33：南大光電凈利潤及其增長率 24圖 34：南大光電毛利率與凈利率 24圖 35：飛凱材料研發(fā)費用和研發(fā)人員增長 27圖 36：飛凱材料專利數(shù)與行業(yè)對比 27圖 37：飛凱材料營業(yè)收入（億

9、元） 28圖 38：飛凱材料歸母凈利潤（億元） 28圖 39：飛凱材料毛利率和凈利率 28圖 40：飛凱材料各產(chǎn)品毛利（億元） 28圖 41：強力新材專利獲取情況（個） 31圖 42：強力新材研發(fā)投入逐年增加 31圖 43：強力新材營業(yè)收入（億元） 31圖 44：強力新材營收結(jié)構(gòu)（地區(qū)） 31圖 45：強力新材毛利率與凈利率 31圖 46：強力新材歸母凈利潤 31圖 47：強力新材營收分布（產(chǎn)品） 32圖 48：強力新材各產(chǎn)品毛利率 32圖 49：晶瑞股份營收結(jié)構(gòu)（產(chǎn)品） 34圖 50：晶瑞股份營收結(jié)構(gòu)（地區(qū)） 34圖 51：晶瑞股份營業(yè)收入（億元） 35圖 52：晶瑞股份營收結(jié)構(gòu)（地區(qū)） 3

10、5圖 53：晶瑞股份毛利率與凈利率 35圖 54：晶瑞股份各產(chǎn)品毛利率 35表目錄表 1：相關(guān)公司盈利預(yù)測與估值（更新至 2020 年 4 月 23 日收盤價） 2表 2：重點公司核心邏輯 2表 3：光刻膠種類 2表 4：光刻膠主要技術(shù)參數(shù) 3表 5：光刻膠按下游應(yīng)用分類 4表 6：半導(dǎo)體光刻膠類型 4表 7：IC 集成度與光刻技術(shù)發(fā)展歷程 5表 8：光刻膠企業(yè)材料量產(chǎn)與研發(fā)情況 9表 9：光刻膠國產(chǎn)化情況 11表 10：海外光刻膠龍頭公司 12表 11：JSR 業(yè)務(wù)詳細(xì)分類 13表 12：東京應(yīng)化產(chǎn)品線 15表 13：羅門哈斯光刻膠產(chǎn)品 16表 14：信越化學(xué)產(chǎn)品線 17表 15：國內(nèi)光刻膠

11、公司 19表 16：雅克科技發(fā)展沿革 20表 17：雅克科技參股公司 20表 18：雅克科技盈利預(yù)測 21表 19：雅克科技收入拆分與預(yù)測 22表 20：南大光電發(fā)展沿革 23表 21：南大光電各產(chǎn)品毛利率 24表 22：南大光電盈利預(yù)測 24表 23：南大光電盈利預(yù)測 25表 24：南大光電收入拆分與預(yù)測 25表 25：飛凱材料盈利預(yù)測 28表 26：飛凱材料收入拆分與預(yù)測 29表 27：強力新材產(chǎn)品體系 30表 28：強力新材盈利預(yù)測 32表 29：強力新材收入拆分與預(yù)測 33表 30：晶瑞股份發(fā)展沿革 34表 31：晶瑞股份收入拆分與預(yù)測 36表 32：晶瑞股份盈利預(yù)測 37表 33：相

12、關(guān)公司盈利預(yù)測與估值（更新至 2020 年 4 月 23 日收盤價） 38光刻膠高精度光刻的關(guān)鍵在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，上游微電子材料和設(shè)備是支撐該行業(yè)的關(guān)鍵部分。上游微電子材料包括半導(dǎo)體制造過程中用到的所有化學(xué)材料，包括硅片、光刻膠及輔助材料、光掩模、CMP 拋光材料、工藝化學(xué)品、濺射靶材、特種氣體等。其中，光刻膠是占據(jù)極其重要地位的關(guān)鍵原材料。由于中高端光刻膠的相關(guān)生產(chǎn)技術(shù)目前主要掌握在日本手中，我國已加大政策扶持力度，力求加速在光刻膠領(lǐng)域的國產(chǎn)替代進(jìn)程。圖 1：材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要支撐半導(dǎo)體材料業(yè)半導(dǎo)體業(yè) 藝化學(xué)品 電特其他IC封測軍事政府靶材IC設(shè)計醫(yī)療物聯(lián)CMP拋光材料汽車光刻膠輔助材料

13、消費電計算機光掩模通信硅片IC制造集成電路（ IC）封裝材料終端應(yīng)用領(lǐng)域光刻膠光電器件、 分立器件、 傳感器晶圓制造材料資料來源：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院， 光刻是將電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到硅片上，為后續(xù)刻蝕工藝做準(zhǔn)備的過程。光刻是 IC 制造過程中耗時最長、難度最大的工藝之一，耗時占 IC 制造 50%，成本占 IC 制造 1/3。在一次芯片制造中，往往要對硅片進(jìn)行上十次光刻，其主要流程為清洗、涂膠、前烘、對準(zhǔn)、曝光、后烘、顯影、刻蝕、光刻膠剝離、離子注入等。在光刻過程中，需在硅片上涂一層光刻膠，經(jīng)紫外線曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，通過顯影后，被曝光的光刻膠將被去除，電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到光刻膠上

14、，再經(jīng)過刻蝕工藝，實現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉(zhuǎn)移到硅片上。圖 2：光刻機工藝操作圖圖 3：ASML EUV（TWINSCAN NXE:3350B）光刻機資料來源：半導(dǎo)體行業(yè)觀察， 資料來源：ANANDTECH 官網(wǎng)， 光刻膠是光刻工藝最重要的耗材，光刻膠的質(zhì)量對光刻精度至關(guān)重要。光刻膠是指通過紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。由于光刻膠具有光化學(xué)敏感性和防腐蝕的保護(hù)作用，因此經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將微細(xì)電路圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到硅片。雖然光刻膠制造成本低，但是技術(shù)壁壘高，不可替代，難以保存。圖 4：光刻過程示意圖資料來源：芯頻道， 光

15、刻膠按照應(yīng)用場景不同可分為半導(dǎo)體光刻膠、LCD 光刻膠、PCB 光刻膠。光刻膠處于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的材料環(huán)節(jié)，上游為基礎(chǔ)化工材料和精細(xì)化學(xué)品行業(yè)，中游為光刻膠制備環(huán)節(jié)，下游為半導(dǎo)體制造，最后市場是電子產(chǎn)品應(yīng)用終端。表 3：光刻膠種類圖 5：光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈概要光刻膠分類細(xì)分品種半導(dǎo)體光刻膠i 線光刻膠 g 線光刻膠 KrF 光刻膠ArF 光刻膠LCD 光刻膠彩色濾光片用彩色光刻膠及黑色光刻膠LCD/TP 襯墊料光刻膠TFT-LCD 中 Array 用光刻膠PCB 光刻膠干膜光刻膠濕膜光刻膠光成像阻焊油墨資料來源：晶瑞股份招股說明書， 資料來源：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院， 光刻膠的主要成分有光刻膠樹脂、感光劑、溶

16、劑和添加劑。光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì)，是用來將其它材料聚合在一起的粘合劑；光刻膠的粘附性、膠膜厚度等特性都是由樹脂決定的。感光劑是光刻膠的核心部分，它對光形式的輻射能，特別是在紫外區(qū)光的輻射能會發(fā)生反應(yīng)；曝光時間、光源所發(fā)射光線的強度都和感光劑的特性直接相關(guān)。溶劑是光刻膠中容量最大的成分；因為感光劑和添加劑都是固態(tài)物質(zhì)，為了將他們均勻地涂覆，要將它們加入溶劑進(jìn)行溶解，形成液態(tài)物質(zhì)，且使之具有良好的流動性，可以通過旋轉(zhuǎn)方式涂布在晶圓表面。添加劑可以用以改變光刻膠的某些特性，如可以通過添加染色劑來改善光刻膠，使其發(fā)生反射。光刻膠的品種多種多樣，基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，按技術(shù)可分為光聚合型、

17、光分解型、光交聯(lián)型三種。另外，正性和負(fù)性光刻膠是光刻膠的兩個重要品類，光照后形成可溶物質(zhì)的為正性膠，形成不可溶物質(zhì)的為負(fù)性膠。由于性能較優(yōu)，正性光刻膠應(yīng)用更廣，但由于光刻膠需求量大，負(fù)性膠仍有一定的應(yīng)用市場。圖 6：光刻膠組成成分圖 7：正性/負(fù)性光刻膠資料來源：強力電子官網(wǎng)， 資料來源：強力電子官網(wǎng)， 光刻膠最為重要的技術(shù)指標(biāo)包括分辨度、對比度、敏感度。優(yōu)秀的光刻膠必須具備高分辨度、高敏感度和高對比度，以保證能將精密的圖像從掩模版轉(zhuǎn)移到硅片上。另外，光刻膠的技術(shù)要求高，所有的技術(shù)指標(biāo)都必須達(dá)標(biāo)，因此除上述三個硬性指標(biāo)外，好的光刻膠還必須具有強蝕刻阻抗性、高純度、低溶解度、高粘附性、小的表面張

18、力、低成本、長壽命周期以及較高的玻璃化轉(zhuǎn)換溫度。光刻膠有以下主要技術(shù)參數(shù)：表 4：光刻膠主要技術(shù)參數(shù)技術(shù)參數(shù)簡介分辨率指光刻膠可再現(xiàn)圖形的最小尺寸一般用關(guān)鍵尺寸（CD，Critical Dimension）來衡量分辨率形成的關(guān)鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好對比度指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過渡的陡度對比度越好，形成圖形的側(cè)壁越陡峭，分辨率越好敏感度光刻膠上產(chǎn)生一個良好的圖形所需一定波長光的最小能量值（或最小曝光量）單位：毫焦/平方厘米 mJ/cm2光刻膠的敏感性對于波長更短的深紫外光（DUV）、極深紫外光（EUV）尤為重要粘滯性/黏度衡量光刻膠流動特性的參數(shù)，光刻膠中的溶劑揮發(fā)會使粘滯性增加高的

19、粘滯性會產(chǎn)生厚的光刻膠，小的粘滯性帶來均勻的光刻膠厚度粘附性指光刻膠與晶圓之間的粘著強度，光刻膠的粘附性不足會導(dǎo)致硅片表面的圖形變形抗蝕性光刻膠黏膜必須保持它的粘附性，并在后續(xù)的濕刻和干刻中保護(hù)襯體表面，這種性質(zhì)被稱為抗蝕性表面張力液體中將表面分子拉向液體主體內(nèi)的分子間的吸引力光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋能力資料來源：IC 智庫，汶顥股份， 光刻膠應(yīng)用領(lǐng)域?qū)掗?，半?dǎo)體光刻膠尤為重要光刻膠經(jīng)過幾十年不斷的發(fā)展和進(jìn)步，應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴大。在光刻膠不斷發(fā)展進(jìn)步的過程中，衍生出非常多的種類，按照應(yīng)用領(lǐng)域不同，光刻膠可以劃分為半導(dǎo)體用光刻膠、液晶顯示(LCD)用光刻膠、印

20、刷電路板(PCB)用光刻膠、其他用途光刻膠。其中，PCB 光刻膠壁壘相對較低，而半導(dǎo)體光刻膠代表著光刻膠技術(shù)最先進(jìn)水平。表 5：光刻膠按下游應(yīng)用分類主要類型細(xì)分分類半導(dǎo)體用光刻膠g 線光刻膠、i 線光刻膠、KrF 光刻膠、ArF 光刻膠等LCD 光刻膠彩色光刻膠、黑色光刻膠、LCD/TP 襯墊料光刻膠、TFT-LCD 中 Array 用光刻膠等PCB 光刻膠干膜光刻膠、濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨等資料來源：晶瑞股份招股說明書， 半導(dǎo)體光刻膠半導(dǎo)體光刻膠根據(jù)曝光光源波長的不同來分類。常用曝光光源一共有六種，分別是紫外全譜（300450nm）、 G 線（436nm）、I 線（365nm）、深紫外（

21、DUV，包括 248nm 和 193nm）和極紫外（EUV），相對應(yīng)于各曝光波長的光刻膠也應(yīng)運而生。不同的光刻膠中，根據(jù)不同的需求，關(guān)鍵配方成份如成膜樹脂、光引發(fā)劑、添加劑等也有所不同，使得光刻膠有不同的性能，進(jìn)而能夠滿足相應(yīng)的需求。目前主要的光刻膠有 G 線光刻膠、I 線光刻膠、KrF 光刻膠和 ArF 光刻膠四種，其基本信息如下所示。表 6：半導(dǎo)體光刻膠類型光刻膠種類曝光光源作用光刻膠類型主要原料G 線光刻膠436nm G 線制作 0.5m 以上的集成電路以正膠為主酚醛樹脂和重氮萘醌化合物I 線光刻膠365nm I 線制作 0.5-0.35m 的集成電路以正膠為主酚醛樹脂和重氮萘醌化合物K

22、rF 線光刻膠248nmKrF激光光源制作 0.25-0.15m 的集成電路正膠負(fù)膠都有聚對羥基苯乙烯及其衍生物和光致產(chǎn)酸劑ArF 線光刻膠193nmArF激光光源ArF 干法制作 65-130nm 的 IC，ArF 浸濕法對應(yīng) 45nm 以下 IC正膠聚脂環(huán)族丙烯酸酯及其共聚物和光致產(chǎn)酸劑資料來源：IC 智庫， 為滿足更高集成度更精密的集成電路制造，必須采用更短波長的光源，半導(dǎo)體光刻膠也需做出適應(yīng)性改變。隨著 IC 集成度的提高，世界集成電路的制程工藝水平已由微米級、亞微米級、深亞微米級進(jìn)入到納米級階段。光的波長對圖形精細(xì)化轉(zhuǎn)移有著至關(guān)重要的作用，因為它會影響感光材料分辨率。波長越短，則分辨

23、率越高。為適應(yīng)集成電路線寬不斷縮小的要求，光刻膠的波長由紫外寬譜向 G 線(436nm)I 線(365nm)KrF(248nm) ArF(193nm)F2(157nm)EUV（64G技術(shù)/m1.20.80.50.350.250.180.130.10.07適用的光刻技術(shù)G 線G 線G 線、I 線、KrFG 線、I 線KrFI 線、KrFKrFArF+RET、F2+RET 、KrF+RET、F2、PXL、EPL EUVArFIPLIPL EBOW表 7：IC 集成度與光刻技術(shù)發(fā)展歷程、注：ArF 193nm 光刻技術(shù)PXL 近 X-射線技術(shù)G 線 436nm 光刻技術(shù)F2 157nm 光刻技術(shù)IP

24、L 離子投影技術(shù)I 線 365nm 光刻技術(shù)RET 光網(wǎng)增強技術(shù)EUV 超紫外線技術(shù)KrF 248nm 光刻技術(shù)EPL 電子投影技術(shù)EBOW 電子書直寫技術(shù)資料來源：晶瑞股份招股說明書， 圖 8：各類光刻膠市場份額占比圖 9：各類半導(dǎo)體用光刻膠市場份額占比半導(dǎo)體光刻膠LCD光刻膠PCB光刻膠其他G線&I線光刻膠KrF光刻膠ArF光刻膠其他25%24%24%27%12%24%42%22%資料來源：美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會， 資料來源：IC 智庫， LCD 光刻膠在 LCD 面板制造領(lǐng)域，光刻膠也是極其關(guān)鍵的材料。根據(jù)使用對象不同，可分為 RGB 膠（彩色膠）、BM膠（黑色膠）、OC 膠、PS 膠、TF

25、T 膠等。光刻工藝包含表面準(zhǔn)備、涂覆光刻膠、前烘、對準(zhǔn)曝光、顯影、堅膜、顯影檢查、刻蝕、剝離、最終檢查等步驟，以實現(xiàn)圖形復(fù)制轉(zhuǎn)移，制造特定微結(jié)構(gòu)。下面通過彩色 LCD 面板的顯示原理來說明 LCD 光刻膠在 LCD 屏中是如何應(yīng)用的。由于 LCD 是非主動發(fā)光器件，因此其色彩顯示必須由本身的背光系統(tǒng)或外部的環(huán)境光提供光源，通過驅(qū)動器與控制器形成灰階顯示，再利用彩色濾光片產(chǎn)生紅、綠、藍(lán)三基色，依據(jù)混色原理形成彩色顯示畫面。然而，彩色濾光片的產(chǎn)生，必須由光刻膠來完成。彩色濾光片是由玻璃基板、黑色矩陣、顏色層、保護(hù)層及 ITO 導(dǎo)電膜構(gòu)成。其中，顏色層（Color）主要由三原色光刻膠分別經(jīng)涂布、曝光

26、、顯影形成，是彩色濾光片最主要的部分。黑色矩陣（Black Matrix，簡稱 BM）是由黑色光刻膠作用形成的模型，作用為防止漏光。光刻膠質(zhì)量的好壞將直接影響到濾光片的顯色性能。除了彩色光刻膠和黑色光刻膠之外，TFT Array 正性光刻膠也非常重要，其主要用于TFT-LCD 制程中的Array段，主導(dǎo) TFT 設(shè)計的圖形轉(zhuǎn)移，其解析度、熱穩(wěn)定性、剝膜性、抗蝕刻能力都優(yōu)于負(fù)性光刻膠。目前 LCD 光刻膠市場基本被日韓公司所占領(lǐng)。平板顯示器領(lǐng)域，TFT-LCD（薄膜晶體管液晶顯示器）是市場的主流，彩色濾光片是 TFT-LCD 實現(xiàn)彩色顯示的關(guān)鍵器件，占面板成本的 15%左右；彩色光刻膠和黑色光刻

27、膠是制備彩色濾光片的核心材料，占彩色濾光片成本的 27%左右。TFT-LCD 用光刻膠技術(shù)壁壘較高，市場基本被如 JSR、住友化學(xué)、三菱化學(xué)等日韓公司占領(lǐng)，占有率可達(dá) 90%。PCB 光刻膠PCB 光刻膠是 PCB 制造過程的關(guān)鍵材料。PCB 光刻膠主要分為干膜光刻膠、濕膜光刻膠和阻焊油墨。其中,干膜光刻膠被廣泛應(yīng)用在 PCB 制造過程中。干膜光刻膠作用原理如下所述：在加熱加壓的條件下將干膜光刻膠壓合在覆銅板上，通過曝光、顯影將底片(掩膜板或陰圖底版)上的電路圖形復(fù)制到干膜光刻膠上，再利用干膜光刻膠的抗蝕刻性能，對覆銅板進(jìn)行蝕刻加工，最終形成印制電路板的精細(xì)銅線路。PCB 光刻膠面臨產(chǎn)品結(jié)構(gòu)調(diào)

28、整，需求不斷增大。PCB 光刻膠行業(yè)不斷面臨技術(shù)提升和產(chǎn)品升級，濕膜光刻膠分辨率高于干膜，價格更低廉，正在對干膜光刻膠的部分市場進(jìn)行替代。根據(jù)輻射固化委員會的數(shù)據(jù)，2013年我國濕膜光刻膠的應(yīng)用比例為 35%，需求量為 3.2 萬噸。該委員會進(jìn)一步預(yù)測，我國濕膜光刻膠需求增速將達(dá)到 6%，2017 年我國濕膜光刻膠的需求量達(dá)到 4.1 萬噸。根據(jù)容大感光招股說明書，PCB 光刻膠平均銷售單價約為 3.2 萬元/噸（不含稅），測算 2017 年中國濕膜光刻膠市場規(guī)模達(dá)到 15 億元。中國己成為全球最大的 PCB 光刻膠生產(chǎn)基地，內(nèi)資企業(yè)崛起。隨著 PCB 光刻膠外企東移和內(nèi)資企業(yè)的不斷發(fā)展，20

29、15 年我國 PCB 光刻膠產(chǎn)值達(dá) 12.6 億美元，占全球市場份額高達(dá) 70%。根據(jù)容大感光招股書，包括容大感光、廣信材料、東方材料、北京力拓達(dá)等在內(nèi)的內(nèi)資企業(yè)占據(jù)國內(nèi) 46%左右濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場份額。2015 年我國 PCB 光刻膠產(chǎn)值全球占比已超過我國 PCB 產(chǎn)值的全球占比，中國已從完全進(jìn)口 PCB光刻膠向 PCB 光刻膠出口大國的角色轉(zhuǎn)變。目前國內(nèi) PCB 光刻膠供給以在華外資企業(yè)為主，國產(chǎn)化逐步推進(jìn)。下游需求旺盛，光刻膠市場向好光刻膠市場前景向好，保持較好上升勢頭。在半導(dǎo)體、LCD、PCB 等需求持續(xù)擴大的拉動下，光刻膠市場將持續(xù)擴大。2018 年全球光刻膠市場規(guī)模為

30、 85 億美元，2014-2018 年復(fù)合增速約 5%。根據(jù) IHS 數(shù)據(jù)，未來光刻膠市場規(guī)模復(fù)合增速有望維持 5%。疊加光刻膠國產(chǎn)化趨勢，我們認(rèn)為本土光刻膠企業(yè)將充分受益。國內(nèi)光刻膠市場規(guī)模穩(wěn)定增長，從 2011 年到 2018 年復(fù)合增長率達(dá) 12%，2018 年國內(nèi)光刻膠市場規(guī)模約為 62.3 億元。在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，近年來全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模不斷擴大，并且隨著 5G 全面鋪開，物聯(lián)網(wǎng)和手機對芯片的需求持續(xù)增大，半導(dǎo)體光刻膠市場在未來也會穩(wěn)步上升。圖 10：全球光刻膠市場規(guī)模及增速圖 11：全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模及預(yù)測全球光刻膠市場規(guī)模增速億美元90807060504030201

31、00201420152016201720186%255%204%153%102%1%50%0全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模增速億美元2016 2017 2018 2019 2020E2021E2022E2023E12%10%8%6%4%2%0%資料來源：IHS， 資料來源：新材料在線， LCD 面板、PCB 市場增長進(jìn)一步拉動 LCD 和 PCB 光刻膠需求。在 LCD 光刻膠領(lǐng)域，隨著全球面板市場穩(wěn)步上升，產(chǎn)能向大陸轉(zhuǎn)移，催生 LCD 光刻膠需求增長。據(jù) IHS 2019 年 6 月發(fā)布的數(shù)據(jù)，2019 年全球 TFT-LCD和 OLED 整體平板顯示容量約為 3.34 億平方米，2023 年有望

32、上升至 3.75 億平方米，其中，TFT-LCD 面板市場容量約為 3.09 億平方米，未來需求將穩(wěn)步增長。而在 PCB 領(lǐng)域，長年以來，中國 PCB 產(chǎn)值增速持續(xù)領(lǐng)跑全球，全球市場份額不斷提升。根據(jù)預(yù)測，2015-2020 年中國 PCB 產(chǎn)值年復(fù)合增長率為 3.5%，2020 年中國 PCB 產(chǎn)值有望達(dá)到 311.0 億美元。受益于我國 PCB 產(chǎn)業(yè)景氣度持續(xù)，我國 PCB 光刻膠市場規(guī)模將穩(wěn)速增長。圖 12：中國光刻膠市場規(guī)模及增速圖 13：全球面板需求面積及增速70億元6050403020100中國光刻膠市場規(guī)模增速18%16%14%12%10%8%6%4%2%0%3002502001

33、50100500百萬平方米需求面積增速12%10%8%6%4%2%0%-2%2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 20182017 2018 2019 2020E 2021E 2022E 2023E資料來源：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院， 資料來源：IHS， 日韓美壟斷市場，光刻膠國產(chǎn)化迫在眉睫光刻膠市場遭日韓美公司壟斷光刻膠市場主要由日韓美公司壟斷，大陸企業(yè)市占率不足 10%。光刻膠屬于高技術(shù)壁壘材料，生產(chǎn)工藝復(fù)雜，純度要求高，需要長期積累。由于技術(shù)壁壘高并且要與光刻設(shè)備協(xié)同研發(fā)，光刻膠行業(yè)呈現(xiàn)寡頭競爭的格局。根據(jù)現(xiàn)代化工數(shù)據(jù)，目前全球前五大光刻膠廠商占據(jù)全球約 87%的市

34、場份額。其中，日本光刻膠公司龍頭領(lǐng)跑，日本 JSR、東京應(yīng)化、日本信越、富士電子材料市占率合計達(dá) 72%，大陸企業(yè)市場份額不足 10%。圖 14：全球光刻膠市場格局日本合成橡膠東京應(yīng)化羅門哈斯日本信越富士電子材料其他13%28%10%13%21%15%資料來源：現(xiàn)代化工， 半導(dǎo)體光刻膠市場被日本企業(yè)壟斷。目前，在全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，主要被日本合成橡膠（JSR）、東京應(yīng)化（TOK）、羅門哈斯、日本信越、富士材料等頭部廠商壟斷。其中，在高端半導(dǎo)體光刻膠市場上，全球的 EUV 和 ArF 光刻膠主要是 JSR、陶氏、信越化學(xué)等供應(yīng)商，份額最大的是 JSR、信越化學(xué)，TOK 也有研發(fā)。LCD 光刻膠

35、市場由日韓企業(yè)主導(dǎo)。全球 LCD 光刻膠市場，RGB 和 BM 光刻膠核心技術(shù)由日韓企業(yè)壟斷。 LCD 光刻膠的核心技術(shù)為高分子顏料的制備和生產(chǎn)，技術(shù)主要掌握在 Ciba 等日本顏料廠商手中。其中 RGB 光刻膠的主要生產(chǎn)商有 JSR、住友化學(xué)、三菱化學(xué)、LG 化學(xué)等；黑色光刻膠主要生產(chǎn)商有東京應(yīng)化、新日鐵化學(xué)、三菱化學(xué)、CHEIL、ADEKA 等，幾家占到全球總產(chǎn)量 90%；TFT Array 正性光刻膠供應(yīng)商主要有日本東京應(yīng)化（TOK）、美國羅門哈斯(Rohm&Haas)、德國默克公司、韓國 AZ、DONGJINSEMICHEM 和臺灣永光化學(xué)；OC光刻膠主要供應(yīng)商有 JSR、JNC、LG

36、C、三星、科隆等；PS 光刻膠主要有 JSR、CMC、三星、LGC、TNP 等。我國 PCB 光刻膠產(chǎn)值占全球市場七成，但多為外資企業(yè)在華建廠。2002 年起外企開始在華布局建廠，打破我國 PCB 光刻膠全部依賴進(jìn)口的局面。PCB 光刻膠應(yīng)用初期，市場集中度較高，供應(yīng)商多為日本、臺灣地區(qū)及歐美企業(yè)。2002 年以前，我國干膜光刻膠及光成像阻焊油墨完全依賴進(jìn)口，本土供給為零。此后，受益于 PCB行業(yè)在中國大陸高速發(fā)展，PCB 光刻膠龍頭如臺灣長興化學(xué)、日本旭化成、日本日立化成、美國杜邦等開始瞄準(zhǔn)中國大陸市場，陸續(xù)在內(nèi)地建廠。但是目前國內(nèi) PCB 光刻膠供給以在華外資企業(yè)為主，國產(chǎn)化推進(jìn)仍在繼續(xù)。

37、產(chǎn)業(yè)地位至關(guān)重要，光刻膠國產(chǎn)化勢在必行。參考 2019 年 7 月份日韓貿(mào)易沖突事件，日本在 2019 年 7 月日突然宣布限制向韓國出口包括光刻膠在內(nèi)的半導(dǎo)體材料。這三種原材料很難短時間在其他國家找到替代供應(yīng)商，但同時又是面板、存儲器生產(chǎn)中極其關(guān)鍵的材料，韓國面臨的窘迫處境使人深思，更應(yīng)該激發(fā)我國對光刻膠等關(guān)鍵原材料獨立自主開發(fā)的重要性的認(rèn)知。光刻膠技術(shù)在半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要，國產(chǎn)替代勢在必行。國產(chǎn)光刻膠技術(shù)遠(yuǎn)落后于國外我國光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展滯后于下游產(chǎn)業(yè)發(fā)展，與國外差距大。近幾年全球消費電子產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、光電產(chǎn)業(yè)向我國轉(zhuǎn)移的趨勢愈加明顯，隨著下游產(chǎn)品 PCB、LCD、半導(dǎo)體等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，

38、國內(nèi)市場對于 LCD、半導(dǎo)體的需求迅猛增加。但是，我國光刻膠行業(yè)起步時間較晚，應(yīng)用結(jié)構(gòu)較為單一，主要集中于 PCB 光刻膠。表 8：光刻膠企業(yè)材料量產(chǎn)與研發(fā)情況公司地區(qū)TFT-LCD厚膜膠i 線KrF（248nm）ArF（193nm）ArF immersionE-beamEUV合成橡膠日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)東京日化日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)Dow美國量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)信越化工日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)富士電子日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)住友化工日本量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)AZ美國量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)Dongjin韓國量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)Everlight中國臺灣量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)量產(chǎn)

39、研發(fā)北京科華中國量產(chǎn)研發(fā)量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)蘇州瑞紅中國量產(chǎn)量產(chǎn)研發(fā)資料來源：中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會， 國產(chǎn)光刻膠以 PCB 光刻膠為主，半導(dǎo)體和 LCD 光刻膠自給率極低，原材料依賴進(jìn)口。根據(jù)信越官網(wǎng)數(shù)據(jù)，國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值當(dāng)中，PCB 光刻膠占比高達(dá) 95%，半導(dǎo)體光刻膠、LCD 光刻膠占比都僅有 2%。2015 年中國光刻膠行業(yè)前五大外資廠商市占率達(dá) 89.7%，分別為臺灣長興化學(xué)、日立化成、日本旭化成、美國杜邦、臺灣長春化工。相較之下，中國企業(yè)份額不足 10%，半導(dǎo)體光刻膠和 LCD 光刻膠都嚴(yán)重依賴進(jìn)口。雖然目前光刻膠的國產(chǎn)化正在加速，但半導(dǎo)體和 LCD 高端光刻膠與國外有較大差距。并且，國產(chǎn)光刻膠

40、很多原材料也依賴于進(jìn)口。圖 15：國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值份額PCB光刻膠半導(dǎo)體光刻膠LCD光刻膠其他2%1%2%95%資料來源：新材料在線， 行業(yè)深度研究報告多因素導(dǎo)致我國半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)落后于國外水平半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)差距明顯，造成與國際先進(jìn)水平差距的原因很多。過去由于我國在規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上，布局不合理、不完整，特別是重生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資，而忽視了最重要的基礎(chǔ)材料、設(shè)備與應(yīng)用研究。相比之下，日本重視向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈縱深發(fā)展，積極研發(fā)光刻膠，全球前 10 名光刻膠企業(yè)中有 7 家來自日本，包括日立化成、東京應(yīng)化、三菱化學(xué)、旭化成、住友電木、住友化學(xué)、富士膠片，合占全球市場 60%以上份額。光刻膠成分

41、復(fù)雜、制備難度大，自主研發(fā)難度高。光刻膠的研發(fā)關(guān)鍵在于其成分復(fù)雜、工藝技術(shù)難以掌握。光刻膠成分有高分子樹脂、色漿、單體、感光引發(fā)劑、溶劑、添加劑等，開發(fā)所涉及的技術(shù)難題眾多，需從低聚物結(jié)構(gòu)設(shè)計和篩選、合成工藝的確定和優(yōu)化、活性單體的篩選和控制、色漿細(xì)度控制和穩(wěn)定、產(chǎn)品配方設(shè)計和優(yōu)化、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝優(yōu)化和穩(wěn)定、使用條件匹配和寬容度調(diào)整等方面調(diào)整，自主研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)難度非常之高。光刻膠質(zhì)量依賴于上游原材料，但高端光刻膠原材料被高度壟斷。光刻膠的上游包括基礎(chǔ)化工材料和精細(xì)化學(xué)品行業(yè)。目前國內(nèi)廠家更多掌握的是低端光刻膠，如 PCB 光刻膠，但 193nm（ArF）等高端光刻膠所需的精細(xì)化學(xué)品短時間內(nèi)不能自

42、給自足，例如樹脂。由于高端光刻膠所需的原材料仍被國際廠商高度壟斷，我國只能進(jìn)口，國內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)在啟動 ArF 光刻膠項目時，仍需要承受原材料被封鎖的風(fēng)險。分析發(fā)現(xiàn)，國際光刻膠龍頭的商業(yè)模式都是在發(fā)展光刻膠產(chǎn)品的同時，向上游原材料領(lǐng)域拓展，已基本能做到光刻膠生產(chǎn)自給自足，其最終目的是通過覆蓋更全面的產(chǎn)業(yè)鏈降低被他國封鎖和制裁的風(fēng)險。目前國內(nèi)廠商也在考慮更加周密謹(jǐn)慎的商業(yè)模式，例如上海新陽選擇與合作伙伴同時開發(fā)關(guān)鍵原材料以確保 ArF 項目的原材料供應(yīng)不至于斷裂。下游廠商對光刻膠選擇謹(jǐn)慎保守，后發(fā)廠商切入供應(yīng)鏈有一定難度。光刻膠壁壘高并且對后續(xù)質(zhì)量保障要求很高，雖然在集成電路制造中光刻成本不高

43、，但其耗費時間可長達(dá)整個制造過程的 40%-50%，足見光刻的技術(shù)難度以及對后續(xù)質(zhì)量保障的重要程度，這導(dǎo)致下游廠商在使用光刻膠時非常謹(jǐn)慎。考慮到光刻膠的質(zhì)量不好會導(dǎo)致后續(xù)生產(chǎn)質(zhì)量被嚴(yán)重影響，即使對高端光刻膠有著高需求，客戶也更愿意選擇高質(zhì)量低風(fēng)險的外商而不愿切換為新興的國產(chǎn)品牌。即使切換，由于下游廠商對光刻膠驗證周期長、過程不確定性大，一經(jīng)合作成功，通常將不再輕易更換新廠家，這極可能造成光刻膠市場先行者為大，后來者很難切入供應(yīng)鏈的情況。因此，光刻膠國產(chǎn)替代面臨外憂內(nèi)患的局面，即國產(chǎn)廠家對外需要對抗實力強勁的外商，對內(nèi)要應(yīng)對殘酷的市場競爭。國產(chǎn)光刻膠雖有突破，但離穩(wěn)定商用仍有距離。我國化工原料品

44、種齊全，可為光刻膠產(chǎn)業(yè)提供充足和價格低廉的基礎(chǔ)原料，但由于資金和技術(shù)差距，光刻膠原料如引發(fā)劑、增感樹脂等被外資壟斷。近年來，盡管光刻膠研發(fā)有了一定突破，但國產(chǎn)光刻膠距離商用仍有很長的路要走。目前，國外阻抗已達(dá)到 15 次方以上，而國內(nèi)企業(yè)只能做到 10 次方，難以滿足客戶的產(chǎn)品要求。即使有的產(chǎn)品工藝達(dá)標(biāo)了，批次穩(wěn)定性也不好。圖 16：全球半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)規(guī)模及增長率（億美元）圖 17：中國半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)規(guī)模及增長率（億元）資料來源：Wind， 資料來源：Wind， 光刻膠國產(chǎn)化進(jìn)程加速國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)尚不成熟，但已奮起直追。國內(nèi)光刻膠生產(chǎn)商主要生產(chǎn) PCB 光刻膠，半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠生產(chǎn)規(guī)模

45、相對較小。我國光刻膠生產(chǎn)企業(yè)包括：蘇州瑞紅、北京科華、濰坊星泰克、永太科技、容大感光、飛凱材料、南大光電、上海新陽等。其中，北京科華承擔(dān)了 KrF(248nm)光刻膠產(chǎn)業(yè)化課題，目前已完成年產(chǎn)能 10 噸 248nm KrF 光刻膠生產(chǎn)線建設(shè)，193nm ArF 干法光刻膠中試產(chǎn)品也已完成在國內(nèi)一流集成電路制造企業(yè)的測試。南大光電已設(shè)立光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進(jìn)“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”落地實施。目前南大廣電的第一條 ArF 產(chǎn)線已完成安裝，正處于調(diào)試階段。表 9：光刻膠國產(chǎn)化情況主要類型細(xì)分類型國內(nèi)規(guī)模（億元）年增速國產(chǎn)化進(jìn)程半導(dǎo)體光刻膠g/

46、i 線光刻膠2約 15%自給率 10%，北京科華 2000 萬元銷售，其余來自臺灣和日本。晶瑞股份目前不到百萬元銷售KrF/ArF 光刻膠(248/193nm)5約 20%幾乎全部進(jìn)口，國內(nèi)北京科華 248nm 通過中芯國際認(rèn)證，其他處于研發(fā)階段，193nm 僅有北京科華立項LCD 光刻膠LCD 觸摸屏用光刻膠1.1-1.510%蘇州瑞紅（晶瑞股份子公司）占 30%-40%，其他：臺灣新應(yīng)材及臺灣凱陽TFT 正性光刻膠5-610%飛凱材料產(chǎn)能在建階段LED 光刻膠寬譜 g/i/h 線(365/405/433nm)2-30.25大部分靠進(jìn)口，國內(nèi)自由基引發(fā)劑以久日新材為主，陽離子引發(fā)劑銷售以強力

47、新材為主硫化橡膠類光刻膠0.310-15%用于 4-5 寸分立器件，北京科華占 40%，蘇州瑞紅占 60%PCB 光刻膠干膜光刻膠32.17-8%容大感光、廣信材料、田菱化工、東方材料、北京力拓達(dá)等內(nèi)資企業(yè)占據(jù)國內(nèi) 46%左右濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場份額濕膜光刻膠205-6%光固化阻焊油墨17.27-9%彩色和黑色光刻膠50.1幾乎進(jìn)口，國內(nèi)永太科技處于項目建設(shè)階段資料來源：中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會， 我國素來大力支持半導(dǎo)體發(fā)展，戰(zhàn)略規(guī)劃和財政扶持文件發(fā)布頻繁。為了應(yīng)對中美半導(dǎo)體爭端，扶持國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，從 2000 年夏天發(fā)布的18 號文件（又稱鼓勵軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策）

48、開始，國家就通過發(fā)布各種政策來支持國內(nèi)廠商發(fā)展。這些政策通過減稅、補貼等方式幫助國產(chǎn)廠商在與美日韓臺廠商的競爭中獲得了部分價格優(yōu)勢。從 2016 年起，相關(guān)半導(dǎo)體扶持政策更是密集出臺。在光刻膠領(lǐng)域，政策紅利同樣是巨大的，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)錯綜復(fù)雜，環(huán)環(huán)相扣，國產(chǎn)廠商也在可承受范圍內(nèi)試圖擴大對國產(chǎn)光刻膠的使用程度。中國制造 2025中提出要穩(wěn)步加強對集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，而國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要中更是明確提出了推動集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的四大任務(wù)，其中之一就是突破集成電路關(guān)鍵裝備和材料，以減少海外廠商對行業(yè)發(fā)展的壟斷，增強半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體配套能力。其中，光刻膠和光刻機是集成電路發(fā)展戰(zhàn)略中不可或缺的重要配套。

49、光刻膠領(lǐng)域重點海外公司光刻膠海外五龍頭具有豐富的電子材料產(chǎn)品線，全產(chǎn)業(yè)覆蓋能力至關(guān)重要。五家頭部公司壟斷光刻膠約 90%市場份額，使得光刻膠市場頭部集中化明顯。五家頭部公司重視將光刻膠上游精細(xì)化學(xué)品納入業(yè)務(wù)范圍，以減少原材料來源被封鎖的風(fēng)險。由于日本掌握了光刻膠開發(fā)技術(shù)，而高技術(shù)壁壘使得這種情況在短時間內(nèi)很難發(fā)生逆轉(zhuǎn)，因此主要市場份額掌握在日本手中。分析發(fā)現(xiàn)，五家公司在光刻膠領(lǐng)域各有優(yōu)勢，但其中有四家并非一開始就以光刻膠為目標(biāo)產(chǎn)品，且都有非常豐富而分散的產(chǎn)品線。僅東京應(yīng)化一家以光刻膠技術(shù)為戰(zhàn)略切入點獲取巨大市場份額，但此后該公司同樣開始發(fā)展豐富的電子產(chǎn)品線，從中可窺見這些電子材料巨頭的經(jīng)營模式

50、都是試圖成為有能力覆蓋半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)，以分散微電子材料生產(chǎn)的風(fēng)險。表 10：海外光刻膠龍頭公司公司業(yè)務(wù)概況合成橡膠日本合成橡膠公司又稱 JSR，成立之初是為了實現(xiàn)日本合成橡膠的國產(chǎn)化，但開始涉獵半導(dǎo)體制造和光學(xué)材料制造領(lǐng)域，現(xiàn)已成為全球最大的光刻膠生產(chǎn)廠商，高度滲透歐洲、北美、韓國、中國市場。東京應(yīng)化東京應(yīng)化簡稱 TOK，通過率先開發(fā) ArF 液浸技術(shù)獲取了市場占有率，其“光刻膠百貨商品”一樣的豐富產(chǎn)品線同樣奠定了它在業(yè)界的地位。光刻技術(shù)是東京應(yīng)化的核心技術(shù)，主要應(yīng)用于 IC 和 LSI 等半導(dǎo)體以及液晶顯示器。其業(yè)務(wù)領(lǐng)域還包括半導(dǎo)體制造、封裝、3D 包裝等。信越化工信越化工是全球最大的有

51、機硅供應(yīng)商，芯片商中的巨頭。其在日本極為低調(diào)，但在光刻膠領(lǐng)域布局了大量的專利，范圍覆蓋了曝光應(yīng)用、光源、光罩、圖形形成等。作為大型綜合的化工類公司，其產(chǎn)品線十分豐富全能，包括新功能材料、磁性材料、高分子材料等。在光刻膠領(lǐng)域信越化工掌握了高端光刻膠技術(shù)，有能力提供 ArF 和 KrF 等光刻膠產(chǎn)品。羅門哈斯羅門哈斯公司美國最大的精細(xì)化工公司，以樹脂材料聞名于世。羅門哈斯于 2009 年被美國陶氏化學(xué)成功收購，以此為契機，兩家公司強化了在電子材料等精細(xì)化工細(xì)分市場的業(yè)務(wù)，比如光刻膠業(yè)務(wù)。2015 年，陶氏化學(xué)與美國杜邦合并，光刻膠事業(yè)部并入杜邦公司。富士電子材料富士膠片株式會社成立之初主要經(jīng)營業(yè)務(wù)

52、為感光材料，此后進(jìn)行了大量的業(yè)務(wù)轉(zhuǎn)移，其旗下的電子材料業(yè)務(wù)群組包括了尖端光刻膠，且為營收的上漲做出了貢獻(xiàn)。如今富士電子材料已經(jīng)成為世界一流的微電子材料公司，其光刻膠相關(guān)專利公開數(shù)位列五家龍頭公司之首。資料來源：公司官網(wǎng)綜合整理， 圖 18：全球光刻膠市場結(jié)構(gòu)圖 19：i/g 型光刻膠市場結(jié)構(gòu)日本合成橡膠東京應(yīng)化羅門哈斯 日本信越富士電子材料其他13%28%10%13%21%15%資料來源：美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會， 資料來源：上海新陽， 合成橡膠全球第一的光刻膠龍頭JSR 株式會社為全球第一光刻膠生產(chǎn)廠商，占據(jù)全球光刻膠市場 28%的份額，其光刻膠產(chǎn)品主要應(yīng)用于半導(dǎo)體及顯示行業(yè)。該公司成立于 195

53、7 年 12 月，在日本率先開發(fā)出合成橡膠。自 1969 年轉(zhuǎn)變?yōu)樗饺斯疽詠恚?JSR 已將其石油化工業(yè)務(wù)從合成橡膠擴展到包括乳液、塑料和其他材料在內(nèi)的更廣的范圍，并增加了半導(dǎo)體、平板顯示器等業(yè)務(wù)領(lǐng)域。在成立的第 40 年時將公司名稱更改為 JSR Corporation。截至 2018 年 12 月 31 日 JSR株式營業(yè)收入達(dá)到 302 億元，實現(xiàn)的凈利潤為 19 億元。表 11：JSR 業(yè)務(wù)詳細(xì)分類業(yè)務(wù)分類主要產(chǎn)品具體產(chǎn)品彈性體業(yè)務(wù)合成橡膠合成橡膠，如苯乙烯-丁二烯橡膠，聚丁二烯橡膠，乙丙丙烯橡膠等以及復(fù)合產(chǎn)品熱塑性彈性體熱塑性彈性體和復(fù)合產(chǎn)品乳狀液紙涂料乳膠，苯乙烯丁二烯乳膠，丙烯

54、酸乳液高性能化學(xué)品有機/無機混合涂料，高功能分散劑，工業(yè)顆粒，熱控制材料，鋰離子電池的粘結(jié)劑材料等其他丁二烯單體等塑料業(yè)務(wù)樹脂ABS，AES，AS 和 ASA 樹脂數(shù)字解決方案業(yè)務(wù)半導(dǎo)體材料光刻材料（光刻膠，多層材料），CMP 材料（漿料，清洗液），包裝材料等顯示材料LCD 面板材料，其他功能涂料等邊緣計算相關(guān)項目耐熱透明樹脂和薄膜，高性能紫外線可固化樹脂，立體光刻系統(tǒng)等生命科學(xué)業(yè)務(wù)生物材料及試劑診斷/研究試劑材料，生物工藝材料，生物工藝開發(fā)，生物制藥合同制造，支持臨床前階段藥物開發(fā)的服務(wù)等其他業(yè)務(wù)其他鋰離子電容器等資料來源：JSR 公司官網(wǎng)， JSR 緊跟半導(dǎo)體制程發(fā)展，提前布局 EUV 光

55、刻膠。EUV，全稱是 Extreme Ultraviolet Lithography，主要利用波長為 10-14nm 的極紫外光源實現(xiàn)光刻圖案化材料成為 EUV 光阻材料，具體為采用 14nm 光源的軟 X 射線。由于目前 JSR 公司已經(jīng)實現(xiàn) ArF 和 KrF 光刻膠的量產(chǎn)并已經(jīng)進(jìn)入相關(guān)先進(jìn)制程晶圓產(chǎn)線的范圍，因此，對于未來增量市場，JSR 公司主要布局 EUV 光刻膠材料在 10nm 及以下制程的應(yīng)用，特別是 7nm 制程的量產(chǎn)，此部分新增市場成為 JSR 關(guān)注的重點。目前由于全球范圍內(nèi) EUV 光刻膠均處于技術(shù)儲備和升級階段，因此前沿的 EUV產(chǎn)品，高端的制程技術(shù)成為此領(lǐng)域的核心競爭優(yōu)

56、勢。JSR 產(chǎn)品中展示了當(dāng)光阻厚度為 25nm，L/S 窗口為 13nm，線寬粗糙度（line width roughness, LWR）為 4.5nm 的 EUV 光刻膠產(chǎn)品曝光后效果，采用的光源為 NXE3300B。JSR 成立光刻膠制備和認(rèn)證中心為 EUV 光刻膠制備做好了準(zhǔn)備。2017 年 3 月份，由 JSR 株式會社和 IMEC（Intelligent Machinery Expert Control）微電子研究所共同成立的 EUV 光刻膠制備和認(rèn)證中心（EUV RMQC）在比利時成立，可以為半導(dǎo)體行業(yè)制造和控制 EUV 光刻膠。根據(jù) JSR 披露信息，在 14nm 和 16nm

57、制程中還有部分剩余的市場份額，JSR 目標(biāo)是確保下一代 10nm 及以下制程中 EUV 光刻膠的產(chǎn)業(yè)化，同時 JSR 公司尋求成為對于 7nm 以下的 EUV 光刻膠第一個實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的供應(yīng)商。行業(yè)深度研究報告東京應(yīng)化產(chǎn)品豐富的光刻膠領(lǐng)導(dǎo)者東京應(yīng)化（TOK）歷史悠久，在全球光刻膠領(lǐng)域具有領(lǐng)導(dǎo)地位。東京應(yīng)化株式會社 1940 年由東京應(yīng)化研究所改組而來，發(fā)展至今已有 80 年，企業(yè)歷史悠久。東京應(yīng)化很早便進(jìn)入光刻膠市場，1968 年，東京應(yīng)化便研發(fā)出半導(dǎo)體用正膠，隨后在 1972 年又研發(fā)出半導(dǎo)體用負(fù)膠。同時東京應(yīng)化憑借持續(xù)的技術(shù)突破逐步發(fā)展成為全球光刻膠領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)之一。2006 年東京應(yīng)化率

58、先展開 ArF 浸沒光刻膠的研發(fā)，2019 年東京應(yīng)化同樣是引領(lǐng) 10nm 以下制程工藝的極紫外光（EUV）光刻膠研發(fā)的企業(yè)之一。目前東京應(yīng)化在全球光刻膠市場中占有 21%的份額，僅次于日本合成橡膠（JSR）。在光刻膠細(xì)分市場中，東京應(yīng)化是全球最大的 i/g 型光刻膠供應(yīng)商，占有 25.9%的市場份額；同時也是最大的 KrF 型光刻膠供應(yīng)商，占有 34%的市場份額；是全球第三大的 ArF 型光刻膠供應(yīng)商，占有 20.3%的市場份額，僅次于日本合成橡膠和信越化工。圖 20：東京應(yīng)化發(fā)展歷程資料來源：公司官網(wǎng)， 圖 21：KrF 光刻膠市場結(jié)構(gòu)圖 22：ArF 光刻膠市場結(jié)構(gòu)資料來源：上海新陽，

59、資料來源：上海新陽， 東京應(yīng)化依靠先進(jìn)的產(chǎn)品及豐富的產(chǎn)品線構(gòu)筑競爭壁壘。經(jīng)過多年的技術(shù)積累和技術(shù)突破，東京應(yīng)化的先進(jìn)光刻膠產(chǎn)光刻膠產(chǎn)品涵蓋了包括 i/g 線光刻膠、KrF/ArF 光刻膠、EUV 光刻膠、電子束光刻膠在內(nèi)的從中低端到高端的所有應(yīng)用類型，同時東京應(yīng)化還提供用于光刻的其他的輔助性材料，如層間絕緣膜、擴散劑、液體顯影劑、反提取劑等。行業(yè)深度研究報告應(yīng)用領(lǐng)域產(chǎn)品類型產(chǎn)品類別產(chǎn)品及型號半導(dǎo)體制造光刻膠橡膠型負(fù)光刻膠、g 線光刻膠、i 線光刻膠、KrF 光刻膠、ArF 光刻膠、ArF 液浸用光刻膠、EUV 光刻膠、電子束光刻膠光刻相關(guān)材料層間絕緣膜、擴散劑、收縮制備材料、保護(hù)膜材料、自組織

60、材料其他液體顯影劑、反提取劑、稀釋劑涂層設(shè)備CS 系列 100/125/150/200/300mmSOD 光刻膠勻膠機 75/100/125/200mm顯影設(shè)備CSH 系列 100/125/150/200mm設(shè)備真空 UV 淬火設(shè)備TVC-8000 系列 100/125/150/200mm化學(xué)制劑供給設(shè)備顯影液自動稀釋供給裝置 TAS-1000、顯影液自動調(diào)整供給裝置 TADR-2000、化學(xué)制劑自動供給裝置 OS半導(dǎo)體封裝MEMS 制造材料半導(dǎo)體封裝材料Cu、Ni、SnAg、Pd 電解電鍍用光阻；電鍍用光阻；TAB/COF、FPC 工藝蝕刻光阻；深挖 Si 蝕刻光阻；lift-off 工藝用