三明機械設(shè)備項目可行性研究報告（范文）

1、泓域咨詢/三明機械設(shè)備項目可行性研究報告三明機械設(shè)備項目可行性研究報告xx（集團）有限公司目錄 TOC o 1-3 h z u HYPERLINK l _Toc108523261 第一章 項目背景及必要性 PAGEREF _Toc108523261 h 8 HYPERLINK l _Toc108523262 一、 原子層刻蝕為未來技術(shù)發(fā)展方向 PAGEREF _Toc108523262 h 8 HYPERLINK l _Toc108523263 二、 干法刻蝕是芯片制造的主流技術(shù) PAGEREF _Toc108523263 h 11 HYPERLINK l _Toc108523264 三、 高

2、密度等離子體刻蝕 PAGEREF _Toc108523264 h 12 HYPERLINK l _Toc108523265 四、 深化區(qū)域協(xié)作和對外開 PAGEREF _Toc108523265 h 14 HYPERLINK l _Toc108523266 第二章 項目投資主體概況 PAGEREF _Toc108523266 h 16 HYPERLINK l _Toc108523267 一、 公司基本信息 PAGEREF _Toc108523267 h 16 HYPERLINK l _Toc108523268 二、 公司簡介 PAGEREF _Toc108523268 h 16 HYPERLI

3、NK l _Toc108523269 三、 公司競爭優(yōu)勢 PAGEREF _Toc108523269 h 17 HYPERLINK l _Toc108523270 四、 公司主要財務(wù)數(shù)據(jù) PAGEREF _Toc108523270 h 18 HYPERLINK l _Toc108523271 公司合并資產(chǎn)負債表主要數(shù)據(jù) PAGEREF _Toc108523271 h 18 HYPERLINK l _Toc108523272 公司合并利潤表主要數(shù)據(jù) PAGEREF _Toc108523272 h 19 HYPERLINK l _Toc108523273 五、 核心人員介紹 PAGEREF _To

4、c108523273 h 19 HYPERLINK l _Toc108523274 六、 經(jīng)營宗旨 PAGEREF _Toc108523274 h 21 HYPERLINK l _Toc108523275 七、 公司發(fā)展規(guī)劃 PAGEREF _Toc108523275 h 21 HYPERLINK l _Toc108523276 第三章 行業(yè)、市場分析 PAGEREF _Toc108523276 h 23 HYPERLINK l _Toc108523277 一、 反應(yīng)離子刻蝕 PAGEREF _Toc108523277 h 23 HYPERLINK l _Toc108523278 二、 離子束

5、刻蝕 PAGEREF _Toc108523278 h 23 HYPERLINK l _Toc108523279 第四章 項目基本情況 PAGEREF _Toc108523279 h 25 HYPERLINK l _Toc108523280 一、 項目名稱及項目單位 PAGEREF _Toc108523280 h 25 HYPERLINK l _Toc108523281 二、 項目建設(shè)地點 PAGEREF _Toc108523281 h 25 HYPERLINK l _Toc108523282 三、 可行性研究范圍 PAGEREF _Toc108523282 h 25 HYPERLINK l _

6、Toc108523283 四、 編制依據(jù)和技術(shù)原則 PAGEREF _Toc108523283 h 26 HYPERLINK l _Toc108523284 五、 建設(shè)背景、規(guī)模 PAGEREF _Toc108523284 h 27 HYPERLINK l _Toc108523285 六、 項目建設(shè)進度 PAGEREF _Toc108523285 h 27 HYPERLINK l _Toc108523286 七、 環(huán)境影響 PAGEREF _Toc108523286 h 27 HYPERLINK l _Toc108523287 八、 建設(shè)投資估算 PAGEREF _Toc108523287 h

7、 28 HYPERLINK l _Toc108523288 九、 項目主要技術(shù)經(jīng)濟指標 PAGEREF _Toc108523288 h 28 HYPERLINK l _Toc108523289 主要經(jīng)濟指標一覽表 PAGEREF _Toc108523289 h 29 HYPERLINK l _Toc108523290 十、 主要結(jié)論及建議 PAGEREF _Toc108523290 h 30 HYPERLINK l _Toc108523291 第五章 項目選址 PAGEREF _Toc108523291 h 31 HYPERLINK l _Toc108523292 一、 項目選址原則 PAGE

8、REF _Toc108523292 h 31 HYPERLINK l _Toc108523293 二、 建設(shè)區(qū)基本情況 PAGEREF _Toc108523293 h 31 HYPERLINK l _Toc108523294 三、 堅持創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展，建設(shè)創(chuàng)新型城市 PAGEREF _Toc108523294 h 34 HYPERLINK l _Toc108523295 四、 推動產(chǎn)業(yè)優(yōu)化升級，加快構(gòu)建現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)體系 PAGEREF _Toc108523295 h 36 HYPERLINK l _Toc108523296 五、 項目選址綜合評價 PAGEREF _Toc108523296 h 39

9、 HYPERLINK l _Toc108523297 第六章 建筑工程方案分析 PAGEREF _Toc108523297 h 40 HYPERLINK l _Toc108523298 一、 項目工程設(shè)計總體要求 PAGEREF _Toc108523298 h 40 HYPERLINK l _Toc108523299 二、 建設(shè)方案 PAGEREF _Toc108523299 h 40 HYPERLINK l _Toc108523300 三、 建筑工程建設(shè)指標 PAGEREF _Toc108523300 h 41 HYPERLINK l _Toc108523301 建筑工程投資一覽表 PAGE

10、REF _Toc108523301 h 41 HYPERLINK l _Toc108523302 第七章 SWOT分析說明 PAGEREF _Toc108523302 h 43 HYPERLINK l _Toc108523303 一、 優(yōu)勢分析（S） PAGEREF _Toc108523303 h 43 HYPERLINK l _Toc108523304 二、 劣勢分析（W） PAGEREF _Toc108523304 h 44 HYPERLINK l _Toc108523305 三、 機會分析（O） PAGEREF _Toc108523305 h 45 HYPERLINK l _Toc108

11、523306 四、 威脅分析（T） PAGEREF _Toc108523306 h 45 HYPERLINK l _Toc108523307 第八章 運營管理模式 PAGEREF _Toc108523307 h 51 HYPERLINK l _Toc108523308 一、 公司經(jīng)營宗旨 PAGEREF _Toc108523308 h 51 HYPERLINK l _Toc108523309 二、 公司的目標、主要職責(zé) PAGEREF _Toc108523309 h 51 HYPERLINK l _Toc108523310 三、 各部門職責(zé)及權(quán)限 PAGEREF _Toc108523310 h

12、 52 HYPERLINK l _Toc108523311 四、 財務(wù)會計制度 PAGEREF _Toc108523311 h 55 HYPERLINK l _Toc108523312 第九章 發(fā)展規(guī)劃分析 PAGEREF _Toc108523312 h 59 HYPERLINK l _Toc108523313 一、 公司發(fā)展規(guī)劃 PAGEREF _Toc108523313 h 59 HYPERLINK l _Toc108523314 二、 保障措施 PAGEREF _Toc108523314 h 60 HYPERLINK l _Toc108523315 第十章 原輔材料供應(yīng) PAGEREF

13、_Toc108523315 h 62 HYPERLINK l _Toc108523316 一、 項目建設(shè)期原輔材料供應(yīng)情況 PAGEREF _Toc108523316 h 62 HYPERLINK l _Toc108523317 二、 項目運營期原輔材料供應(yīng)及質(zhì)量管理 PAGEREF _Toc108523317 h 62 HYPERLINK l _Toc108523318 第十一章 環(huán)境保護方案 PAGEREF _Toc108523318 h 64 HYPERLINK l _Toc108523319 一、 環(huán)境保護綜述 PAGEREF _Toc108523319 h 64 HYPERLINK

14、l _Toc108523320 二、 建設(shè)期大氣環(huán)境影響分析 PAGEREF _Toc108523320 h 65 HYPERLINK l _Toc108523321 三、 建設(shè)期水環(huán)境影響分析 PAGEREF _Toc108523321 h 66 HYPERLINK l _Toc108523322 四、 建設(shè)期固體廢棄物環(huán)境影響分析 PAGEREF _Toc108523322 h 67 HYPERLINK l _Toc108523323 五、 建設(shè)期聲環(huán)境影響分析 PAGEREF _Toc108523323 h 67 HYPERLINK l _Toc108523324 六、 環(huán)境影響綜合評價

15、 PAGEREF _Toc108523324 h 68 HYPERLINK l _Toc108523325 第十二章 項目節(jié)能說明 PAGEREF _Toc108523325 h 69 HYPERLINK l _Toc108523326 一、 項目節(jié)能概述 PAGEREF _Toc108523326 h 69 HYPERLINK l _Toc108523327 二、 能源消費種類和數(shù)量分析 PAGEREF _Toc108523327 h 70 HYPERLINK l _Toc108523328 能耗分析一覽表 PAGEREF _Toc108523328 h 70 HYPERLINK l _To

16、c108523329 三、 項目節(jié)能措施 PAGEREF _Toc108523329 h 71 HYPERLINK l _Toc108523330 四、 節(jié)能綜合評價 PAGEREF _Toc108523330 h 72 HYPERLINK l _Toc108523331 第十三章 進度實施計劃 PAGEREF _Toc108523331 h 74 HYPERLINK l _Toc108523332 一、 項目進度安排 PAGEREF _Toc108523332 h 74 HYPERLINK l _Toc108523333 項目實施進度計劃一覽表 PAGEREF _Toc108523333 h

17、 74 HYPERLINK l _Toc108523334 二、 項目實施保障措施 PAGEREF _Toc108523334 h 75 HYPERLINK l _Toc108523335 第十四章 項目投資分析 PAGEREF _Toc108523335 h 76 HYPERLINK l _Toc108523336 一、 投資估算的編制說明 PAGEREF _Toc108523336 h 76 HYPERLINK l _Toc108523337 二、 建設(shè)投資估算 PAGEREF _Toc108523337 h 76 HYPERLINK l _Toc108523338 建設(shè)投資估算表 PAG

18、EREF _Toc108523338 h 78 HYPERLINK l _Toc108523339 三、 建設(shè)期利息 PAGEREF _Toc108523339 h 78 HYPERLINK l _Toc108523340 建設(shè)期利息估算表 PAGEREF _Toc108523340 h 79 HYPERLINK l _Toc108523341 四、 流動資金 PAGEREF _Toc108523341 h 80 HYPERLINK l _Toc108523342 流動資金估算表 PAGEREF _Toc108523342 h 80 HYPERLINK l _Toc108523343 五、 項

19、目總投資 PAGEREF _Toc108523343 h 81 HYPERLINK l _Toc108523344 總投資及構(gòu)成一覽表 PAGEREF _Toc108523344 h 81 HYPERLINK l _Toc108523345 六、 資金籌措與投資計劃 PAGEREF _Toc108523345 h 82 HYPERLINK l _Toc108523346 項目投資計劃與資金籌措一覽表 PAGEREF _Toc108523346 h 83 HYPERLINK l _Toc108523347 第十五章 經(jīng)濟效益分析 PAGEREF _Toc108523347 h 85 HYPERL

20、INK l _Toc108523348 一、 經(jīng)濟評價財務(wù)測算 PAGEREF _Toc108523348 h 85 HYPERLINK l _Toc108523349 營業(yè)收入、稅金及附加和增值稅估算表 PAGEREF _Toc108523349 h 85 HYPERLINK l _Toc108523350 綜合總成本費用估算表 PAGEREF _Toc108523350 h 86 HYPERLINK l _Toc108523351 固定資產(chǎn)折舊費估算表 PAGEREF _Toc108523351 h 87 HYPERLINK l _Toc108523352 無形資產(chǎn)和其他資產(chǎn)攤銷估算表 P

21、AGEREF _Toc108523352 h 88 HYPERLINK l _Toc108523353 利潤及利潤分配表 PAGEREF _Toc108523353 h 90 HYPERLINK l _Toc108523354 二、 項目盈利能力分析 PAGEREF _Toc108523354 h 90 HYPERLINK l _Toc108523355 項目投資現(xiàn)金流量表 PAGEREF _Toc108523355 h 92 HYPERLINK l _Toc108523356 三、 償債能力分析 PAGEREF _Toc108523356 h 93 HYPERLINK l _Toc10852

22、3357 借款還本付息計劃表 PAGEREF _Toc108523357 h 94 HYPERLINK l _Toc108523358 第十六章 項目招標方案 PAGEREF _Toc108523358 h 96 HYPERLINK l _Toc108523359 一、 項目招標依據(jù) PAGEREF _Toc108523359 h 96 HYPERLINK l _Toc108523360 二、 項目招標范圍 PAGEREF _Toc108523360 h 96 HYPERLINK l _Toc108523361 三、 招標要求 PAGEREF _Toc108523361 h 96 HYPERL

23、INK l _Toc108523362 四、 招標組織方式 PAGEREF _Toc108523362 h 97 HYPERLINK l _Toc108523363 五、 招標信息發(fā)布 PAGEREF _Toc108523363 h 97 HYPERLINK l _Toc108523364 第十七章 項目總結(jié) PAGEREF _Toc108523364 h 98 HYPERLINK l _Toc108523365 第十八章 附表附錄 PAGEREF _Toc108523365 h 100 HYPERLINK l _Toc108523366 營業(yè)收入、稅金及附加和增值稅估算表 PAGEREF _

24、Toc108523366 h 100 HYPERLINK l _Toc108523367 綜合總成本費用估算表 PAGEREF _Toc108523367 h 100 HYPERLINK l _Toc108523368 固定資產(chǎn)折舊費估算表 PAGEREF _Toc108523368 h 101 HYPERLINK l _Toc108523369 無形資產(chǎn)和其他資產(chǎn)攤銷估算表 PAGEREF _Toc108523369 h 102 HYPERLINK l _Toc108523370 利潤及利潤分配表 PAGEREF _Toc108523370 h 103 HYPERLINK l _Toc108

25、523371 項目投資現(xiàn)金流量表 PAGEREF _Toc108523371 h 104 HYPERLINK l _Toc108523372 借款還本付息計劃表 PAGEREF _Toc108523372 h 105 HYPERLINK l _Toc108523373 建設(shè)投資估算表 PAGEREF _Toc108523373 h 106 HYPERLINK l _Toc108523374 建設(shè)投資估算表 PAGEREF _Toc108523374 h 106 HYPERLINK l _Toc108523375 建設(shè)期利息估算表 PAGEREF _Toc108523375 h 107 HYPE

26、RLINK l _Toc108523376 固定資產(chǎn)投資估算表 PAGEREF _Toc108523376 h 108 HYPERLINK l _Toc108523377 流動資金估算表 PAGEREF _Toc108523377 h 109 HYPERLINK l _Toc108523378 總投資及構(gòu)成一覽表 PAGEREF _Toc108523378 h 110 HYPERLINK l _Toc108523379 項目投資計劃與資金籌措一覽表 PAGEREF _Toc108523379 h 111本報告為模板參考范文，不作為投資建議，僅供參考。報告產(chǎn)業(yè)背景、市場分析、技術(shù)方案、風(fēng)險評估等

27、內(nèi)容基于公開信息；項目建設(shè)方案、投資估算、經(jīng)濟效益分析等內(nèi)容基于行業(yè)研究模型。本報告可用于學(xué)習(xí)交流或模板參考應(yīng)用。項目背景及必要性原子層刻蝕為未來技術(shù)發(fā)展方向隨著國際上高端量產(chǎn)芯片從14nm-10nm階段向7nm、5nm甚至更小的方向發(fā)展，當前市場普遍使用的沉浸式光刻機受光波長的限制，關(guān)鍵尺寸無法滿足要求，必須采用多重模板工藝，利用刻蝕工藝實現(xiàn)更小的尺寸，使得刻蝕技術(shù)及相關(guān)設(shè)備的重要性進一步提升。制程升級背景下，刻蝕次數(shù)顯著增加。隨著半導(dǎo)體制程的不斷縮小，受光波長限制，關(guān)鍵尺寸無法滿足要求，必須采用多重模板工藝，重復(fù)多次薄膜沉積和刻蝕工序以實現(xiàn)更小的線寬，使得薄膜沉積和刻蝕次數(shù)顯著增加以及刻蝕

28、設(shè)備在晶圓產(chǎn)線中價值比率不斷上升，其中20納米工藝需要的刻蝕步驟約為50次，而10納米工藝和7納米工藝所需刻蝕步驟則超過100次。以硅片上的原子層刻蝕為例，首先，氯氣被導(dǎo)入刻蝕腔，氯氣分子吸附于硅材料的表面，形成一個氯化層。這一步改性步驟具有自限制性：表面一旦飽和，反應(yīng)立即停止。緊接著清楚刻蝕腔中過量的氯氣，并引入氬離子。使這些離子轟擊硅片，物理性去除硅-氯反應(yīng)后產(chǎn)生的氯化層，進而留下下層未經(jīng)改性的硅表面。這種去除過程仍然依靠自限制性，在氯化層被全部去除后，過程中止。以上兩個步驟完成后，一層極薄的材料就能被精準的從硅片上去除。半導(dǎo)體設(shè)備市場快速發(fā)展，刻蝕設(shè)備價值量可觀半導(dǎo)體設(shè)備市場快速發(fā)展，2

29、022有望再創(chuàng)新高。隨著2013年以來全球半導(dǎo)體行業(yè)的整體發(fā)展，半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模也實現(xiàn)快速增長。根據(jù)SEMI統(tǒng)計，2013年到2020年間，全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額由320億美元提升至712億美元，年復(fù)合增速達到12.10%。2021年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模突破1000億美元，達到歷史新高的1026億美元，同比大增44。根據(jù)SEMI預(yù)測，2022年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場有望再創(chuàng)新高，達到1140億美元。目前全球半導(dǎo)體設(shè)備的市場主要由國外廠商高度壟斷。根據(jù)芯智訊發(fā)布的基于各公司財報統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，在未剔除FPD設(shè)備及相關(guān)服務(wù)收入、以2021年度中間匯率為基準進行計算，2021年全球前十五大半導(dǎo)體設(shè)備

30、廠商中僅有一家ASMPacificTechnology來自中國香港，2021年銷售額為17.39億美元，位列榜單第14位。整體來看目前全球半導(dǎo)體設(shè)備市場主要被外國市場壟斷?？涛g設(shè)備投資占比不斷，成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)第一大設(shè)備。先進集成電路大規(guī)模生產(chǎn)線的投資可達100億美元，75%以上是半導(dǎo)體設(shè)備投資，其中最關(guān)鍵、最大宗的設(shè)備是等離子體刻蝕設(shè)備。根據(jù)SEMI的統(tǒng)計數(shù)據(jù)，2018年晶圓加工設(shè)備價值構(gòu)成中，刻蝕、光刻、CVD設(shè)備占比分別為22.14%、21.30%、16.48%，刻蝕設(shè)備成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)第一大設(shè)備。過去50年中，人類微觀加工能力不斷提升，從電子管計算機到現(xiàn)在的14納米、7納米器件，微觀器件的

31、基本單元面積縮小了一萬億倍。由于光的波長限制，20納米以下微觀結(jié)構(gòu)的加工更多使用等離子體刻蝕和薄膜沉積的組合。集成電路芯片的制造工藝需要成百上千個步驟，其中等離子體刻蝕就需要幾十到上百個步驟，是在制造過程中使用次數(shù)頻多、加工過程非常復(fù)雜的重要加工技術(shù)。泛林半導(dǎo)體占據(jù)刻蝕設(shè)備半壁江山光刻機和刻蝕機作為產(chǎn)業(yè)的核心裝備，占據(jù)了半導(dǎo)體設(shè)備投資中較大的份額。隨著半導(dǎo)體技術(shù)進步中器件互連層數(shù)增多，介質(zhì)刻蝕設(shè)備的使用量不斷增大，泛林半導(dǎo)體利用其較低的設(shè)備成本和相對簡單的設(shè)計，逐漸在65nm、45nm設(shè)備市場超過TEL等企業(yè)，占據(jù)了全球大半個市場，成為行業(yè)龍頭。根據(jù)Gartner的數(shù)據(jù)顯示，目前全球刻蝕設(shè)備行

32、業(yè)的龍頭企業(yè)仍然為泛林半導(dǎo)體、東京電子和應(yīng)用材料三家，從市占率情況來看，2020年三家企業(yè)的合計市場份額占到了全球刻蝕設(shè)備市場的90%以上，其中泛林半導(dǎo)體獨占44.7%的市場份額。全球龍頭持續(xù)投入，加強研發(fā)、外圍并購維持競爭力。應(yīng)用材料于2018年6月宣布成立材料工程技術(shù)推動中心（META中心），主要目標是加快客戶獲得新的芯片制造材料和工藝技術(shù)，從而在半導(dǎo)體性能、成本方面實現(xiàn)突破。泛林半導(dǎo)體依靠自身巨大的研發(fā)投入和強大的研發(fā)團隊，自主研發(fā)核心技術(shù)，走在半導(dǎo)體設(shè)備的技術(shù)前沿，開創(chuàng)多個行業(yè)標準，如其KIYO系列創(chuàng)造了業(yè)內(nèi)最高生產(chǎn)力、選擇比等多項記錄，其ALTUSMaxE系列采用業(yè)界首款低氟鎢ALD

33、工藝，被視作鎢原子層沉積的行業(yè)標桿。除此之外，泛林半導(dǎo)體首創(chuàng)ALE技術(shù)，實現(xiàn)了原子層級別的可變控制性和業(yè)內(nèi)最高選擇比。干法刻蝕是芯片制造的主流技術(shù)刻蝕設(shè)備處于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游環(huán)節(jié)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的上游由為設(shè)計、制造和封測環(huán)節(jié)提供軟件及知識產(chǎn)權(quán)、硬件設(shè)備、原材料等生產(chǎn)資料的核心產(chǎn)業(yè)組成。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的中游可以分為半導(dǎo)體芯片設(shè)計環(huán)節(jié)、制造環(huán)節(jié)和封裝測試環(huán)節(jié)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的下游為半導(dǎo)體終端產(chǎn)品以及其衍生的應(yīng)用、系統(tǒng)等?？涛g的基本目標是在涂膠的硅片上正確的復(fù)制掩模圖形?？涛g是指使用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程，并保證有圖形的光刻膠在刻蝕中不受到腐蝕源顯著的侵蝕。常用來代表刻蝕效

34、率的參數(shù)主要有：刻蝕速率、刻蝕剖面、刻蝕偏差和選擇比等?？涛g速率指刻蝕過程中去除硅片表面材料的速度；刻蝕剖面指的是刻蝕圖形的側(cè)壁形狀，通常分為各向同性和各向異性剖面；刻蝕偏差指的是線寬或關(guān)鍵尺寸間距的變化，通常由橫向鉆蝕引起；選擇比指的是同一刻蝕條件下兩種材料刻蝕速率比，高選擇比意味著不需要的材料會被刻除。刻蝕技術(shù)按工藝分類可分為濕法刻蝕和干法刻蝕，其中干法刻蝕是最主要的用來去除表面材料的刻蝕方法，濕法刻蝕主要包括化學(xué)刻蝕和電解刻蝕。由于在濕法刻蝕技術(shù)中使用液體試劑，相對于干法刻蝕，容易導(dǎo)致邊側(cè)形成斜坡、要求沖洗或干燥等步驟。因此干法刻蝕被普遍應(yīng)用于先進制程的小特征尺寸精細刻蝕中，并在刻蝕率、

35、微粒損傷等方面具有較大的優(yōu)勢。目前先進的集成電路制造技術(shù)中用于刻蝕關(guān)鍵層最主要的刻蝕方法是單片處理的高密度等離子體刻蝕技術(shù)。一個等離子體刻蝕機的基本部件包括發(fā)生刻蝕反應(yīng)的反應(yīng)腔、產(chǎn)生等離子體氣的射頻電源、氣體流量控制系統(tǒng)、去除生成物的真空系統(tǒng)。刻蝕中會用到大量的化學(xué)氣體，通常用氟刻蝕二氧化硅，氯和氟刻蝕鋁，氯、氟和溴刻蝕硅，氧去除光刻膠。高密度等離子體刻蝕在先進的集成電路制造技術(shù)中用于刻蝕關(guān)鍵層最主要的刻蝕方法是單片處理的高密度等離子體刻蝕技術(shù)。根據(jù)產(chǎn)生等離子體方法的不同，等離子體刻蝕主要分為電容性等離子體刻蝕（CCP）、電感性等離子體刻蝕(ICP)、電子回旋加速震蕩（ECR）和雙等離子體源。

36、電子回旋加速震蕩（ECR）反應(yīng)器是最早商用化的高密度等離子體反應(yīng)器之一，它是1984年前后日本日立公司最早研究的，第一次使用是在20世紀80年代初。它在現(xiàn)代硅片制造中仍然用于0.25微米及以下尺寸圖形的刻蝕。ECR反應(yīng)器的一個關(guān)鍵是磁場平行于反應(yīng)劑的流動方向，這使自由電子由于磁力作用做螺旋形運動。增加了電子碰撞的可能性，從而產(chǎn)生高密度的等離子體。優(yōu)點在于能產(chǎn)生高的各向異性刻蝕圖形，缺點是設(shè)備復(fù)雜度較高。耦合等離子體刻蝕機包括電容耦合（CCP）與電感耦合（ICP），相比ECR結(jié)構(gòu)簡單且成本低。電容耦合等離子體刻蝕機（CCP）通過電容產(chǎn)生等離子體，而電感耦合等離子體刻蝕機（ICP）通過螺旋線圈產(chǎn)生

37、等離子體。硅片基底為加裝有低功率射頻偏置發(fā)生器的電源電極，用來控制轟擊硅片表面離子的能量，從而使得整個裝置能夠分離控制離子的能量與濃度。電容性等離子體刻蝕（CCP）主要是以高能離子在較硬的介質(zhì)材料上，刻蝕高深寬比的深孔、深溝等微觀結(jié)構(gòu)；而電感性等離子體刻蝕（ICP）主要是以較低的離子能量和極均勻的離子濃度刻蝕較軟的和較薄的材料。這兩種刻蝕設(shè)備涵蓋了主要的刻蝕應(yīng)用。雙等離子體源刻蝕機主要由源功率單元、上腔體、下腔體和可移動電極四部分組成。這一系統(tǒng)中用到了兩個RF功率源。位于上部的射頻功率源通過電感線圈將能量傳遞給等離子體從而增加離子密度，但是離子濃度增加的同時離子能量也隨之增加。下部加裝的偏置射

38、頻電源通過電容結(jié)構(gòu)能夠降低轟擊在硅表面離子的能量而不影響離子濃度，從而能夠更好地控制刻蝕速率與選擇比。深化區(qū)域協(xié)作和對外開全面參與國內(nèi)國際雙循環(huán)，積極對接京津冀、長三角、粵港澳大灣區(qū)等區(qū)域，合作推進產(chǎn)業(yè)發(fā)展、招商引資、科技交流、市場營銷，推動一批基地型、龍頭型、科技型重大項目落地。發(fā)揮三明聯(lián)通全國中西部地區(qū)重要通道作用，完善綜合交通樞紐建設(shè)，促進區(qū)域產(chǎn)業(yè)互補共進，加快構(gòu)建區(qū)域共同市場，積極參與中西部開發(fā)建設(shè)。深度融入閩西南協(xié)同發(fā)展區(qū)，落實閩西南協(xié)同發(fā)展區(qū)聯(lián)席會議制度，建立基礎(chǔ)設(shè)施互聯(lián)互通、產(chǎn)業(yè)發(fā)展融入融合、公共服務(wù)共建共享協(xié)作機制，主動承接沿海地區(qū)產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移，抓好廈明經(jīng)濟合作區(qū)、泉三高端裝備產(chǎn)業(yè)

39、園、廈明火炬新材料產(chǎn)業(yè)園等協(xié)作項目落實落地。主動承接福建自貿(mào)試驗區(qū)“溢出效應(yīng)”，完善跨關(guān)區(qū)通關(guān)聯(lián)動、“單一窗口”出口信保服務(wù)等模式，積極參與“福建品牌海絲行”活動，推動鋼鐵與裝備制造、特色農(nóng)產(chǎn)品等優(yōu)勢產(chǎn)能產(chǎn)品“走出去”，持續(xù)擴大與“一帶一路”沿線國家和地區(qū)雙向投資貿(mào)易規(guī)模。深化與港澳臺交流合作，實施便利港澳臺居民在明發(fā)展的政策措施，常態(tài)化開展“臺商臺胞服務(wù)年”活動。項目投資主體概況公司基本信息1、公司名稱：xx（集團）有限公司2、法定代表人：韓xx3、注冊資本：1150萬元4、統(tǒng)一社會信用代碼：xxxxxxxxxxxxx5、登記機關(guān)：xxx市場監(jiān)督管理局6、成立日期：2014-6-167、營業(yè)

40、期限：2014-6-16至無固定期限8、注冊地址：xx市xx區(qū)xx9、經(jīng)營范圍：從事機械設(shè)備相關(guān)業(yè)務(wù)（企業(yè)依法自主選擇經(jīng)營項目，開展經(jīng)營活動；依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后依批準的內(nèi)容開展經(jīng)營活動；不得從事本市產(chǎn)業(yè)政策禁止和限制類項目的經(jīng)營活動。）公司簡介公司在“政府引導(dǎo)、市場主導(dǎo)、社會參與”的總體原則基礎(chǔ)上，堅持優(yōu)化結(jié)構(gòu)，提質(zhì)增效。不斷促進企業(yè)改變粗放型發(fā)展模式和管理方式，補齊生態(tài)環(huán)境保護不足和區(qū)域發(fā)展不協(xié)調(diào)的短板，走綠色、協(xié)調(diào)和可持續(xù)發(fā)展道路，不斷優(yōu)化供給結(jié)構(gòu)，提高發(fā)展質(zhì)量和效益。牢固樹立并切實貫徹創(chuàng)新、協(xié)調(diào)、綠色、開放、共享的發(fā)展理念，以提質(zhì)增效為中心，以提升創(chuàng)新能力為主線，降成本

41、、補短板，推進供給側(cè)結(jié)構(gòu)性改革。公司始終堅持“人本、誠信、創(chuàng)新、共贏”的經(jīng)營理念，以“市場為導(dǎo)向、顧客為中心”的企業(yè)服務(wù)宗旨，竭誠為國內(nèi)外客戶提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和一流服務(wù)，歡迎各界人士光臨指導(dǎo)和洽談業(yè)務(wù)。公司競爭優(yōu)勢（一）公司具有技術(shù)研發(fā)優(yōu)勢，創(chuàng)新能力突出公司在研發(fā)方面投入較高，持續(xù)進行研究開發(fā)與技術(shù)成果轉(zhuǎn)化，形成企業(yè)核心的自主知識產(chǎn)權(quán)。公司產(chǎn)品在行業(yè)中的始終保持良好的技術(shù)與質(zhì)量優(yōu)勢。此外，公司目前主要生產(chǎn)線為使用自有技術(shù)開發(fā)而成。（二）公司擁有技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)品應(yīng)用與市場開拓并進的核心團隊公司的核心團隊由多名具備行業(yè)多年研發(fā)、經(jīng)營管理與市場經(jīng)驗的資深人士組成，與公司利益捆綁一致。公司穩(wěn)定的核心團隊促使

42、公司形成了高效務(wù)實、團結(jié)協(xié)作的企業(yè)文化和穩(wěn)定的干部隊伍，為公司保持持續(xù)技術(shù)創(chuàng)新和不斷擴張?zhí)峁┝吮匾娜肆Y源保障。（三）公司具有優(yōu)質(zhì)的行業(yè)頭部客戶群體公司憑借出色的技術(shù)創(chuàng)新、產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)，樹立了良好的品牌形象，獲得了較高的客戶認可度。公司通過與優(yōu)質(zhì)客戶保持穩(wěn)定的合作關(guān)系，對于行業(yè)的核心需求、產(chǎn)品變化趨勢、最新技術(shù)要求的理解更為深刻，有利于研發(fā)生產(chǎn)更符合市場需求產(chǎn)品，提高公司的核心競爭力。（四）公司在行業(yè)中占據(jù)較為有利的競爭地位公司經(jīng)過多年深耕，已在技術(shù)、品牌、運營效率等多方面形成競爭優(yōu)勢；同時隨著行業(yè)的深度整合，行業(yè)集中度提升，下游客戶為保障其自身原材料供應(yīng)的安全與穩(wěn)定，在現(xiàn)有競爭格局下對于

43、公司產(chǎn)品的需求亦不斷提升。公司較為有利的競爭地位是長期可持續(xù)發(fā)展的有力支撐。公司主要財務(wù)數(shù)據(jù)公司合并資產(chǎn)負債表主要數(shù)據(jù)項目2020年12月2019年12月2018年12月資產(chǎn)總額11258.029006.428443.51負債總額5243.994195.193932.99股東權(quán)益合計6014.034811.224510.52公司合并利潤表主要數(shù)據(jù)項目2020年度2019年度2018年度營業(yè)收入28273.2122618.5721204.91營業(yè)利潤4386.903509.523290.17利潤總額3586.862869.492690.14凈利潤2690.142098.311936.90歸屬于母

44、公司所有者的凈利潤2690.142098.311936.90核心人員介紹1、韓xx，中國國籍，無永久境外居留權(quán)，1970年出生，碩士研究生學(xué)歷。2012年4月至今任xxx有限公司監(jiān)事。2018年8月至今任公司獨立董事。2、夏xx，中國國籍，1978年出生，本科學(xué)歷，中國注冊會計師。2015年9月至今任xxx有限公司董事、2015年9月至今任xxx有限公司董事。2019年1月至今任公司獨立董事。3、袁xx，中國國籍，1977年出生，本科學(xué)歷。2018年9月至今歷任公司辦公室主任，2017年8月至今任公司監(jiān)事。4、譚xx，中國國籍，無永久境外居留權(quán)，1961年出生，本科學(xué)歷，高級工程師。2002年

45、11月至今任xxx總經(jīng)理。2017年8月至今任公司獨立董事。5、賀xx，1974年出生，研究生學(xué)歷。2002年6月至2006年8月就職于xxx有限責(zé)任公司；2006年8月至2011年3月，任xxx有限責(zé)任公司銷售部副經(jīng)理。2011年3月至今歷任公司監(jiān)事、銷售部副部長、部長；2019年8月至今任公司監(jiān)事會主席。6、胡xx，中國國籍，無永久境外居留權(quán)，1971年出生，本科學(xué)歷，中級會計師職稱。2002年6月至2011年4月任xxx有限責(zé)任公司董事。2003年11月至2011年3月任xxx有限責(zé)任公司財務(wù)經(jīng)理。2017年3月至今任公司董事、副總經(jīng)理、財務(wù)總監(jiān)。7、鐘xx，中國國籍，1976年出生，本

46、科學(xué)歷。2003年5月至2011年9月任xxx有限責(zé)任公司執(zhí)行董事、總經(jīng)理；2003年11月至2011年3月任xxx有限責(zé)任公司執(zhí)行董事、總經(jīng)理；2004年4月至2011年9月任xxx有限責(zé)任公司執(zhí)行董事、總經(jīng)理。2018年3月起至今任公司董事長、總經(jīng)理。8、江xx，中國國籍，無永久境外居留權(quán)，1958年出生，本科學(xué)歷，高級經(jīng)濟師職稱。1994年6月至2002年6月任xxx有限公司董事長；2002年6月至2011年4月任xxx有限責(zé)任公司董事長；2016年11月至今任xxx有限公司董事、經(jīng)理；2019年3月至今任公司董事。經(jīng)營宗旨自主創(chuàng)新，誠實守信，讓世界分享中國創(chuàng)造的魅力。公司發(fā)展規(guī)劃（一）

47、戰(zhàn)略目標與發(fā)展規(guī)劃公司致力于為多產(chǎn)業(yè)的多領(lǐng)域客戶提供高質(zhì)量產(chǎn)品、技術(shù)服務(wù)與整體解決方案，為成為百億級產(chǎn)業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)而努力奮斗。（二）措施及實施效果公司立足于本行業(yè)，以先進的技術(shù)和高品質(zhì)的產(chǎn)品滿足產(chǎn)品日益提升的質(zhì)量標準和技術(shù)進步要求，為國內(nèi)外生產(chǎn)商率先提供多種產(chǎn)品，為提升轉(zhuǎn)換率和品質(zhì)保證以及成本降低持續(xù)做出貢獻，同時通過與產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)質(zhì)客戶緊密合作，為公司帶來穩(wěn)定的業(yè)務(wù)增長和持續(xù)的收益。公司通過產(chǎn)品和商業(yè)模式的不斷創(chuàng)新以及與產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)深度融合，建立創(chuàng)新引領(lǐng)、合作共贏的模式，再造行業(yè)新格局。（三）未來規(guī)劃采取的措施公司始終秉持提供性價比最優(yōu)的產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)的理念，充分發(fā)揮公司在技術(shù)以及膜工藝技術(shù)的扎實基

48、礎(chǔ)及創(chuàng)新能力，為成為百億級產(chǎn)業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)而努力奮斗。在近期的三至五年，公司聚焦于產(chǎn)業(yè)的研發(fā)、智能制造和銷售，在消費升級帶來的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整所需的領(lǐng)域積極布局。致力于為多產(chǎn)業(yè)的多領(lǐng)域客戶提供中高端技術(shù)服務(wù)與整體解決方案。在未來的五至十年，以蓬勃發(fā)展的中國市場為核心，利用中國“一帶一路”發(fā)展機遇，利用獨立創(chuàng)新、聯(lián)合開發(fā)、并購和收購等多種方法，掌握國際領(lǐng)先的技術(shù)，使得公司真正成為國際領(lǐng)先的創(chuàng)新型企業(yè)。行業(yè)、市場分析反應(yīng)離子刻蝕反應(yīng)離子刻蝕（RIE）是一種采用化學(xué)反應(yīng)和物理離子轟擊去除硅片表面材料的技術(shù)，是當前常用技術(shù)路徑，屬于物理和化學(xué)混合刻蝕。在傳統(tǒng)的反應(yīng)離子刻蝕機中，進入反應(yīng)室的氣體會被分解電離為等

49、離子體，等離子體由反應(yīng)正離子、自由基、反應(yīng)原子等組成。反應(yīng)正離子會轟擊硅片表面形成物理刻蝕，同時被轟擊的硅片表面化學(xué)活性被提高，之后硅片會與自由基和反應(yīng)原子形成化學(xué)刻蝕。這個過程中由于離子轟擊帶有方向性，RIE技術(shù)具有較好的各向異性。離子束刻蝕離子束刻蝕（IBE）是具有較強方向性等離子體的一種物理刻蝕機理。他能對小尺寸圖型產(chǎn)生各向異性刻蝕，等離子體通常是由電感耦合RF源或微波源產(chǎn)生的。熱燈絲發(fā)射快速運動的電子。氬原子通過擴散篩進入等離子體腔內(nèi)。電磁場環(huán)繞等離子體腔，磁場使電子在圓形軌道上運動，這種循環(huán)運動是的電子與氬原子產(chǎn)生多次碰撞，從而產(chǎn)生大量的正氬離子，正氬離子被從帶格柵電極的等離子體源中

50、引出并用一套校準的電極來形成高密度束流。離子束刻蝕主要用于金、鉑、銅等較難刻蝕的材料。優(yōu)勢在于硅片可以傾斜以獲取不同的側(cè)壁形狀。但也面臨低選擇比和低刻蝕速率的問題。項目基本情況項目名稱及項目單位項目名稱：三明機械設(shè)備項目項目單位：xx（集團）有限公司項目建設(shè)地點本期項目選址位于xxx（待定），占地面積約66.00畝。項目擬定建設(shè)區(qū)域地理位置優(yōu)越，交通便利，規(guī)劃電力、給排水、通訊等公用設(shè)施條件完備，非常適宜本期項目建設(shè)?？尚行匝芯糠秶?、對項目提出的背景、建設(shè)必要性、市場前景分析；2、對產(chǎn)品方案、工藝流程、技術(shù)水平進行論述，確定建設(shè)規(guī)模；3、對項目建設(shè)條件、場地、原料供應(yīng)及交通運輸條件的評價；4

51、、對項目的總圖運輸、公用工程等技術(shù)方案進行研究；5、對項目消防、環(huán)境保護、勞動安全衛(wèi)生和節(jié)能措施的評價；6、對項目實施進度和勞動定員的確定；7、投資估算和資金籌措和經(jīng)濟效益評價；8、提出本項目的研究工作結(jié)論。編制依據(jù)和技術(shù)原則（一）編制依據(jù)1、國家和地方關(guān)于促進產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整的有關(guān)政策決定；2、建設(shè)項目經(jīng)濟評價方法與參數(shù)；3、投資項目可行性研究指南；4、項目建設(shè)地國民經(jīng)濟發(fā)展規(guī)劃；5、其他相關(guān)資料。（二）技術(shù)原則1、堅持科學(xué)發(fā)展觀，采用科學(xué)規(guī)劃，合理布局，一次設(shè)計，分期實施的建設(shè)原則。2、根據(jù)行業(yè)未來發(fā)展趨勢，合理制定生產(chǎn)綱領(lǐng)和技術(shù)方案。3、堅持市場導(dǎo)向原則，根據(jù)行業(yè)的現(xiàn)有格局和未來發(fā)展方向，優(yōu)

52、化設(shè)備選型和工藝方案，使企業(yè)的建設(shè)與未來的市場需求相吻合。4、貫徹技術(shù)進步原則，產(chǎn)品及工藝設(shè)備選型達到目前國內(nèi)領(lǐng)先水平。同時合理使用項目資金，將先進性與實用性有機結(jié)合，做到投入少、產(chǎn)出多，效益最大化。5、嚴格遵守“三同時”設(shè)計原則，對項目可能產(chǎn)生的污染源進行綜合治理，使其達到國家規(guī)定的排放標準。建設(shè)背景、規(guī)模（一）項目背景制程升級背景下，刻蝕次數(shù)顯著增加。隨著半導(dǎo)體制程的不斷縮小，受光波長限制，關(guān)鍵尺寸無法滿足要求，必須采用多重模板工藝，重復(fù)多次薄膜沉積和刻蝕工序以實現(xiàn)更小的線寬，使得薄膜沉積和刻蝕次數(shù)顯著增加以及刻蝕設(shè)備在晶圓產(chǎn)線中價值比率不斷上升，其中20納米工藝需要的刻蝕步驟約為50次，

53、而10納米工藝和7納米工藝所需刻蝕步驟則超過100次。（二）建設(shè)規(guī)模及產(chǎn)品方案該項目總占地面積44000.00（折合約66.00畝），預(yù)計場區(qū)規(guī)劃總建筑面積77932.14。其中：生產(chǎn)工程48494.16，倉儲工程15555.54，行政辦公及生活服務(wù)設(shè)施8116.68，公共工程5765.76。項目建成后，形成年產(chǎn)xx套機械設(shè)備的生產(chǎn)能力。項目建設(shè)進度結(jié)合該項目建設(shè)的實際工作情況，xx（集團）有限公司將項目工程的建設(shè)周期確定為24個月，其工作內(nèi)容包括：項目前期準備、工程勘察與設(shè)計、土建工程施工、設(shè)備采購、設(shè)備安裝調(diào)試、試車投產(chǎn)等。環(huán)境影響本項目選址合理，符合相關(guān)規(guī)劃和產(chǎn)業(yè)政策，通過采取有效的污染

54、防治措施，污染物可做到達標排放，對周邊環(huán)境的影響在可承受范圍內(nèi)，因此，在切實落實評價提出的污染控制措施和嚴格執(zhí)行“三同時”制度的基礎(chǔ)上，從環(huán)境影響的角度，本項目的建設(shè)是可行的。建設(shè)投資估算（一）項目總投資構(gòu)成分析本期項目總投資包括建設(shè)投資、建設(shè)期利息和流動資金。根據(jù)謹慎財務(wù)估算，項目總投資25587.59萬元，其中：建設(shè)投資20500.05萬元，占項目總投資的80.12%；建設(shè)期利息504.89萬元，占項目總投資的1.97%；流動資金4582.65萬元，占項目總投資的17.91%。（二）建設(shè)投資構(gòu)成本期項目建設(shè)投資20500.05萬元，包括工程費用、工程建設(shè)其他費用和預(yù)備費，其中：工程費用18

55、102.21萬元，工程建設(shè)其他費用2002.56萬元，預(yù)備費395.28萬元。項目主要技術(shù)經(jīng)濟指標（一）財務(wù)效益分析根據(jù)謹慎財務(wù)測算，項目達產(chǎn)后每年營業(yè)收入42500.00萬元，綜合總成本費用34234.92萬元，納稅總額3999.24萬元，凈利潤6039.20萬元，財務(wù)內(nèi)部收益率17.27%，財務(wù)凈現(xiàn)值6433.85萬元，全部投資回收期6.35年。（二）主要數(shù)據(jù)及技術(shù)指標表主要經(jīng)濟指標一覽表序號項目單位指標備注1占地面積44000.00約66.00畝1.1總建筑面積77932.141.2基底面積28600.001.3投資強度萬元/畝302.192總投資萬元25587.592.1建設(shè)投資萬元2

56、0500.052.1.1工程費用萬元18102.212.1.2其他費用萬元2002.562.1.3預(yù)備費萬元395.282.2建設(shè)期利息萬元504.892.3流動資金萬元4582.653資金籌措萬元25587.593.1自籌資金萬元15283.773.2銀行貸款萬元10303.824營業(yè)收入萬元42500.00正常運營年份5總成本費用萬元34234.926利潤總額萬元8052.277凈利潤萬元6039.208所得稅萬元2013.079增值稅萬元1773.3610稅金及附加萬元212.8111納稅總額萬元3999.2412工業(yè)增加值萬元13761.9613盈虧平衡點萬元18043.05產(chǎn)值14回

57、收期年6.3515內(nèi)部收益率17.27%所得稅后16財務(wù)凈現(xiàn)值萬元6433.85所得稅后主要結(jié)論及建議該項目符合國家有關(guān)政策，建設(shè)有著較好的社會效益，建設(shè)單位為此做了大量工作，建議各有關(guān)部門給予大力支持，使其早日建成發(fā)揮效益。項目選址項目選址原則1、符合城鄉(xiāng)規(guī)劃和相關(guān)標準規(guī)范的原則。2、符合產(chǎn)業(yè)政策、環(huán)境保護、耕地保護和可持續(xù)發(fā)展的原則。3、有利于產(chǎn)業(yè)發(fā)展、城鄉(xiāng)功能完善和城鄉(xiāng)空間資源合理配置與利用的原則。4、保障公共利益、改善人居環(huán)境的原則。5、保證城鄉(xiāng)公共安全和項目建設(shè)安全的原則。6、經(jīng)濟效益、社會效益、環(huán)境效益相互協(xié)調(diào)的原則。建設(shè)區(qū)基本情況三明市，福建省轄地級市，位于福建省中部連接西北隅，

58、地處北緯25302707、東經(jīng)1162211839之間，全市面積22965平方千米；東依福州市，西毗江西省，南鄰泉州市，北傍南平市，西南接龍巖市；是一座新興的工業(yè)城市，是全國文明城市和國家衛(wèi)生城市、國家園林城市及中國優(yōu)秀旅游城市。2016年9月，被國家林業(yè)局授予“國家森林城市”稱號。2017年，三明市復(fù)查確認繼續(xù)保留全國文明城市榮譽稱號。三明市擁有海峽兩岸（三明）現(xiàn)代林業(yè)合作實驗區(qū)，是全國集體林業(yè)綜合改革試驗示范區(qū)，享有福建“綠色寶庫”的美譽，是全國四個活立木蓄積量超過1億立方米的設(shè)區(qū)市之一。截至2015年6月，已發(fā)現(xiàn)金屬和非金屬礦種79個，已探明儲量的礦種49種，已開發(fā)利用的43種。三明擁有

59、中國丹霞泰寧世界自然遺產(chǎn)地、世界地質(zhì)公園2個世界級品牌和國家級、省級旅游品牌各50多個，數(shù)量和等級名列福建省前茅。2020年，三明市實現(xiàn)地區(qū)生產(chǎn)總值2702.19億元，比上年增長4.1%。根據(jù)第七次人口普查數(shù)據(jù)，截至2020年11月1日零時，三明市常住人口為2486450人。堅持新發(fā)展理念，發(fā)展質(zhì)量和效益與全省先進城市差距明顯縮小，經(jīng)濟總量占全省比重有所提高，增長潛力、內(nèi)需潛力充分發(fā)揮。經(jīng)濟結(jié)構(gòu)更加優(yōu)化，科技創(chuàng)新貢獻率明顯提升，四大主導(dǎo)產(chǎn)業(yè)總體競爭力顯著增強，產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)高級化、產(chǎn)業(yè)鏈現(xiàn)代化水平明顯提高，三產(chǎn)短板加快補齊，農(nóng)業(yè)基礎(chǔ)更加穩(wěn)固，三次產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)不斷優(yōu)化。城鄉(xiāng)發(fā)展更加協(xié)調(diào)，中心城市輻射帶動作

60、用不斷增強，鄉(xiāng)村振興、新型城鎮(zhèn)化、縣（市、區(qū)）發(fā)展同步推進，城鄉(xiāng)一體化和區(qū)域協(xié)調(diào)發(fā)展的新格局基本形成。到二三五年，我市與全省一道基本實現(xiàn)社會主義現(xiàn)代化，全方位高質(zhì)量發(fā)展超越各項目標努力達到全省平均水平，實現(xiàn)局部領(lǐng)先，“機制活、產(chǎn)業(yè)優(yōu)、百姓富、生態(tài)美”的新三明展現(xiàn)新局面。展望二三五年，我市經(jīng)濟實力將大幅躍升，經(jīng)濟總量邁上新的大臺階，基本實現(xiàn)新型工業(yè)化、信息化、城鎮(zhèn)化、農(nóng)業(yè)現(xiàn)代化；創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)創(chuàng)造活力顯著增強，自主創(chuàng)新能力全面提升，進入創(chuàng)新型城市行列；產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)全面優(yōu)化、素質(zhì)全面提高，產(chǎn)業(yè)綠色發(fā)展水平顯著提升，基本建成現(xiàn)代化產(chǎn)業(yè)體系；基本實現(xiàn)市域治理現(xiàn)代化，人民平等參與、平等發(fā)展權(quán)利得到充分保障，建成法