CT PECVD 中文 概論

1、0 概論0.1基本要素0.1.1 Centrotherm PECVD 的工作原理Centrotherm PECVD 系統(tǒng)是一組利用平行板鍍膜舟和低頻等離子激發(fā)器的系列發(fā)生器。在低壓和升溫的情況下，等離子發(fā)生器直接在鍍膜板中介質(zhì)間發(fā)生作用。所用的活性氣體為硅酮SiH4和氨NH3。這些氣體作用于存儲在介質(zhì)上的氮化硅?？梢愿鶕?jù)改變硅烷對氨的比率，來得到不同的折射指數(shù)。在沉積工藝中，伴有大量的氫原子和氫離子的產(chǎn)生，使得晶片的氫鈍化性十分良好。而氮化硅中的大量氮氣，是在氮化硅涂層后的燒結(jié)階段中，被迫進(jìn)入硅片容器中。PECVD氮涂層，僅在工藝的第一階段就提供了良好的表面鈍化，又提供了整體鈍化。因此不需要單

2、獨的氫鈍化設(shè)備。0.2系統(tǒng)縱覽Ø設(shè)備系統(tǒng)組件有：l晶片裝載區(qū)l清潔器l管式爐l氣體系統(tǒng)l真空系統(tǒng)Ø工序太陽能電池的抗反射層和鈍化，在硅氮法的情況下有高的產(chǎn)能。Ø電池尺寸系統(tǒng)運(yùn)作的平行板鉛架鍍膜舟，是為型號為100×100毫米和156×156毫米的電池設(shè)計的。Ø標(biāo)準(zhǔn)組能力（豎直鉛舟）單管設(shè)備的組能情況如下：l晶片 156×156192l晶片 210×210128對于其他的標(biāo)準(zhǔn)，可以根據(jù)每組利用相當(dāng)?shù)娜侩姵乜臻g，先來粗略的計算組能。Ø總產(chǎn)量針對2套系統(tǒng)，l晶片 156×156：575片/小時l晶片

3、 210×210：350片/小時針對4套系統(tǒng)，l晶片 156×156：1150片/小時l晶片 210×210：750 片/小時Ø自動化（鍍膜舟，晶片處理）l管裝載： 軟著陸l工藝鉛舟： 全自動l晶片 手工操作或表面的自動化處理Ø薄片流程系統(tǒng)裝載區(qū)配有一個豎直的薄片流動系統(tǒng)Ø運(yùn)輸最高的“HT”（4套系統(tǒng)）型爐將卸成模塊。每部分有2只工藝管。這樣的設(shè)計，方便通過標(biāo)準(zhǔn)的門和電梯。0.3系統(tǒng)構(gòu)造硅氮化法沉積的PECVD系統(tǒng)4套（最多）工藝PECVD：氮化法加熱器溫度： 100-600工序溫度 ： 100-550 流程管： 石英裝載系統(tǒng)：Cen

4、trotherm 軟著陸(SiC)管閉類型： 真空（PECVD）3套工藝PECVD：氮化法加熱器溫度： 100-600工序溫度 ： 100-550流程管： 石英裝載系統(tǒng)：Centrotherm 軟著陸(SiC)管閉類型： 真空（PECVD）2套工藝PECVD：氮化法加熱器溫度： 100-600工序溫度 ： 100-550流程管： 石英裝載系統(tǒng)：Centrotherm 軟著陸(SiC)管閉類型： 真空（PECVD）1套工藝PECVD：氮化法加熱器溫度： 100-600工序溫度 ： 100-550流程管： 石英裝載系統(tǒng)：Centrotherm 軟著陸(SiC)管閉類型： 真空（PECVD）0.4系

5、統(tǒng)尺寸1工藝說明(太陽能)如果所用的硬件（質(zhì)體傳送器，等離子電極系統(tǒng)等）是由Centrotherm發(fā)運(yùn)或指定的，那么這個系統(tǒng)說明有效。說明資料是在滿晶片（帶有50cm E擴(kuò)散的0.6-2.0cm的多晶硅晶片）情況下，三次連續(xù)運(yùn)行中已被證明的，標(biāo)準(zhǔn)的參數(shù)提供。系統(tǒng)的最終接受標(biāo)準(zhǔn)實行下面的給定的說明。為了啟動和接受的運(yùn)行的足夠量的晶片，晶片備用設(shè)備（清洗、蝕刻設(shè)備等）和測量設(shè)備（e.g. Ellipsometer,Nanospec,Four point prode）由客戶提供。1.1PECVD 氮化法（太陽能）1.1.1性能Ø評估工藝l厚度70NMl折射參數(shù)2.0-2.1Ø批量

6、時間每批流程持續(xù)為47-52鐘（取決于熱質(zhì)量）Ø產(chǎn)量PECVD-E2000-HT-410-4 系統(tǒng)可以配1-4個管線。每個管線都獨立工作。因此，為裝滿管線的系統(tǒng)，可以遲些再裝。僅在電梯系統(tǒng)用于所有管線。在等離子鍍膜舟運(yùn)行100次后，要用內(nèi)部的等離子刻蝕來清洗。這大概需要3個小時。清潔后的再存儲也需要大約3個小時。目前，我們正在研究清洗工序時間的節(jié)約問題。在12到14次干蝕刻循環(huán)后，鍍膜舟應(yīng)該檢測，并且要將整個外部清洗干凈。1.1.2標(biāo)準(zhǔn)下面說明的硅氮化防反射涂層，是參考用在192晶片的標(biāo)準(zhǔn)鍍膜舟中的型號為156×156毫米的晶片。薄片厚度折射系數(shù)的測量儀器用1Ohm

7、5;cm 低電阻系數(shù)和擴(kuò)散發(fā)射器，由ellipsometer基于涂P型材的磨光的硅晶片制造的。Ø點與點l標(biāo)準(zhǔn)+5%l折射系數(shù)2.1+/- 0.05測量必須在5個點上運(yùn)行，也就是晶片中心以及中心到拐角且每邊距邊緣有1厘米連線的4個點。Ø晶片與晶片l標(biāo)準(zhǔn)+5%l折射系數(shù)2.1+/- 0.05平均膜厚度不同的晶片在鍍膜舟的不同位置，按照上節(jié)提供的每個晶片的五種測量方法可以計算出它的平均值。Ø運(yùn)行與運(yùn)行l(wèi)標(biāo)準(zhǔn)+5%l折射系數(shù)2.1+/- 0.05平均厚度不同的晶片在鍍膜舟的同一存儲區(qū)域。鍍膜舟上的標(biāo)記有兩處標(biāo)記是，由于需要把晶體放在鍍膜舟托盤的安裝扣上，引起

8、的。2 爐Ø爐的附屬系統(tǒng)如下l加熱設(shè)備l溫度測量系統(tǒng)l爐控系統(tǒng)l爐冷卻系統(tǒng)l安全系統(tǒng)2.1加熱設(shè)備Ø基本準(zhǔn)確溫度：350-600+/- 1.0Ø在Centrotherm設(shè)計下的加熱器及其構(gòu)造l優(yōu)良的溫度標(biāo)準(zhǔn)l優(yōu)良的溫度穩(wěn)定性l延長的壽命l適用于為有效利用能源消耗的所需的動態(tài)屬性(舷梯率,最大溫度)2.2 溫度測量Ø熱電偶Ø型號及標(biāo)準(zhǔn),請參”技術(shù)系統(tǒng)配置”部分 l每個加熱區(qū)有兩個針熱電偶n溫度控制直接(沒有額外線路)與現(xiàn)場總線測量放大器聯(lián)接,n過熱保護(hù)每個加熱區(qū)都有一個壓型熱電偶(在串級安裝好的情況下)Ø現(xiàn)場總線熱電偶放大器l電子冷接面

9、說明(Pt 100)l無相似信號2.3爐控系統(tǒng)現(xiàn)場總線此系統(tǒng)安裝了一個基于現(xiàn)場總線的感應(yīng)現(xiàn)場總線控制系統(tǒng).Ø相關(guān)的主要部件l溫度控制器測量和動力單元l空氣/真空系統(tǒng)閥,手動頻控器,壓力控制器l裝載機(jī)器Ø優(yōu)點l數(shù)字傳輸(無吹積,無噪音)l為所有現(xiàn)場總線部件提供遠(yuǎn)程服務(wù)能力l連續(xù)指導(dǎo)所有現(xiàn)場總線部件l減少接線(可靠性高)2.4爐冷卻系統(tǒng)此系統(tǒng)安裝了一個閉循環(huán)的水冷卻系統(tǒng).不需要冷卻氣體.在系統(tǒng)配有一個內(nèi)直徑為320毫米或更大的加熱器，它直接由水冷卻。Ø優(yōu)點l沒有消耗凈室空氣l不同管間無熱干涉l爐環(huán)境的溫度沒有被熱空氣所提升l空氣運(yùn)動（通風(fēng)裝置）沒有使房間污染l噪音水平

10、低2.5CMS安全系統(tǒng)程序及系統(tǒng)一旦安裝一個獨立的CMS安全系統(tǒng)，用戶將獲得最大安全性。安裝的感應(yīng)器將監(jiān)控重要系統(tǒng)的運(yùn)行情況，而一旦不受管的計算機(jī)的控制，CMS將會發(fā)生作用。僅簡單的定位錯誤，所有的錯誤信息也都會在CIM上得以簡潔的文本方式（英語、德語）顯示出來。此外，包括標(biāo)準(zhǔn)策略、無數(shù)的系統(tǒng)錯誤響應(yīng)，也可以被編程出。2.5.1基礎(chǔ)程序Ø過熱感應(yīng)器-工藝管獨立的溫度測量系統(tǒng)通過利用每個加熱區(qū)的熱電偶（至于型號參考“技術(shù)系統(tǒng)配置“部分）來監(jiān)控工藝管的針溫。如果溫度超過設(shè)定點，加熱器的電源將被關(guān)掉，因此使?fàn)t免于過熱和受到損壞。Ø過熱感應(yīng)器-加熱箱加熱器箱的溫度是受到控制的。一旦

11、溫度超過設(shè)定點，加熱器將會被關(guān)掉。這個傳感器的激活通常表明低涼水流程。Ø過熱感應(yīng)器-動力電子學(xué) 變壓器和半導(dǎo)體開關(guān)模塊的溫度是受到監(jiān)控的。溫度過熱將啟動報警器。Ø漏水感應(yīng)器水泄漏將激活報警器。2.5.2 真空工藝的附加程序Ø門的監(jiān)督如果門到達(dá)關(guān)閉的位置，小開關(guān)將會開動。僅在門到達(dá)關(guān)閉時的情況，真空-和工藝氣體閥門才會打開。Ø泵清洗流動的監(jiān)控（僅限旋轉(zhuǎn)泵）如果安裝的是轉(zhuǎn)旋泵，旋轉(zhuǎn)測量儀表將會測量氮泵清洗流動情況。當(dāng)清洗流動降到設(shè)定點下，工藝氣體閥將關(guān)閉。干燥泵有完整的清洗流程控制Ø排氣管管段清洗流動的監(jiān)督（僅限于旋轉(zhuǎn)泵）進(jìn)入排氣管管段的氮清洗流動

12、是由旋轉(zhuǎn)儀表控制的，一旦清洗流動降到設(shè)定點以下，工藝氣體閥將關(guān)閉。Ø流程壓力控制如果工藝管內(nèi)的壓力上升至2.5兆巴（5兆巴），工藝氣體閥關(guān)閉。他們僅在壓力降到設(shè)定點以下時，才會重新打開。Ø設(shè)定點的softpump.如果工藝管內(nèi)壓力超過5兆巴（10兆巴），為了避免微粒產(chǎn)生,泵速將會降低。ØSoftvent在使用兩條氮氣(MFC,metering valve)生產(chǎn)線中， Soft vent功能用于避免微粒產(chǎn)生.Ø大氣壓感應(yīng)器在排氣過程中，為了避免過壓,感應(yīng)系統(tǒng)把工藝管內(nèi)，外的壓力作比較，如果需要，過壓閥將會啟動。Ø過壓傳感器150兆巴如果過壓閥啟動

13、且工藝管中過壓超過150兆巴,氣體流動將會中斷。3 流程控制系統(tǒng)CCC大部分來說，Centrotherm爐可以與工廠計算機(jī)系統(tǒng)相結(jié)合.對于太陽能電池應(yīng)用程序來說，一套完整的工廠鏈?zhǔn)遣黄匠５?。但所有的Centrotherm管式爐（擴(kuò)散爐和等離子CVD-爐）將會被鏈接到主機(jī)上。以太網(wǎng)絡(luò)被用于數(shù)據(jù)傳遞，主機(jī)式擴(kuò)散系統(tǒng)中的一部分。若沒有其他異常說明，軟件及手冊的語言將采用英文表述。3.1 CESAR-控制計算機(jī)每個系統(tǒng)都安裝型號為CESAR的控制計算機(jī)及CESAR的軟件。此控制計算機(jī)，ITPC，獨立于主電腦系統(tǒng)中。控制電腦安裝在現(xiàn)場總線接口上，HDD和一系列操作系統(tǒng)（監(jiān)視器，過熱等）之上。管計算機(jī)和爐

14、處理計算機(jī)的用戶界面，是一個中心色彩繪圖，觸屏展示界面。電子計算機(jī)有以下特色和功能Ø特色l編程語言（類似PASCAL）l簡單編程l簡單程序結(jié)構(gòu)l列行程序函式庫l數(shù)據(jù)鏈接變數(shù)（DataLinkVariables）為聯(lián)機(jī)輸入，由主機(jī)提供的程序參數(shù)服務(wù)。l不同的進(jìn)入級別（9層）Ø功能l配方產(chǎn)生和修改n存儲能力10,000 配方n無限量的命令列l(wèi)控制n溫度控制器n氣體系統(tǒng)n裝卸系統(tǒng)n晶片處理系統(tǒng)l可編程的預(yù)警器和破壞程度l在串級情況下，甚至工序進(jìn)行中，自動作斷面圖l無限數(shù)據(jù)記錄用戶定義的進(jìn)程數(shù)據(jù)（硬盤，文件服務(wù)協(xié)議）l以太網(wǎng)絡(luò)面板和軟件證書(文件服務(wù)器協(xié)議客戶端配套元件)NFS-C

15、lientKitl對于有2個及以上的工藝管每個系統(tǒng)來說，系統(tǒng)中以太網(wǎng)絡(luò)線路達(dá)到一個8個端口集線器用10個跳線電纜3.2CCC-RM儲控系統(tǒng)3.2.1配方編制(Recipe organization)固定配方編制有以下幾部分構(gòu)成Ø自動配方在網(wǎng)絡(luò)伺服器上的備份Ø對于管配方的授權(quán)Ø配方版本控制ØASCII碼輸出/入 CESAR 配方Ø定義和修改配方3.2.2 ProtGrofCESAR 通訊協(xié)議分析企業(yè)許可證就ProtGrof套裝軟件而論，ProtGrof是一組為由管計算機(jī)（在調(diào)試或待命狀態(tài)下），生成的程序數(shù)據(jù)，而進(jìn)行數(shù)據(jù)分析的編程。程序包括以下功能

16、Ø數(shù)據(jù)的提取模組將流程通訊協(xié)議轉(zhuǎn)換為Excel可以相容的圖表Ø流程數(shù)據(jù)的圖形表示像模塊一樣的，Excel將為選定的流程工序或時間間隔，顯示數(shù)據(jù)（溫度、氣體流程、鍍膜舟位置等）Ø流程數(shù)據(jù)的列表表示模塊將為選定的流程工序或時間間隔顯示流程通訊協(xié)議。對于顯示數(shù)據(jù)組（預(yù)警、設(shè)定點、操作或系統(tǒng)登陸）是可以選擇的。3.2.3遠(yuǎn)程控制程序為管計算機(jī)的遠(yuǎn)程控制程序的企業(yè)許可證。它允許每個通過以太網(wǎng)連接到爐系統(tǒng)的計算機(jī)，來遠(yuǎn)程控制一個指定程序。通過遠(yuǎn)程控制的所有功能，管計算機(jī)都可以接收。3.2.4維修監(jiān)督Ø維修日程編制Ø不間斷的維修控制Ø維修歷史3.3

17、 CCC-PCCCC系統(tǒng)的程序控制是建立在個人電腦或工作站的基礎(chǔ)之上，而他們都是通過以太網(wǎng)與管計算機(jī)和電腦主機(jī)計算機(jī)相連。網(wǎng)絡(luò)允許數(shù)據(jù)在一個或多個存儲控制器和所有管計算機(jī)間傳輸。這種標(biāo)準(zhǔn)界面以太網(wǎng)的應(yīng)用，使得系統(tǒng)簡單地融入到不同種基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中。存儲控制可以安裝在凈室，陰暗房間或辦公室內(nèi)。3.3.1計算機(jī)控制計算機(jī)控制組件包括CCC軟件運(yùn)行需要的硬件組件Ø15寸薄膜晶體管彩顯Ø大于40G硬盤(40G HDD)Ø壓縮驅(qū)動（Zipdrive）l整個系統(tǒng)的備份（1:1的硬盤影像備份）l數(shù)據(jù)、協(xié)議和通訊協(xié)議文件的備份l媒體的升級安裝ØCD-ROM 驅(qū)動Ø鍵

18、盤和鼠標(biāo)Ø以太網(wǎng)界面板（Ethernet-Interface-board）ØNFS軟件許可證（便于在服務(wù)器上存儲所有的配方和配方數(shù)據(jù)）3.3.2遠(yuǎn)程服務(wù)的接入為了遠(yuǎn)程服務(wù)的目的，安裝了依靠電話系統(tǒng)模擬或ISDN調(diào)制解調(diào)器。通過Modem的連接，軟件部門或其他被授權(quán)人可以操作管計算機(jī)和存儲控制器的遠(yuǎn)程服務(wù)。3.4可選擇的持續(xù)供電器（USV10）持續(xù)供電器USV10，在供電失敗后最多保證融解/LPCVD系統(tǒng)運(yùn)行10分鐘。安裝USV10的附加系統(tǒng)不受安裝主電動機(jī)的限制。Ø管計算機(jī)Ø供氣系統(tǒng)Ø裝載系統(tǒng)3.5信號塔通常來說，對于生產(chǎn)上的每個獨立的流程和操

19、作階段來說，運(yùn)用不同的制造系統(tǒng)，并且每個都通過自己的方法用聲學(xué)與光學(xué)的信息與他們的狀況相聯(lián)系。因此，所有的信號需要一個標(biāo)準(zhǔn)定義。操作人員不需用知道每個單獨的系統(tǒng)，就可以分析現(xiàn)狀和啟動需要的操作。這樣，高水平的安全操作及生產(chǎn)線的可利用性才能得到保證。3.5.1光塔顏色和可聽見的警示暗號這份說明基于非官方SEMI S2(1999)的一部分。延伸部分是根據(jù)操作處理系統(tǒng)的特殊要求而設(shè)計。注意：在不需要的情況，藍(lán)燈顏色將沒有敘述序號顏色間歇或連續(xù)的蜂音器解釋舉例1紅色持續(xù)開有風(fēng)險的、危險的或者需要注意的 ，非常情況壓力/溫度超過安全底線；電壓降低或衰竭；超過停止位置運(yùn)行，指示、保護(hù)裝置使機(jī)器停止，例如：

20、過載2紅色持續(xù)關(guān)同序號1盡管蜂音器關(guān)掉，但警報情況還存在或沒有被確認(rèn)3黃色持續(xù)關(guān)不正常，注意及邊緣情況改變或?qū)l(fā)生的需要；指導(dǎo)的危險情況和或調(diào)?；蚵?lián)傳資料（如：重改預(yù)期的功能）壓力/溫度超過正常的限制;一些閥接近它們的允許范圍; 材料緩沖器變空/滿。4黃色間歇關(guān)在操作或運(yùn)行設(shè)備的特殊情況下發(fā)生安全設(shè)備：通路開關(guān)短路5綠色持續(xù)關(guān)設(shè)備情況：設(shè)備準(zhǔn)備好 壓力/溫度在正常范圍內(nèi),一切情況正?；蜓h(huán)完畢，設(shè)備正在運(yùn)行或設(shè)備準(zhǔn)備好等待運(yùn)行6綠色間歇關(guān)異常情況，情況似序號5，但機(jī)器不是在自動循環(huán)種7藍(lán)色持續(xù)關(guān)自由進(jìn)入那些被系統(tǒng)拒絕部分用戶在處理錯誤的需要調(diào)停的系統(tǒng)8藍(lán)色間歇關(guān)自由進(jìn)入那些被系統(tǒng)拒絕部分，但還

21、沒被確認(rèn)用戶在處理錯誤的需要調(diào)停系統(tǒng)，但目前循環(huán)需要先完成3.5.2同時發(fā)生的信號顏色a 紅色排斥綠色、黃色b 綠色和黃色可能同時發(fā)生c 藍(lán)色和黃色可能同時發(fā)生d 藍(lán)色和紅色可能同時發(fā)生3.5.3可聽信號如果相臨系統(tǒng)很難分開，且整個信號單元都是可以編程的，那么聲音的音調(diào)或蜂音長短可以調(diào)整。3.5.4信號塔的位置可以安裝在裝卸區(qū)的前面或用戶的窗上，可以根據(jù)客戶的需要安裝在不同的地方或安裝多個信號塔。4 溫度控制系統(tǒng)4.1 REG97溫度控制系統(tǒng)Ø數(shù)字溫度控制（模糊加強(qiáng)PID）Ø內(nèi)仿形切削（in situ profiling）Ø模型基于彎道的控制Ø加強(qiáng)恢復(fù)能

22、力Ø測量分析l溫度分析：+/-0.1l設(shè)定點分析：+/-1l溫度精確度：+/-0.254.2 仿形切削設(shè)備仿形切削設(shè)備由每個加熱區(qū)的一個熱電偶組成。熱電偶的型號及標(biāo)準(zhǔn)參考技術(shù)結(jié)構(gòu)配置部分。4.3 帶內(nèi)仿形切削的串級溫度控制系統(tǒng)串級溫度控制系統(tǒng)，利用仿形切削熱電偶中加入額外的釘熱電偶。這樣允許在工序過程中測量管內(nèi)的真實溫度。為了充分利用系統(tǒng)的反應(yīng)，因此溫度控制在每個區(qū)由兩個串聯(lián)的PID-控制器來完成。這樣設(shè)置的以下優(yōu)點Ø縮短響應(yīng)時間Ø便于明確溫度的變化Ø良好的流程穩(wěn)定性Ø動力特性的反應(yīng)不受組能力的控制Ø內(nèi)仿形切削可選在流程階段進(jìn)行。獨立

23、仿形切削運(yùn)行，沒有時間消耗。5 清潔器在管封閉的區(qū)域，氣體排放系統(tǒng)被構(gòu)建在像矩形的不銹鋼的房間一樣。每個房間的氣體排放都連接在主排氣管道上。排氣能力可由每個房間的滑動閥來單獨調(diào)整。在真空和封閉管式系統(tǒng)中，清潔器僅有備用和冷卻功能。（emergency and cooling functions）6 晶片處理系統(tǒng)6.1 外部、自動晶片處理的界面外部、自動晶片處理系統(tǒng)可以附加在這個系統(tǒng)上外部、自動晶片處理系統(tǒng)的連接，由工藝鍍膜舟傳遞系統(tǒng)來完成此裝備需要以下幾個Centrotherm部件Ø工藝鍍膜舟的電梯Ø工藝鍍膜舟的存儲設(shè)備Ø工藝鍍膜舟的傳送系統(tǒng)6.1.1工藝鍍膜舟的

24、的傳送系統(tǒng)（滑送帶）傳送系統(tǒng)使工藝鍍膜舟在外部晶片處理系統(tǒng)與電梯之間的傳送。穩(wěn)定狀態(tài)操作按以下次序運(yùn)行l(wèi)當(dāng)流程完成，相應(yīng)工藝管的軟著陸系統(tǒng)，會把帶有加工過的晶片的工藝鍍膜舟帶出。l鍍膜舟由電梯帶到一個等待的位置，以便其冷卻下來。l同時，滑送帶將剛裝好的鍍膜舟，由外部裝載機(jī)器送到爐的裝載箱內(nèi)。l電梯把剛剛的鍍膜舟，放到軟著陸系統(tǒng)架上。l軟著陸系統(tǒng)將鍍膜舟帶進(jìn)流程管中，流程開始啟動。l之后，電梯將把在前一個流程中已冷卻下來的鍍膜舟，從相應(yīng)的等待位置搬出來，并放到滑送帶上。l傳送帶再將鍍膜舟移出到外部裝卸機(jī)器的鍍膜舟處理系統(tǒng)中。6.2手動晶片處理系統(tǒng)界面此裝備需要以下Centrotherm部件

25、16;工藝鍍膜舟電梯Ø工藝鍍膜舟儲存設(shè)備Ø電車通道6.2.1傳送裝置在PECVD 系統(tǒng)中，等離子鍍膜舟由電車上的電梯自動傳遞。電車。自動、精確地被安裝在機(jī)器內(nèi)。6.2.2傳送臺（電車）電車從機(jī)器中移出是人工操作的，并且用作鍍膜舟在整個工作站中的支撐物。Ø冷卻站Ø裝/卸站電車的頂部可加一些傾斜度。以方便，人工地將晶片放到鍍膜舟上。6.2.3外部冷卻站冷卻站為加速冷卻，將冷空氣流向上吹過鍍膜舟。熱空氣由鍍膜舟頂上的頭罩收集起來。此頭罩與建筑上的排氣系統(tǒng)相連。6.2.4外部晶片的裝/卸系統(tǒng)為了使得鍍膜舟在裝/卸過程中處于清潔環(huán)境，這些安放鍍膜舟電車的工作站，被

26、放置在薄片流水線的頭罩下。工作站包括晶片的插盒。7 鍍膜舟處理系統(tǒng)7.1 處理工作站類型：普通的凈室裝載站設(shè)計得像普通的凈室一樣直到1000級。在建立時，整個裝載區(qū)用透明滑門來保護(hù)環(huán)境一般情況，裝載站為了更好的凈室級別而設(shè)計的。但在光伏電池應(yīng)用中，熱負(fù)擔(dān)太強(qiáng)，以至于為縮短平衡，需要在那些產(chǎn)生紊亂和降低凈室區(qū)的質(zhì)裝載部分，安裝額外的冷卻裝置 7.2過濾氣流系統(tǒng)Ø完整的冷卻系統(tǒng)Ø過濾器污染標(biāo)準(zhǔn)由電子系統(tǒng)控制Ø氣流速變化的Ø照明白色Ø套風(fēng)扇部分用油漆過的鐵片，不涂聲音吸收層。HEPA過濾器后面的地方用有洞的V2A切片蓋住。Ø風(fēng)扇低壓放射扇&

27、#216;預(yù)過濾器預(yù)過濾器由99%功率（石英顆粒1µm）纖維組成Ø高效微?？諝膺^濾器0.0125µm高效微?？諝膺^濾器，特殊的“S”等級，根據(jù)POP測試法有99.999%的效率(顆粒0.3µm)7.3 管式裝載系統(tǒng)自動管式裝載系統(tǒng)是為軟著陸操作配置的軟著陸結(jié)構(gòu),可以在沒有機(jī)械修改的情況用到懸臂式模型中.系統(tǒng)主要特征Ø控制l現(xiàn)場總線l自由可編程的位置和速度(線性馬達(dá))l在無電的情況下,信號桿位置的保存,由同時吹積附注.Ø簡單,平穩(wěn)的線性馬達(dá)有l(wèi)兩個平行,復(fù)合支撐的導(dǎo)向槽.l齒帶lDC-電動吹積Ø穩(wěn)定的上下運(yùn)動l同步齒帶驅(qū)動裝載

28、機(jī)器Ø內(nèi)在電磁場的滑動離合器l在斷電或維護(hù)期間,允許信號桿的手工操作l一旦發(fā)生閉塞,將保護(hù)系統(tǒng)免于損壞Ø機(jī)器為了區(qū)別于薄片輸送區(qū)被鍍上了不銹鋼涂層.7.4 工藝鍍膜舟梯工藝鍍膜舟梯,使鍍膜舟在鍍膜舟運(yùn)輸系統(tǒng)和規(guī)定裝載板或倉位間移動.在載板或儲存室的迫冷時間，可以設(shè)定.完整的爐裝載區(qū)的電梯系統(tǒng),不需要額外的凈室空間。7.5 工藝鍍膜舟存儲室為了最大限度利用流程管,存儲室被用作緩沖器。一旦工藝管被運(yùn)行的配方堵住。已裝載的工藝鍍膜舟被留在空的儲存位置。在運(yùn)行流程結(jié)束后，熱的工藝鍍膜舟將直接被送到空的儲存位，在那里接受可編程的冷卻結(jié)果。在等待后，已裝工藝鍍膜舟由電梯自動移到板上。這

29、樣，新的流程不用等待晶片冷下來后，就可以開始了。8 管的封閉系統(tǒng)8.1 自動的管封閉（軟著陸）自動的管封閉裝置建立在壓縮空氣凈化系統(tǒng)之上。8.2 低壓程序低壓程序的管封閉由水冷卻的不銹鋼真空法蘭和絕熱不銹鋼門組成。PECVD系統(tǒng)在門上安有石英窗。8.3法蘭背面8.4 低壓程序（PECVD）工藝管的襯墊設(shè)計緊貼在水冷卻的不銹鋼法蘭和不銹鋼板的背部。在托盤中，2個Ultrato 12mm+/-0.35mm的連接點（1×氣注器，1×壓型組建），2個RF-連通線和一個石英窗被結(jié)合在一起。9 空氣系統(tǒng)柜（GVS）空氣系統(tǒng)柜包括所有架子的空氣處理和真空設(shè)備（泵除外）。Ø所有用

30、在爐中的空氣系統(tǒng)種類都有一個主要氣體系統(tǒng)配置，包括：l主栓閥（手動操作）l帶有壓力表的壓力調(diào)節(jié)器l輸入過濾器的晶片向?qū)分發(fā)管Ø為所有有毒的,活性的氣體的帶有檢閥的氮凈化設(shè)備Ø電鍍不銹鋼管(316L)Ø所有配件是帶有VA薄片墊圈的VCRØ所有镕接都是有軌道的Ø小型焊接件用于防止偏差Ø氣源柜的前排門由丙烯酸玻璃制造的Ø漏電比率好于3×10-8I mbar/secØ裝配在環(huán)境等級100的環(huán)境中Ø氣體系統(tǒng)為裝氮氣傳送。9.1 氣體供應(yīng)線草圖10 氣體/真空系統(tǒng)10.1 管式氣體/真空系統(tǒng)地描述10.1

31、.1 PECVD-氮化法Ø壓縮空氣操作振動膜閥（Nupro,Parker）Ø手工的振動膜套的大量的止閥ØMFC氣線（數(shù)字的(設(shè)備網(wǎng))）,金屬密封的)SiH4 1,8 slmNH3 10,8 slmC2F6 3,6 slmO2 3 slmN2 15 slmØ工藝氣體從裝載邊進(jìn)入Ø裝有量閥的排氣線:氮氣Ø氮氣凈化為SiH4, NH3裝上檢閥Ø真空系統(tǒng)l真空泵系統(tǒng)nEbara Pump AAS100 Wl壓力測量n能力轉(zhuǎn)換,利用壓力規(guī)則,范圍0-10 Torr,無加熱l壓力控制n壓力控制器n壓力控制閥(蝶閥)DN63l門閥DN63

32、l真空管段DN6310.2 氣體/真空系統(tǒng)略圖以下略圖是Centrotherm系統(tǒng)的大概框架.每個套盒的發(fā)放范圍在氣體/真空系統(tǒng)部分有敘述.10.2.1工藝管氣供應(yīng)線(真空,氮凈化)10.2.2真空系統(tǒng)(每個套盒)10.23 真空泵每個工藝管都有各自的專一的真空泵。通常情況，只在干燥的過程中，才使用兩多級泵。對于CVD-System E 2000 HT-410-4系統(tǒng)，通常用Eara制造的泵。泵型號：AAS 100 WN泵速：10.000 l/min最終壓力：1,0x10-3 Torr連線：NW 63發(fā)動機(jī): 2.0 and 4.5 kW冷卻水最大壓力：4 Bar最小差壓1Bar流速 3.5

33、to 8 l/minN2- 純化流動速度 11 13 l/min泵由數(shù)控器控制。泵情況的信號描述被傳遞到PECVD和隨后的廢氣清潔器中。11 等離子系統(tǒng)11.1 RF 發(fā)電機(jī) 40 HZRF-動力由RF發(fā)電機(jī)提供. RF發(fā)電機(jī)有以下特點Ø最大RF 輸出: 10 KWØRF頻率：40 kHzØ裝配網(wǎng)絡(luò)Ø脈沖RF輸出12 套盒配件12.1 流程管12.1.1石英流程管Ø真空工藝lID:380mmAD:388mm12.2 裝載板12.1 Sic 板PECVDØ標(biāo)準(zhǔn)Sic 板（懸臂/軟著陸）12.3工藝鍍膜舟12.3.1鍍膜舟（豎直的）Ø156 mm×156mm 或 6× 6l17托盤，192晶片（32×6）Ø210mm×210 mm或8× 8l17托盤，128晶片（32×4）13 培訓(xùn)13.1 維修培訓(xùn)在客戶的地方安裝機(jī)器期間，維修培訓(xùn)（修理服務(wù)）也在進(jìn)行。這種培訓(xùn)使服務(wù)人員有能力診斷失誤，并且直接修理，或者在Centrotherm 服務(wù)部的電話或遠(yuǎn)程接入的指導(dǎo)下修理。13.2 系統(tǒng)培訓(xùn)系統(tǒng)培訓(xùn)的范圍是對爐系統(tǒng)和流程控制系統(tǒng)（工藝編程、工藝