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文檔簡(jiǎn)介

1、 X射線衍射與儀器(綜合第5、6、7章)一、單晶衍射(簡(jiǎn)介)二、多晶衍射1、成相原理(衍射幾何)2、照相法3、衍射儀三、X射線衍射譜X射線衍射的實(shí)驗(yàn)方法分類按樣品類型:?jiǎn)尉а苌?多晶(粉末)衍射按成相原理:勞厄法(多色X射線、靜止的單晶) 轉(zhuǎn)動(dòng)晶體法(單色X射線、轉(zhuǎn)動(dòng)的單晶) 多晶(粉末)衍射(單色X射線、靜止或振動(dòng)的多晶、粉末)按記錄方式:照相法(照相底片記錄衍射花樣) 衍射儀法(輻射探測(cè)器記錄衍射線)一、單晶衍射(簡(jiǎn)介)1、勞厄法:多色X射線、靜止的單晶2、轉(zhuǎn)動(dòng)晶體法:?jiǎn)紊玐射線、轉(zhuǎn)動(dòng)的單晶 周轉(zhuǎn)晶體法、回?cái)[法、韋森堡和旋進(jìn)照相法 四圓衍射儀法(晶體三維轉(zhuǎn)動(dòng))http:/www.matte

2、.uk/diffraction/x-ray/18/wiki/index.php/Unit-2:_Introduction_to_X-ray_diffractionsilicon crystal 背射法透射法晶帶軸晶帶O*晶帶軸倒空間中過(guò)一個(gè)倒易點(diǎn)陣座標(biāo)原點(diǎn)的平面上的倒易結(jié)點(diǎn)代表的晶面,在正空間中屬于 同一個(gè)晶帶O*晶帶軸O*晶帶軸O*晶帶軸O*晶帶軸http:/ =45時(shí),得到的是拋物線;當(dāng)9045時(shí),在背射勞厄像上得到雙曲線,當(dāng)=90時(shí),則得到的是過(guò)底片 中心的直線。 Al單晶勞厄像(透射)晶帶軸O*Al單晶勞厄像(背射)http:/ 3. Sc

3、hematics of X-ray* cameras for investigating single crystals: (a) camera for investigating stationary single crystals by the Laue method, (b) rotating camera, (c) camera for determining the dimensions and form of the unit cell; (S) specimen, (GH) goniometric head, (7) graduated circle and axis of ro

4、tation of the goniometric head, (CL) collimator, (C) cassette containing photographic film PF, (CB) cassette for obtaining back-reflection photographs, (MR) mechanism for rotating or oscillating the specimen, () graduated circle and axis of oscillation of the specimen, () arc guide for inclination o

5、f axis of the goniometric head. In the schematic of the rotating camera, diffraction maxima lying on the layer lines can be seen on the photographic film; when rotation is replaced by oscillation of the specimen, the number of reflections on the layer lines is limited by the angle of oscillation. Ro

6、tation of the specimen is accomplished by means of the gears 1 and 2; oscillation is produced by the cardioid 3 and lever 4.入射光和探測(cè)器在一個(gè)平面內(nèi)(稱赤道平面), 晶體位于入射光與探測(cè)器的軸線的交點(diǎn),探測(cè)器可在此平面內(nèi)繞交點(diǎn)旋轉(zhuǎn),因此只有那些法線在此平面內(nèi)的晶面族才可能通過(guò)樣品和探測(cè)器的旋轉(zhuǎn)在適當(dāng)位置發(fā)生衍射并被記錄。如何讓那些法線不在赤道平面內(nèi)的面族也會(huì)發(fā)生衍射并能被記錄呢?辦法是讓晶體作三維旋轉(zhuǎn),有可能將那些不在赤道平面內(nèi)的晶面族法線轉(zhuǎn)到赤道平面內(nèi),讓其發(fā)生衍射,

7、四圓衍射儀正是按此要求設(shè)計(jì)的。此法曾經(jīng)是二十世紀(jì)八,九十年代的主要實(shí)驗(yàn)方法。此衍射儀的特點(diǎn)是用閃爍計(jì)數(shù)器逐點(diǎn)記錄各衍射,因此比較費(fèi)時(shí),常常需要幾天甚至超過(guò)一個(gè)星期的時(shí)間。圓、圓和圓用于調(diào)節(jié)晶體的取向,使某一指定的晶面滿足衍射條件,同時(shí)調(diào)節(jié)2圓,使衍射線進(jìn)入計(jì)數(shù)器中(常用閃爍計(jì)數(shù)器作探測(cè)器)。3、四圓衍射儀/atomiccontrol/education/xray/xray_diff.php二、多晶衍射(粉末衍射)1、厄瓦爾德圖解2、衍射幾何2、照相法3、衍射儀輻射源:?jiǎn)紊玐射線(標(biāo)識(shí)譜)樣 品:粉末樣品(尺寸:10-310-5cm,靜止、旋轉(zhuǎn)或振動(dòng))

8、多晶樣品(塊、片、絲) (靜止或旋轉(zhuǎn))記錄方式:照相法(底片:德拜-謝樂(lè)法、針孔法、聚焦法、影像板) 衍射儀法(探測(cè)器:電離室、氣體計(jì)數(shù)管器、閃爍計(jì)數(shù)器、固體探測(cè)器、陣列探測(cè)器、位敏探測(cè)器、CCD )1、厄瓦爾德圖解衍射線:是以入射線為公共軸的圓錐的母線,錐頂角為4前反射區(qū):透過(guò)樣品,衍射線與入射線的夾角(衍射角2)902多晶體衍射示意圖多晶體衍射示意圖 樣品由微小晶粒組成晶粒取向完全無(wú)規(guī)則各晶粒中d值相同的晶面取向分布于空間的任意方向這些晶面對(duì)應(yīng)的倒易矢量分布于倒易空間的各個(gè)方向它們的倒易陣點(diǎn)分布在以倒易矢量長(zhǎng)度為半徑的倒易球面上各等同晶面族HKL的倒易陣點(diǎn)分別分布在以倒易點(diǎn)陣坐標(biāo)原點(diǎn)為球心

9、的同心倒易球面上多晶體衍射的厄瓦爾德圖解多晶體衍射的厄瓦爾德圖解 1/ O*h k lh k l反射球反射球倒易球倒易球入射線入射線衍射衍射線線4反射球與倒易球相交時(shí),其交線為垂直于入射線的圓從反射球的球心向這些圓周連線,組成數(shù)個(gè)以入射線為公共軸的共頂圓錐,圓錐的母線即是衍射線方向。錐頂角為4,這些共頂圓錐稱為衍射圓錐。2、衍射幾何(1)德拜謝樂(lè)衍射幾何(D-B)(2)聚焦幾何 西曼包林衍射幾何(S-B) 晶體單色器與單晶聚焦 紀(jì)尼葉衍射幾何(3)布拉格勃朗泰諾衍射幾何(B-B)(1)德拜謝樂(lè)衍射幾何(D-B)德拜謝樂(lè)衍射粉末衍射示意圖(a)圓錐狀衍射 (b)展開的環(huán)狀底片(2)聚焦幾何 西曼

10、包林衍射幾何(S-B)西曼-包林幾何( Seemann-Bohlin S-B )S-B相機(jī):扁的金屬圓筒照相底片:襯于圓筒內(nèi)壁樣品:與圓筒曲率相同的弧形板,其表面與圓筒內(nèi)壁一致發(fā)散度較大的入射X射線束,照射試樣上較大區(qū)域,由粉末多晶試樣中多個(gè)晶粒的同hkl面滿足衍射條件,發(fā)生的衍射在照相底片上可聚焦集中到F點(diǎn)。 彎晶單色器平晶單色器 晶體單色器與單晶聚焦平晶單色器:利用單晶體的衍射性質(zhì),按滿足2dsin= ,得到單一波長(zhǎng)的輻射??煞珠_K1, K2, K 。只能利用入射光束中的平行光部分彎晶單色器:將單晶體表面彎曲成曲面,與平晶單色器相比,同時(shí)還具有聚焦作用 紀(jì)尼葉衍射幾何紀(jì)尼葉相機(jī)是將彎曲晶體

11、單色器與聚焦相機(jī)結(jié)合而成的衍射方法。(3)布拉格勃朗泰諾衍射幾何(B-B)http:/www-crismat.ensicaen.fr/spip.php?article478&lang=enhttp:/www.dep.fmph.uniba.sk/mambo/index.php?option=content&task=view&id=259X射線粉末衍射儀中平板樣品的準(zhǔn)聚焦 (忽略X射線的軸向發(fā)散) 3、照相法(1)德拜謝樂(lè)法(2)平面底片照相法平面底片照相機(jī)可分為透射和背射兩種,與勞厄相機(jī)相似。因此,多晶平面底片照相也可以在勞厄相機(jī)上進(jìn)行,主要優(yōu)點(diǎn)是可以攝取完整的衍射圓環(huán)。Wide-angle

12、x-ray scattering apparatus, a 2D diffractometer at the Department of Physical Sciences, University of Helsinki, Finland The detector end of a simple x-ray diffractometer with an area detector. The direction of the x rays is indicated with the red arrow. /wiki/File:2D_x-ray

13、_diffractometer_at_University_of_Helsinki_in_English.JPG3、影像板(4)平面探測(cè)器3、衍射儀接受和記錄衍射X射線,以獲得試樣結(jié)構(gòu)信息的儀器。http:/ 高穩(wěn)定度X射線源提供測(cè)量所需的X射線, 改變X射線管陽(yáng)極靶材質(zhì)可改變X射線的波長(zhǎng), 調(diào)節(jié)陽(yáng)極電壓可控制X射線源的強(qiáng)度(2) 樣品及樣品位置取向的調(diào)整機(jī)構(gòu)系統(tǒng)。樣品須是單晶、粉末、多晶或微晶的固體塊。(3) 射線檢測(cè)器檢測(cè)衍射強(qiáng)度或同時(shí)檢測(cè)衍射方向, 通過(guò)儀器測(cè)量記錄系統(tǒng)或計(jì)算機(jī)處理系統(tǒng)可以得到多晶衍射圖譜數(shù)據(jù)。(4) 衍射圖的處理分析系統(tǒng)現(xiàn)代X射線衍射儀都附帶安裝有專用衍射圖處理分析軟件

14、的計(jì)算機(jī)系統(tǒng), 它們的特點(diǎn)是自動(dòng)化和智能化。衍射測(cè)角部分是衍射儀器的核心部分入射線光路測(cè)角器和樣品架衍射線和光路探測(cè)器(1)入射線光路 對(duì)X射線源發(fā)生的原始X射線束進(jìn)行加工處理,控制其光譜性能、光束的發(fā)散度、光束的尺寸等。 由各種反射鏡、單色器、狹縫等光學(xué)元件組成(2)測(cè)角儀和樣品架: 測(cè)角器:安放試樣、規(guī)定衍射中各種幾何關(guān)系的裝置 樣品架:安裝試樣并給試樣創(chuàng)造一定環(huán)境條件的裝置。環(huán)境條件包括溫度、壓力、氣氛或機(jī)械運(yùn)動(dòng)(轉(zhuǎn)動(dòng)、振動(dòng)或拉伸等)。(3)衍射線光路 排除散射線、提高衍射線的信噪比、控制進(jìn)行探測(cè)器的信號(hào)強(qiáng)度。 由散射狹縫、索拉狹縫、晶體單色器、接收狹縫等光學(xué)元件組成(4)探測(cè)器 探測(cè)衍

15、射X射線并測(cè)量其強(qiáng)度,包括探頭(計(jì)數(shù)管)和前置放大器等 一般,依據(jù)衍射幾何,試樣需要相對(duì)于入射光束作某種轉(zhuǎn)動(dòng),探測(cè)器也跟著做某種轉(zhuǎn)動(dòng)以捕捉到衍射線。一、密封式一、密封式X射線管射線管1. 玻璃密封X射線管2. 精密陶瓷X射線管3. 細(xì)聚焦X射線管4. 準(zhǔn)單色X射線管(第二陽(yáng)極受X射線激發(fā)發(fā)射熒光X射線以獲得準(zhǔn)單色X射線) 二、旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極(轉(zhuǎn)靶)二、旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極(轉(zhuǎn)靶)X射線發(fā)生器射線發(fā)生器1.旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極靶X射線管2. 超高功率轉(zhuǎn)靶X射線發(fā)生器3. 低壓高電流轉(zhuǎn)靶X射線發(fā)生器4. 高能X射線發(fā)生器5. 細(xì)聚焦流轉(zhuǎn)靶X射線發(fā)生器三、高強(qiáng)度脈沖三、高強(qiáng)度脈沖X射線源射線源1. 等離子體2. 高能閃光X射線源

16、3. 激光驅(qū)動(dòng)的X射線源四、四、X射線激光射線激光五、同步輻射五、同步輻射X射線源射線源X X射線源射線源材料學(xué)院 姜鋒實(shí)驗(yàn)室實(shí)驗(yàn)室X射線源射線源1. 高功率:轉(zhuǎn)靶射線發(fā)生器 常用:18kW(12kW), 60kV 300mA 最高:90kW, 150kW,(常規(guī):2.4kW、60kV、80mA) 高頻高壓發(fā)生器:穩(wěn)定度高、體積小2. 高亮度:微小焦點(diǎn)、節(jié)能, 亮度大于轉(zhuǎn)靶 Oxford, Rigaku3. 精加工陶瓷X射線管(Philips) 配上精加工模塊式的測(cè)角儀、光學(xué)元件 不用調(diào)整的儀器,操作簡(jiǎn)單安全 Drawing shows X-ray tube with additional n

17、egatively charged grid (white arrow) that can be switched on and off to generate discrete pulsed fluoroscopy. Note cathode (curved arrow) and anode (black arrow). 材料學(xué)院 姜鋒UltraBright Microfocus X-Ray Source http:/ 同步輻射(synchrotron radiation)是由以近光速行進(jìn)的電子束在受外在偏轉(zhuǎn)磁鐵的磁力改變運(yùn)動(dòng)方向時(shí)所發(fā)射的電磁波。同步加速器的結(jié)構(gòu)包含電子槍或離子源、線型加速

18、器、偏轉(zhuǎn)磁鐵、真空腔、RF腔、實(shí)驗(yàn)站等。電子或離子首先由電子槍或離子源激發(fā)產(chǎn)生,經(jīng)直線加速器加速到接近光速,再通過(guò)輸送管道進(jìn)入儲(chǔ)存環(huán)。儲(chǔ)存環(huán)是由許多磁鐵組成。粒子在儲(chǔ)存環(huán)旋轉(zhuǎn)處受到偏轉(zhuǎn)磁鐵作用發(fā)生偏轉(zhuǎn),并在直線段持續(xù)加速以保持動(dòng)能,并在儲(chǔ)存環(huán)中作回旋運(yùn)動(dòng),同時(shí)不斷發(fā)出同步光。光束路線將同步光從儲(chǔ)存環(huán)引導(dǎo)出來(lái),憑借內(nèi)部精密的光學(xué)組件將同步光聚焦并選取合適波段的同步輻射送入實(shí)驗(yàn)站??茖W(xué)研究人員在實(shí)驗(yàn)站測(cè)量同步輻射經(jīng)過(guò)物體反射、衍射、散射及透射后的光譜或是探測(cè)物體被光子激發(fā)出的電子、離子等,來(lái)研究物體的結(jié)構(gòu)性能。 圖一:同步輻射設(shè)施架構(gòu)圖二:同步輻射產(chǎn)生原理Schematic view of E4

19、x-ray beamline at Hamburger Synchrotron Radiation Laboratory (HASYLAB) at DESY in Hamburg 北京同步輻射裝置(BSRF)是北京正負(fù)電子對(duì)撞機(jī)國(guó)家實(shí)驗(yàn)室的一部分,是一個(gè)向社會(huì)免費(fèi)開放的大型公共科研設(shè)施。 同步輻射是一種具有高強(qiáng)度、高亮度、高準(zhǔn)直性、具有時(shí)間結(jié)構(gòu)和極化特性,以及從遠(yuǎn)紅外到X射線范圍連續(xù)光譜的先進(jìn)光源。 北京正負(fù)電子對(duì)撞機(jī)同步輻射裝置擁有4個(gè)插入件,14條光束線和14個(gè)實(shí)驗(yàn)站。它的特征能量在2.2GeV專用運(yùn)行模式下高達(dá)5.8GeV,使得同步輻射可以提供20KeV以上的硬X射線。BSRF擁有14個(gè)

20、實(shí)驗(yàn)站:EXAFS實(shí)驗(yàn)站、形貌實(shí)驗(yàn)站、漫散射實(shí)驗(yàn)站、小角散射實(shí)驗(yàn)站、小角散射實(shí)驗(yàn)站、衍射實(shí)驗(yàn)站衍射實(shí)驗(yàn)站、光刻實(shí)驗(yàn)站、LIGA實(shí)驗(yàn)站、光電子能譜實(shí)驗(yàn)站、X射線熒光分析實(shí)驗(yàn)站、高壓研究實(shí)驗(yàn)站、真空紫外實(shí)驗(yàn)站、軟X光學(xué)實(shí)驗(yàn)站、生物大分子晶體學(xué)實(shí)驗(yàn)站、探測(cè)器和中能區(qū)譜學(xué)實(shí)驗(yàn)站。 Powder diffraccion pattern of a silicon sample recorded on a Pixel Array Detector (Dectris PILATUS 6M) Collected on SSRL beamline BL12-2. The strong diffuse scatte

21、r ring originates from the expoxy cement used to bind the Si powder. /wiki/File:Si_powder_diffraction_pattern_indexed.pnghttp:/ 上海光源是一臺(tái)高性能的中能第三代同步輻射光源,它的英文全名為Shanghai Synchrotron Radiation facility,簡(jiǎn)稱SSRF。它是我國(guó)迄今為止最大的大科學(xué)裝置和大科學(xué)平臺(tái),在科學(xué)界和工業(yè)界有著廣泛的應(yīng)用價(jià)值,每天能容納數(shù)百名來(lái)自全國(guó)或全世界不同學(xué)科、不同領(lǐng)域的科

22、學(xué)家和工程師在這里進(jìn)行基礎(chǔ)研究和技術(shù)開發(fā)。 同步輻射光源光學(xué)元件光學(xué)元件1. 單晶體元件 晶體單色器、聚焦元件2. 毛細(xì)管元件 單管聚焦與多管聚焦、單管準(zhǔn)直與多管準(zhǔn)直、拋物線型毛細(xì)管 3. 鍍膜元件 鍍膜反射鏡、多層膜4. 波帶片測(cè)角儀的光學(xué)布置(狹縫系統(tǒng))F 線狀斑S1 Soller光闌H 發(fā)散狹縫M 防散射狹縫S2 Soller光闌G 接收狹縫測(cè)角儀旋轉(zhuǎn)軸C 試樣表面2單色器:?jiǎn)纹骄蜫ohnson聚焦型,石墨,1、2不能分開。雙彎曲單色器。非對(duì)稱單色鏡。雙晶單色器:平晶、弧矢單色器聚焦元件毛細(xì)管聚焦元件氣體計(jì)數(shù)管(蓋革計(jì)數(shù)器,電離室,正比計(jì)數(shù)器)閃爍計(jì)數(shù)器固體探測(cè)器(半導(dǎo)體計(jì)數(shù)器)陣列式

23、固體探測(cè)器(一維,二維)位敏探測(cè)器(一維,二維)影像板(Image Plate IP)電荷耦合探測(cè)器(Charge Coupled Device CCD)探測(cè)器探測(cè)器氣體計(jì)數(shù)管 計(jì)數(shù)管陰極、陽(yáng)極間電壓為200V時(shí),沒(méi)有氣體放大作用,這是電離室的工作區(qū)域 電壓為600900V時(shí),氣體放大因數(shù)為103105,可形成電子“雪崩”效應(yīng),這是正比計(jì)數(shù)器的工作區(qū)域 電壓為10001500V時(shí),氣體放大因數(shù)為108109,計(jì)數(shù)管處于電暈放電區(qū),這是蓋革計(jì)數(shù)器的工作區(qū)域 NaI閃爍檢測(cè)器 閃爍計(jì)數(shù)器能量分辨率較高, 不用單色器可得1掃描型,能量色散型固體探測(cè)器 陣列式半導(dǎo)體計(jì)數(shù)器 HgI2 不需冷卻固體探測(cè)器

24、固體探測(cè)器位敏探測(cè)器位置靈敏探測(cè)器(PSPC)位敏探測(cè)器位敏探測(cè)器影像板(IP)影像板(IP)影像板(IP)電荷耦合探測(cè)器(CCD)核心是一塊芯片像元尺寸 44 m ,光子增益 91,讀出時(shí)間 0.5s10s電荷耦合探測(cè)器(CCD)電荷耦合探測(cè)器(CCD)電荷耦合探測(cè)器(CCD)電荷耦合探測(cè)器(CCD)電荷耦合探測(cè)器(CCD)fig 1 D8 Advance Vario1 Bruker diffractometerhttp:/www-crismat.ensicaen.fr/spip.php?article478&lang=enBruker D8 Advance Vario1 diffracto

25、meter is equipped wih a Johansson monochromator (fig 2) allows to perform recordings of x-rays diffraction diagrams on powder samples, with high resolution, for crystal structures determination and their refinement by Rietveld method. fig 2 theta 2theta Bragg-Brentano geometry Two operating modes ar

26、e available: Reflection ( B r a g g - B r e n t a n o geometry) with a flat sample and transmission ( D e b y e - S c h e r r e r geometry) with a capillary holder (fig. 3).Figure 3: Powder diffractometer in Debye Scherrer geometry and capilary diagram diffraction of NAC.http:/www.terrachem.de/roent

27、genbeugungsanalyse.phphttp:/www.clevelandanalytical.co.nz/X-Ray%20Diffractometers/XRD%20in%20the%20Workplace%20-%20Practical%20XRD%20Techniques%20In%20The%20Workplace中南大學(xué)X射線衍射儀(2012年)編號(hào)編號(hào)設(shè)備名稱設(shè)備名稱生產(chǎn)廠家生產(chǎn)廠家型號(hào)規(guī)格型號(hào)規(guī)格購(gòu)置時(shí)間購(gòu)置時(shí)間所在學(xué)院所在學(xué)院存放地點(diǎn)存放地點(diǎn)1X射線衍射儀日本理學(xué)D/Max 25002003.10材料院特冶樓1032X射線衍射儀Bruker(布魯克)D8 Discove

28、r 25002008.4材料院特冶樓1243X射線衍射儀北京大學(xué)儀器廠BD-861990-11-01材料院特冶樓1034X射線衍射儀日本株式會(huì)社理學(xué)電子TTR 2008-11-01冶金院冶金館1115X射線微區(qū)衍射儀日本理學(xué)公司D/max Rapid IIR2009-05-21地學(xué)院地學(xué)樓1296X射線衍射儀丹東奧龍射線儀器有限公司Y20002006-10-01物理院南校區(qū)二教3067X射線衍射儀西德西門子公司D 5001998-10測(cè)試中心科技樓2098X射線衍射儀丹東浩元儀器有限公司DX-27002011-12-9資生院生物樓4089射線衍射儀日本理學(xué)D/max2550PC1977-01-

29、01粉冶院5、X射線衍射譜1. 試樣制備要求試樣的粒度:試樣的粒度:一般要求用過(guò)325目篩子的粉末(約40m),要測(cè)量到良好的衍射線,晶粒大小應(yīng)為0.110m。試樣晶粒過(guò)大,實(shí)際參加衍射的晶粒數(shù)目過(guò)少,使衍射強(qiáng)度降低。試樣晶粒太小( 0.1m ),會(huì)導(dǎo)致衍射線的寬化。試樣的大小、厚度與表面質(zhì)量試樣的大小、厚度與表面質(zhì)量:試樣的表面積大于X射線的照射區(qū)。試樣的厚度通常為1.52 mm,以獲得最大的接收強(qiáng)度和較好的強(qiáng)度測(cè)量重現(xiàn)性。試樣表面的平整狀況影響所測(cè)衍射線的位置、形狀與強(qiáng)度。由于X光入射線僅能穿透試樣的表面層(如用CuK照W試樣,1.5m厚的表面所貢獻(xiàn)的衍射強(qiáng)度約為總強(qiáng)度85%),因此要特別

30、注意試樣的表面質(zhì)量,必要時(shí)可用化學(xué)試劑蝕刻試樣表面。避免產(chǎn)生擇優(yōu)取向:避免產(chǎn)生擇優(yōu)取向:只有當(dāng)試樣中的晶粒取向是隨機(jī)分布時(shí),所測(cè)試的衍射線相對(duì)強(qiáng)度才與理論值大體一致,才具有代表性。樣品制備:樣品制備: 固體塊狀樣品需加工出一個(gè)1812mm2平面。要注意加工過(guò)程不要引起擇優(yōu)取向,需要應(yīng)通過(guò)適當(dāng)?shù)耐嘶鹛幚怼?粉末樣品制備的最常用的方法是研磨后過(guò)篩,再壓片法或涂片法將粉末壓制在制樣框上 壓片法:把制樣框反放在玻璃平面上,將粉末灑入制樣框的窗口中,再將樣品壓緊,小心地把制樣框從玻璃平面上拿起 涂片法:把粉末撒在一片大小約 25351mm3的顯微鏡載片上,然后加上足夠量的丙酮或酒精,使粉末成為薄層漿液狀

31、后再均勻地涂布在制樣框上2. 衍射全圖的獲得 當(dāng)需要得知某試樣的全部衍射線位置和強(qiáng)度時(shí),就要測(cè)試該試樣的衍射全圖(連續(xù)掃描),稱衍射圖樣。3. 單峰測(cè)試 在某些場(chǎng)合,需要準(zhǔn)確測(cè)試出一條衍射線的形狀和位置。這里,可在衍射全圖中找到合適的衍射線后再進(jìn)行細(xì)致的單峰測(cè)試。單峰測(cè)試一般采用步進(jìn)掃描方式。步進(jìn)掃描方式。7.3 衍射信息的獲取1. 衍射線峰位的確定(1)圖形法 峰值法 以衍射線上強(qiáng)度最大值處的角度2作為峰位的定峰位法,稱為峰值法 弦中點(diǎn)法 在衍射線強(qiáng)度1/2或1/3處繪一條平行于背底的弦,以弦中點(diǎn)處角度2作為峰位 弦中點(diǎn)連線法 在強(qiáng)度1/2、2/3、3/4處各繪一弦,將其中點(diǎn)連線并外推到衍射峰輪廓線上,交點(diǎn)處2作為峰位 切線法 對(duì)于峰形較對(duì)稱,寬度較窄的衍射線可采用切線法定峰位從衍射線兩側(cè)各作切線,切線交點(diǎn)處的角度2作為峰位(2)三點(diǎn)拋物線法(3)重心法2. 衍射線的強(qiáng)度峰高強(qiáng)度:峰高強(qiáng)度:用衍射線的最大強(qiáng)度值代表整個(gè)衍射線的強(qiáng)度,也就是以衍射線的峰高來(lái)表示它的強(qiáng)度。在定性相分析時(shí),將譜線中最強(qiáng)的峰強(qiáng)度定為100,其余峰按比例計(jì)算。在通常情況下,可

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