ICP-MS主要技術(shù)指標(biāo)

1、ICP-MS主要技術(shù)指標(biāo)性能指標(biāo)：1儀器應(yīng)用要求本儀器要求能適用于應(yīng)用領(lǐng)域廣泛的各種樣品的元素分析和同位素分析任務(wù)。儀器要求符合美國環(huán)保署標(biāo)準(zhǔn)方法EPA200.8,EPA6020,英國NS30等國際標(biāo)準(zhǔn)要求2. 儀器工作環(huán)境2.1工作環(huán)境溫度：15-30C.2.2工作環(huán)境濕度：<80%（無冷凝）電源:powersupply單相200-240V,50Hz3. 儀器規(guī)格：3.1儀器硬件；3.1.1霧化器：高耐鹽，高精度，高效率同心霧化器，3.1.2霧化室：小死體積，低記憶效應(yīng)，配置Peltier半導(dǎo)體制冷裝置對(duì)霧化室制冷控溫，霧化室制冷溫度控制要求可以達(dá)到<-100C3.1.3接口：N

2、i材料錐口，口徑要求足夠大，以便耐樣品溶液所含的基體。樣品錐口口徑1.1mm,截取錐口徑0.75mm。3.1.4質(zhì)量流量計(jì)：等離子體氣，輔助氣，霧化氣三路質(zhì)量流量計(jì)3.1.4ICP源：27.12MHz固體晶體穩(wěn)頻RF發(fā)生器，頻率穩(wěn)定性<±0.01%3.1.6 RF功率穩(wěn)定性<0.01%3.1.7 真空系統(tǒng)：3.1.7.1J快速三級(jí)高真空系統(tǒng)：工作時(shí)真空度<2X10-6毛，3.1.7.2從大氣壓開始抽至可工作的真空度的時(shí)間小于20分鐘。3.1.8.離子光學(xué)：低背景的離軸四極桿質(zhì)譜儀系統(tǒng)3.1.9四極桿：Mo質(zhì)四極桿，RF頻率2.0MHz3.1.10四極桿質(zhì)譜儀是可靠的

3、免拆洗系統(tǒng)3.1.11脈沖模擬雙模式同時(shí)型電子倍增器，3.1.12 可以在一次樣品測試中同時(shí)完成掃描和跳峰分析3.1.13 等離子體炬位調(diào)整：由計(jì)算機(jī)三維（X,Y,Z方向）控制3.1.14 數(shù)據(jù)采集：擁有60000道以上的多通道數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，以適應(yīng)瞬間信號(hào)分析要求3.1.14.質(zhì)譜范圍：2-255amu3.1.16儀器分辨率在一次樣品分析中可變，以便通過變化分辨率降低干擾，擴(kuò)大分析元素的濃度分析范圍3.2軟件：3.2.1操作系統(tǒng)：Windows2000,多任務(wù)，多用戶系統(tǒng)軟件3.2.2全自動(dòng)分析功能（啟動(dòng)關(guān)閉儀器，炬位調(diào)整，等離子體參數(shù),離子透鏡,其它技術(shù)模式切換等）3.2.3瞬間信號(hào)分析軟件

4、以便與色譜或激光進(jìn)樣系統(tǒng)等連用。3.2.4實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)顯示，和實(shí)時(shí)報(bào)告顯示3.2.4擁有智能化軟件包括：智能進(jìn)樣時(shí)間和智能沖洗時(shí)間，QAQC軟件，智能譜圖解釋軟件，4儀器功能要求4.1定性分析4.1.1帶智能譜圖解釋4.2半定量分析4.2.1要求半定量分析的內(nèi)存工作曲線可以校正*4.2.2要求樣品分析時(shí)能一次同時(shí)完成半定量和全定量分析4.3全定量分析4.3.1全定量分析要求符合美國EPA200.8,EPA6020,NS30等國際標(biāo)準(zhǔn)要求，4.4等離子體炬焰屏蔽技術(shù)分析*4.4.1等離子體炬焰屏蔽技術(shù)要求包括冷焰屏蔽技術(shù)，和熱焰屏蔽高靈敏度模式技術(shù)*4.4.2屏蔽技術(shù)能自動(dòng)切換，并保持穩(wěn)定*4.4.

5、3在一次樣品分析中能自動(dòng)切換冷焰模式和標(biāo)準(zhǔn)模式，并保證樣品中所有分析元素(在二種不同模式中)一次完成分析4.5碰撞池技術(shù)分析*4.5.1碰撞池條件和標(biāo)準(zhǔn)條件的切換為全自動(dòng)化*4.5.2碰撞池技術(shù)配置二個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，并能夠快速切換，切換時(shí)間小于30秒鐘。*4.5.3可以使用簡單碰撞氣體，反應(yīng)性氣體，及混合氣體(NH3/He,H2/He),并可以在一次樣品分析中自動(dòng)切換，擁有更廣泛的應(yīng)用范圍。5.儀器通用技術(shù)指標(biāo)：*5.1靈敏度sensitivity5.1.1低質(zhì)量數(shù)lowmass:>40Mcps/ppm*5.1.2中質(zhì)量數(shù)middlemass:>100Mcps/ppm*5.1.3高質(zhì)

6、量數(shù)highmass:>100Mcps/ppm*5.2隨機(jī)背景radonbackground:<0.5cps(220amu)*5.3儀器信噪比instrumentsignal/noiseratio:>200,000,000(>200M)(信噪比=靈敏度/隨機(jī)背景,1ppmIn溶液計(jì)算)5.4 氧化物離子oxideionlever(MO+/M+)<2%5.5 短期穩(wěn)定性shortstability(RSD):<2%(不用內(nèi)標(biāo))*5.6長期穩(wěn)定性longstability（RSD）:<3%（4小時(shí)）（不用內(nèi)標(biāo)）（使用1ppb標(biāo)準(zhǔn)元素溶液）5.7 質(zhì)譜校正穩(wěn)

7、定性masscalibrationdrift:<0.05amu/一天，<0.1amu/一個(gè)月同位素比精度isotoperatioprecision:<0.2%107Ag/109Ag6.配置要求序號(hào)配置描述數(shù)量1ICPMS臺(tái)式系統(tǒng)包括：整體型，1600W，固態(tài)晶控，27MHzICP發(fā)生器。易操作，敞開式構(gòu)件的進(jìn)樣系統(tǒng)。使用室溫，石英玻璃，帶撞擊球的霧化室和同心玻璃霧化器。整體型自我定位炬管，由計(jì)算機(jī)控制炬位的x,y,z三維平面調(diào)整。計(jì)算機(jī)控制全部等離子體氣體管線的質(zhì)量流量控制器（霧化器，輔助氣，冷卻氣）保護(hù)性離子提取，離子透鏡系統(tǒng)，提供高的離子傳輸效率和超低的背景。離軸四極桿分

8、析器提供杰出的傳輸效率和覆蓋全質(zhì)量數(shù)范圍（2255amu）內(nèi)的卓越的豐度靈敏度。計(jì)算機(jī)控制的，可切換的，四極桿分辨率設(shè)置。三級(jí)真空系統(tǒng)，由旋轉(zhuǎn)機(jī)械真空泵，和高性能分流式雙分子渦輪泵組成的。PC計(jì)算機(jī)，專業(yè)版Windons系統(tǒng)，19寸TFT平面顯示器，鍵盤和鼠標(biāo)打印機(jī)12Xt接口技術(shù)提供異常的基體承受能力，擴(kuò)展了低質(zhì)量數(shù)的動(dòng)態(tài)范圍，降低了多原子干擾離子的形成。13PlasmaScreenPlus等離子體炬焰屏敝系統(tǒng)提供低的離子能量擴(kuò)散和局的指背比性能。14Xs鐐接口，包括Ni的Xs截取錐和卸錐工具15Ni采樣錐，XtorXs接口16循環(huán)冷卻水系統(tǒng)（50Hz）全進(jìn)口配置17全自動(dòng)第三代碰撞反應(yīng)池技

9、術(shù)一一配有二個(gè)計(jì)算機(jī)控制的氣體質(zhì)量流量控制器，任何二種氣體的結(jié)合可以被自動(dòng)引入碰撞池，有效地選擇性降低分子離子的干擾。PlasmaLab儀器系統(tǒng)軟件允許利用自動(dòng)調(diào)諧程序通過每次實(shí)驗(yàn)的儀器調(diào)試溶液對(duì)碰撞池氣體流速進(jìn)行自動(dòng)最佳化，碰撞池技術(shù)模式與正常模式之間的切換是全自動(dòng)的，而且允許在一次樣品信號(hào)采集中完成切換檢測。18半導(dǎo)體制冷溫度控制器用于霧化室，用于精確控制霧化室溫度，消除由于實(shí)驗(yàn)1室條件的波動(dòng)所引起的任何漂移。9消耗品包（包括如下備件）1(1)Ni采樣錐，用于XtorXs接口1(2)截取錐安裝鑼絲4(3)Xt接口，Ni截取錐1(4)采樣錐密封墊20(5)O型圈VITON28.0mmIDx1.5mmC/S(截取錐)2(6)密封環(huán)2(7)0.51mm進(jìn)樣泵管1(8)排液管1(9)TEFL