專(zhuān)利申請(qǐng)實(shí)務(wù)

1、專(zhuān)利申請(qǐng)實(shí)務(wù)專(zhuān)利申請(qǐng)實(shí)務(wù)武漢市關(guān)山大道武漢市關(guān)山大道111111號(hào)光谷時(shí)代廣場(chǎng)號(hào)光谷時(shí)代廣場(chǎng)A A座座26012601室室電話(huà)：電話(huà)027-87782606 郵箱：郵箱：網(wǎng)址：網(wǎng)址：北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所武漢分所武漢分所朱詩(shī)恩朱詩(shī)恩 機(jī)械工程師機(jī)械工程師 律師律師 專(zhuān)利代理人專(zhuān)利代理人1991年華中農(nóng)業(yè)大學(xué)機(jī)械設(shè)計(jì)本科 2008華中科技大學(xué)經(jīng)濟(jì)法專(zhuān)利戰(zhàn)略方向碩士 三一集團(tuán)首席知識(shí)產(chǎn)權(quán)維權(quán)律師、專(zhuān)利審核工程師人人 員員 構(gòu)構(gòu) 成成機(jī)械代理人26人電學(xué)代理人24人化學(xué)代理人17人律師8人商標(biāo)代理人12人學(xué)士學(xué)位

2、28人碩士學(xué)位45人博士、博士后4人清華大學(xué)副教授3人4業(yè)業(yè) 務(wù)務(wù) 范范 圍圍中國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)外國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)（PCT途徑、巴黎公約途徑）專(zhuān)利復(fù)審專(zhuān)利申請(qǐng)商標(biāo)及其他商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)商標(biāo)復(fù)審申請(qǐng)商標(biāo)異議、撤銷(xiāo)申請(qǐng)商標(biāo)的轉(zhuǎn)讓、許可備案軟件著作權(quán)登記著作權(quán)登記高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定侵權(quán)糾紛權(quán)屬糾紛專(zhuān)利無(wú)效宣告法律顧問(wèn)企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)制度建設(shè)企業(yè)專(zhuān)利預(yù)警專(zhuān)利分析專(zhuān)利轉(zhuǎn)讓、許可備案專(zhuān)利數(shù)據(jù)庫(kù)企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理專(zhuān)利維權(quán)20082009201020112012622774150027504000專(zhuān)利代理歷史數(shù)據(jù)專(zhuān)利代理歷史數(shù)據(jù)主要國(guó)內(nèi)合作企業(yè)及技術(shù)領(lǐng)域解決如下問(wèn)題什么是專(zhuān)利？什么是專(zhuān)利？如何申請(qǐng)專(zhuān)利？如何申請(qǐng)專(zhuān)利？

3、申請(qǐng)流程？申請(qǐng)流程？申請(qǐng)人應(yīng)提供哪些技術(shù)資料？申請(qǐng)人應(yīng)提供哪些技術(shù)資料？專(zhuān)利申請(qǐng)需要提交哪些文件？專(zhuān)利申請(qǐng)需要提交哪些文件？專(zhuān)利申請(qǐng)現(xiàn)狀？專(zhuān)利申請(qǐng)現(xiàn)狀？申請(qǐng)專(zhuān)利的注意事項(xiàng)？申請(qǐng)專(zhuān)利的注意事項(xiàng)？專(zhuān)利政策？專(zhuān)利政策？一、什么是專(zhuān)利價(jià)值價(jià)值500500萬(wàn)英鎊的專(zhuān)利萬(wàn)英鎊的專(zhuān)利技術(shù)方案技術(shù)方案國(guó)家授予的相對(duì)壟斷的權(quán)利國(guó)家授予的相對(duì)壟斷的權(quán)利 法定性法定性 先申請(qǐng)制先申請(qǐng)制 獨(dú)占性獨(dú)占性 公開(kāi) 壟斷 時(shí)間性時(shí)間性 發(fā)明專(zhuān)利 20年 實(shí)用新型專(zhuān)利 10年 外觀設(shè)計(jì)專(zhuān)利 10年 地域性地域性專(zhuān)利是什么專(zhuān)利是什么? ?專(zhuān)利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)專(zhuān)利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn) 新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性 例： 本 申 請(qǐng)：一

4、種防腐涂料用添加劑，其特征在于包含石蠟。 現(xiàn)有技術(shù)：公開(kāi)了一種塑料加工用的脫模劑，其中包含石蠟。 新穎性？創(chuàng)造性？新穎性？創(chuàng)造性？ 例： 本申請(qǐng)：一種復(fù)合地板，其包括基材、復(fù)合于基材下面的防潮層和復(fù)合于基材上面的耐磨層，該耐磨層為材料A。 對(duì)比文件：一種地板，其包括基材和復(fù)合于基材下面的防潮層和復(fù)合于基材上面的耐磨層，該耐磨層為材料B。 材料A和材料B均為已知的耐磨材料(替換)。 新穎性？ 創(chuàng)造性？二、如何申請(qǐng)專(zhuān)利產(chǎn)品的圖案產(chǎn)品的圖案產(chǎn)品的色彩與形狀的結(jié)合產(chǎn)品的色彩與形狀的結(jié)合產(chǎn)品的形狀產(chǎn)品的形狀產(chǎn)品的形狀、圖案的結(jié)合產(chǎn)品的形狀、圖案的結(jié)合富有美感、適于富有美感、適于工業(yè)應(yīng)用的工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計(jì)

5、新設(shè)計(jì)外觀設(shè)計(jì)外觀設(shè)計(jì)與現(xiàn)有設(shè)計(jì)相比，與現(xiàn)有設(shè)計(jì)相比，具有明顯區(qū)別具有明顯區(qū)別產(chǎn)品的色彩與圖案的結(jié)合產(chǎn)品的色彩與圖案的結(jié)合產(chǎn)品的色彩與形狀、圖案的結(jié)合產(chǎn)品的色彩與形狀、圖案的結(jié)合產(chǎn)品的形狀產(chǎn)品的形狀產(chǎn)品的構(gòu)造產(chǎn)品的構(gòu)造 產(chǎn)品的形狀、結(jié)構(gòu)的結(jié)合產(chǎn)品的形狀、結(jié)構(gòu)的結(jié)合新的技術(shù)方案新的技術(shù)方案具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)進(jìn)步進(jìn)步實(shí)用新型實(shí)用新型產(chǎn)品的改進(jìn)產(chǎn)品的改進(jìn)方法的改進(jìn)方法的改進(jìn)新產(chǎn)品新產(chǎn)品新方法新方法新的技術(shù)方案新的技術(shù)方案發(fā)明發(fā)明具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)顯著的進(jìn)步顯著的進(jìn)步審查意見(jiàn)審查意見(jiàn)答復(fù)答復(fù)批準(zhǔn)批準(zhǔn)三、專(zhuān)利流程發(fā)明創(chuàng)造發(fā)明創(chuàng)造技術(shù)技術(shù)交底書(shū)交底書(shū)專(zhuān)利撰寫(xiě)專(zhuān)利撰寫(xiě)申請(qǐng)申請(qǐng)

6、專(zhuān)利證書(shū)專(zhuān)利證書(shū)年費(fèi)年費(fèi)維權(quán)維權(quán)繳費(fèi)繳費(fèi)辦登辦登四、技術(shù)交底資料發(fā)明名稱(chēng)技術(shù)領(lǐng)域背景技術(shù) 對(duì)現(xiàn)有技術(shù)如結(jié)構(gòu)、原理的描繪、評(píng)價(jià)，指出現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足發(fā)明創(chuàng)造內(nèi)容 本發(fā)明創(chuàng)造所解決的技術(shù)問(wèn)題； 本發(fā)明的技術(shù)方案； 達(dá)到的有益效果。具體實(shí)施例 盡可能詳細(xì)地對(duì)照附圖標(biāo)記清楚、完整地描述發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案。附圖 用CAD或其他軟件繪制，清楚地表達(dá)產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)即可，不需要精確的尺寸，不著色，不能有文字標(biāo)注（流程圖除外） 。技術(shù)交底資料常見(jiàn)問(wèn)題 沒(méi)有技術(shù)方案 描述一大堆理論，無(wú)論是現(xiàn)有的還是新發(fā)現(xiàn)的 只描述產(chǎn)品或方法的功能及效果 技術(shù)方案公開(kāi)不充分 擔(dān)心泄密 不知道公開(kāi)程度 附圖不合格 發(fā)明或?qū)嵱眯滦透綀D

7、采用照片、渲染圖、色塊圖五、專(zhuān)利申請(qǐng)文件專(zhuān)利申請(qǐng)請(qǐng)求書(shū)委托書(shū)發(fā)明：說(shuō)明書(shū)摘要、摘要附圖（必要時(shí)）、權(quán)利要求書(shū)、說(shuō)明書(shū)、說(shuō)明書(shū)附圖（必要時(shí)）實(shí)用新型：說(shuō)明書(shū)摘要、摘要附圖、權(quán)利要求書(shū)、說(shuō)明書(shū)、說(shuō)明書(shū)附圖。外觀設(shè)計(jì)：外觀設(shè)計(jì)的圖片或照片、簡(jiǎn)要說(shuō)明六、專(zhuān)利申請(qǐng)現(xiàn)狀2010年度世界前8位專(zhuān)利申請(qǐng)量中國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)量武漢市專(zhuān)利申請(qǐng)量2012年武漢各區(qū)申請(qǐng)狀況七、申請(qǐng)專(zhuān)利的注意事項(xiàng)申請(qǐng)專(zhuān)利與技術(shù)難度無(wú)關(guān) 產(chǎn)品未動(dòng) 專(zhuān)利先行 出版公開(kāi)（報(bào)刊、雜志、網(wǎng)絡(luò)發(fā)表） 使用公開(kāi) 口述公開(kāi)專(zhuān)利 Vs 保密 反向工程 技術(shù)進(jìn)步 國(guó)家政策可能導(dǎo)致專(zhuān)利喪失新穎性八、專(zhuān)利政策武漢市創(chuàng)新型企業(yè)申報(bào)表（武漢市科技局二一二年八月制）（武

8、漢市科技局二一二年八月制） 二、企業(yè)定量評(píng)價(jià)（三）百名研發(fā)人員擁有的授權(quán)發(fā)明專(zhuān)利數(shù)和申請(qǐng)受理數(shù)武漢市創(chuàng)新型試點(diǎn)企業(yè)申報(bào)表 一、企業(yè)概況及創(chuàng)新基礎(chǔ) 2、創(chuàng)新基礎(chǔ)：產(chǎn)品擁有的專(zhuān)利數(shù)，其中發(fā)明專(zhuān)利數(shù)，授權(quán)專(zhuān)利總數(shù)，受理專(zhuān)利總數(shù)，百名研發(fā)人員擁有專(zhuān)利數(shù)=100*（授權(quán)專(zhuān)利數(shù)+受理專(zhuān)利數(shù)）/研發(fā)人員數(shù) 高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定 要求：1件發(fā)明專(zhuān)利權(quán)或者6件其他知識(shí)產(chǎn)權(quán)（不包括商標(biāo)） 所得稅稅率15%，出口產(chǎn)品產(chǎn)值達(dá)到當(dāng)年總產(chǎn)值70%以上的，所得稅稅率10% 新辦的內(nèi)資高新技術(shù)企業(yè)，從投產(chǎn)年度起，兩年內(nèi)免征所得稅關(guān)于開(kāi)展二一二年度武漢市著名商標(biāo)認(rèn)定工作的通知市知識(shí)產(chǎn)權(quán)局關(guān)于辦理2012年專(zhuān)利與集成電路布圖設(shè)計(jì)資助

9、工作的通知 1、國(guó)內(nèi)專(zhuān)利申請(qǐng)獲權(quán)資助、國(guó)內(nèi)專(zhuān)利申請(qǐng)獲權(quán)資助 （其中發(fā)明專(zhuān)利必須通過(guò)已在我局登記備案的專(zhuān)利代理機(jī)構(gòu)提出） 職務(wù)發(fā)明：發(fā)明專(zhuān)利權(quán) 2500元/件； 實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)專(zhuān)利權(quán) 300元/件 非職務(wù)發(fā)明：發(fā)明專(zhuān)利權(quán) 1000元/件 實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)專(zhuān)利權(quán) 150元/件 2 2、外國(guó)專(zhuān)利資助標(biāo)準(zhǔn)（企業(yè)）、外國(guó)專(zhuān)利資助標(biāo)準(zhǔn)（企業(yè)） 獲得北美發(fā)達(dá)國(guó)家、歐盟發(fā)達(dá)國(guó)家和日本發(fā)明專(zhuān)利權(quán) 10萬(wàn)元/件 獲得上述國(guó)家以外的其他國(guó)家發(fā)明專(zhuān)利權(quán) 3萬(wàn)元/件 3 3、專(zhuān)項(xiàng)資助、專(zhuān)項(xiàng)資助（必須是通過(guò)已在我局登記備案的專(zhuān)利代理機(jī)構(gòu)代理的） 專(zhuān)利申請(qǐng)量超過(guò)50件、發(fā)明專(zhuān)利占申請(qǐng)總量30%以上的規(guī)模企業(yè) 4 4、集成電路布圖設(shè)計(jì)登記資助集成電路布圖設(shè)計(jì)登記資助 1000元/件武漢市知識(shí)產(chǎn)權(quán)局東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)分局 關(guān)于開(kāi)展關(guān)于開(kāi)展20122012年年專(zhuān)利專(zhuān)利申請(qǐng)申請(qǐng)資助資助工作的通知工作的通知 （武知分局發(fā)（武知分局發(fā)2012120121號(hào)）號(hào)） 國(guó)內(nèi)專(zhuān)利申請(qǐng)資助標(biāo)準(zhǔn)（申請(qǐng)港、澳、臺(tái)地區(qū)專(zhuān)利的參照?qǐng)?zhí)行）： 1、發(fā)明2000元/件 2、實(shí)用新型500元/件 3、外觀設(shè)計(jì)300元/件 PCT專(zhuān)利申請(qǐng)資助標(biāo)準(zhǔn)：5000元/件 關(guān)于開(kāi)展東湖高新區(qū)計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)申請(qǐng)