電鍍理論與工藝課后復(fù)習(xí)

1、1、 電鍍的概念？答：電鍍是用電化學(xué)方法在固體表面電沉積一薄層金屬、合金或金屬與非金屬粉末一起形成復(fù)合電沉積層并承擔(dān)一定功能的過(guò)程。2、 電鍍的目的？答：電鍍的主要目的是對(duì)基體的防護(hù)，耐磨，防腐，同時(shí)兼有裝飾的功能，還起到特點(diǎn)功能和特定意義。3、 合格電鍍層的基本要求？答：鍍層結(jié)構(gòu)致密、厚度均勻、鍍層與基體結(jié)合牢固并能夠承受一定條件下的腐蝕（指鍍層對(duì)基體的防護(hù)特性）。在某些情況下，進(jìn)一步要求鍍層內(nèi)應(yīng)力要小，柔順性好有較高的硬度、色彩、光亮和均勻沙面等。對(duì)于功能性鍍層，根據(jù)其具體要求使用目的，要求鍍層可耐高溫、耐潮濕環(huán)境腐蝕、耐海洋性氣候腐蝕等。4、 電鍍層的分類(lèi)？答：按用途可分為防護(hù)性鍍層、防

2、護(hù)性-裝飾性鍍層、功能性鍍層；按鍍層的電化學(xué)性質(zhì)分類(lèi)可分為陰極性鍍層、陽(yáng)極性鍍層。第二章1、 游離配合劑的影響？答：1、能使電解液穩(wěn)定；2、促進(jìn)陽(yáng)極的溶解；3、增大陰極極化。2、 合金共沉積的類(lèi)型？答：合金共沉積可分為正則共沉積、非正則共沉積、平衡共沉積、異常共沉積和誘導(dǎo)共沉積。3、 要實(shí)現(xiàn)二元合金共沉積的必要條件？答：1、合金中的兩種金屬至少有一種金屬能單獨(dú)從水溶液中沉積出來(lái)；2、金屬共沉積的基本條件是兩種金屬的析出電位要十分接近或相等。4、 實(shí)際金屬共沉積是的特點(diǎn)和影響因素？答：電極材料在形成合金時(shí)的去極化作用、極化作用、雙電層結(jié)構(gòu)的影響、金屬離子在溶液中狀態(tài)的影響。5、 添加劑的主要作用

3、？答：使鍍層具有良好的致密性、光澤性；增加了陰極極化作用、增加光亮作用、增加整平特性、降低內(nèi)應(yīng)力的作用、提高電流效率等。6、 添加劑應(yīng)該具有哪些特性？答：1、擴(kuò)寬電鍍液的pH、溫度和電流密度的使用范圍；2、能影響電結(jié)晶的結(jié)構(gòu)，具有微觀(guān)整平效果，有利于提高鍍件表面的平滑和光亮；3、降低表（界）面張力，有利于對(duì)鍍件的潤(rùn)濕；4、促進(jìn)在陰極表面產(chǎn)生的氫氣盡快脫離，可防止鍍件產(chǎn)生凹痕和針孔；5、經(jīng)過(guò)表面活性劑清洗的鍍件，其電鍍效果明顯改善。7、 電鍍添加劑的類(lèi)型？答：電鍍添加劑可分為絡(luò)合劑、光亮劑、表面活性劑、整平劑、應(yīng)力消除劑、除雜劑和潤(rùn)濕劑等。8、 整平劑的整平作用可分為哪幾類(lèi)？答：正整平、負(fù)整平、

4、幾何整平。9、 整平劑的特點(diǎn)？答：1、能強(qiáng)烈阻化陰極過(guò)程，能使陰極極化提高50120mV；2、能夾雜在鍍層中，或在陰極上陰極上還原而被消耗；3、整平劑在峰處的吸附量大于谷處的吸附量。10、 三層鎳及雙層鎳的抗腐蝕原理？答：如圖所示，電鍍雙層鎳是在鋼鐵基體上先鍍上一層低硫（S<0.005%）的半光鎳，再在半光亮鎳上鍍上一層含硫（0.04%<S<0.15%)的光亮鎳，表面在鍍鉻。在雙層鎳之間，由于含低硫的半光亮鎳的電位較正，當(dāng)腐蝕介質(zhì)穿過(guò)鉻及光亮鎳層的孔隙到達(dá)半光亮鎳時(shí)，在光亮鎳和半光亮鎳之間，就產(chǎn)生電位差，形成腐蝕電池，含硫量高的光亮鎳成為陽(yáng)極，半光亮鎳成為陰極，光亮鎳成為犧牲

5、陽(yáng)極而腐蝕，從而延緩了腐蝕介質(zhì)向基體垂直穿透速度，顯著提高了鍍層對(duì)基體的防腐蝕保護(hù)作用，維持雙層鎳之間的電位差，是提高鍍層耐蝕性的關(guān)鍵，通常要求兩層鍍層的電位差應(yīng)在120mv之上，電位差的形成是采用不同含硫量的光亮劑來(lái)實(shí)現(xiàn)的。雙層鎳的耐蝕性還同時(shí)受光亮鎳和半光亮鎳厚度比的影響。對(duì)鋼鐵基體來(lái)說(shuō)，半光亮鎳的厚度占鍍鎳層總厚度的2/3時(shí)，耐蝕性最好。電鍍?nèi)龑渔囀窃诎牍饬梁凸饬伶囍g，再鍍上一層約1um左右的高硫鎳（S>0.15%），最后在鍍鉻。因?yàn)楦吡蜴噷又械暮蛄勘裙饬伶噷痈撸谌龑渔囍须娢蛔钬?fù)，當(dāng)腐蝕介質(zhì)通過(guò)鉻、光亮鎳、高硫鎳的孔隙，到達(dá)半光亮鎳表面時(shí)，半光亮鎳與高硫鎳之間的電位差比雙電

6、層鎳更大，而且相對(duì)于光亮鎳來(lái)說(shuō)，高硫鎳是陽(yáng)極鍍層，它是犧牲自己，來(lái)保護(hù)光亮鎳和半光亮鎳不受腐蝕，從而進(jìn)一步延緩腐蝕介質(zhì)沿垂直方向穿透的速度，所以三層鎳防護(hù)性比雙層鎳的防護(hù)性更為優(yōu)越。11、 電鍍液分散能力和覆蓋能力的概念？答：分散能力就是電解液使零件表面鍍層的厚度均勻分布的能力，也叫均鍍能力；覆蓋能力就是電解液使零件深凹處沉積金屬鍍層的能力，也叫深度能力。12、 以初次電流分布、二次電流分布來(lái)說(shuō)明電解液的分散能力？答：當(dāng)不存在極化時(shí)，電流在陰極表面上的分布稱(chēng)為初次分布，及不考慮點(diǎn)化學(xué)系因素的影響，而只考慮幾何因素的影響，在陰極表面上的電流分布。這時(shí)電流流過(guò)電路的阻力只有導(dǎo)線(xiàn)和金屬電極的電阻與電

7、解液的電阻。由于金屬導(dǎo)線(xiàn)和金屬電極的電阻遠(yuǎn)小于電解液的電阻,可以忽略不計(jì)。假設(shè)陰極極化不存在時(shí)的電流分布為初次電流分布，此時(shí) R極化0。當(dāng)電流為初次分布時(shí)：I1/I2=R電液2/R電液1，因電解液的電阻R=pL/S，由于遠(yuǎn)近陰極的面積S相同，電解液的電阻率也相同，并且令L2=L1+L。因此I1/I2=R電液2/R電液1=L2/L1=1+L/L1=K(K為常數(shù)），可見(jiàn)當(dāng)陰極極化不存在時(shí)，近陰極和遠(yuǎn)陰極上的電流密度與他們和陽(yáng)極距離成反比。I1/I2=D1/D2=1+L/(L1+1/p + /D)，式中I1/I2=D1/D2就是陰極的實(shí)際電流分布；p為電解液電阻率；L為遠(yuǎn)近陰極與陽(yáng)極距離只差；/D為

8、極化率（度），只有當(dāng)I1/I21時(shí)為理想的分散能力。13、 改善電解液分散能力的方法？答：在電鍍?nèi)芤褐屑尤胍欢康膹?qiáng)電解質(zhì)、采用配合物電解液、在電鍍?nèi)芤褐屑尤脒m量的添加劑、改善幾何影響因素如采用象形陽(yáng)極法、保護(hù)陰極法、輔助陽(yáng)極法、調(diào)整陽(yáng)極的排布等。14、 影響覆蓋能力的因素及改善覆蓋能力的方法？答：影響因素有基體金屬本性的影響、基體金屬組織均勻程度的影響、基體金屬表面狀態(tài)的影響；改善方法有施加沖擊電流、增加欲鍍工序、加強(qiáng)鍍前處理等。15、 微觀(guān)整平能力的概念？答：在一定的條件下，電鍍?nèi)芤涸谖⒂^(guān)粗糙表面上均勻地沉積出金屬的能力。16、 電鍍液的成分組成及其相應(yīng)的作用？答：主鹽：提供被鍍金屬離子，

9、能在陰極上沉積出所要求的鍍層金屬的鹽；導(dǎo)電鹽：能夠提高溶液的電導(dǎo)率，對(duì)放電金屬離子不起絡(luò)合作用的堿金屬或堿土金屬的鹽類(lèi)（包括銨鹽）；緩沖劑：加入電鍍液中，能使溶液在遇到酸或堿時(shí)，溶液的PH值變化幅度減小；絡(luò)合劑：在電鍍生產(chǎn)中，加入絡(luò)合劑，可以控制電鍍液電位，提高極化；陰極極化劑：在電解時(shí)能使陽(yáng)極電位變負(fù)，促進(jìn)陽(yáng)極活化，防止鈍化；潤(rùn)濕劑：能消除電鍍液中內(nèi)應(yīng)力，防止出現(xiàn)針孔；添加劑，如光亮劑，整平劑等，能夠提高電鍍液中陽(yáng)極極化，光亮劑能夠提高鍍層光亮度，整平劑提高鍍層平整度，即添加劑能夠改善電鍍液性能和鍍層質(zhì)量。第三章1、 電鍍中，鍍層與基體金屬結(jié)合的基本形式？答：鍍層與基體金屬結(jié)合方式主要有三種

10、：1、基體表面微觀(guān)不平而產(chǎn)生機(jī)械附著；2、基體金屬與沉積金屬分子間的作用力；3、沉積金屬延續(xù)基體金屬金相結(jié)構(gòu)或擴(kuò)散入基體金屬中的金屬間力作用。只有當(dāng)鍍層與基體金屬發(fā)生分子間和金屬間力的結(jié)合時(shí)，鍍層與基體的結(jié)合才是牢固的。分子間力和金屬間力只有在很小的距離內(nèi)才能表現(xiàn)出來(lái)。2、 電鍍前處理方式及其類(lèi)型？答：1、粗糙表面的整平，如機(jī)械磨光、機(jī)械拋光、電拋光、滾光、震動(dòng)光飾、離心光飾、刷光、噴砂處理等；2、除油，如有機(jī)溶劑除油、化學(xué)除油及電化學(xué)除油；3、侵蝕，如強(qiáng)侵蝕、電化學(xué)侵蝕、弱侵蝕；4、活化，如化學(xué)方法、電化學(xué)方法等。3、 常見(jiàn)的除油方法有哪幾種？答：常見(jiàn)的除油方法有化學(xué)除油、有機(jī)溶劑除油、電化

11、學(xué)除油和超聲波除油。4、 簡(jiǎn)述堿性溶液除油方法的皂化作用和乳化作用？答：皂化作用，可以除去動(dòng)植物油，就是可皂化油與堿性溶液發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而生成肥皂的過(guò)程，其反應(yīng)通式為：(RCOO)3C3H5 + 3NaOH = 3RCOONa + C3H5(OH)3，當(dāng)R是含有1721個(gè)碳原子的烴基時(shí)叫硬脂，硬脂發(fā)生皂化反應(yīng)生成物就是普通肥皂（硬脂酸鈉），如：(C17H35COO)3C3H5 + 3NaOH + 3C17H35COONa + C3H5(OH)3。生成的肥皂和甘油很好的溶解在水中，所以油脂可以從零件表面完全清除掉。乳化作用：就是兩種互不相容的液體形成乳濁液的過(guò)程，就是一種液體呈極細(xì)小的液滴分散在另

12、一種液體中。乳化劑是一種表面活性劑，降低了油-液之間的界面張力，油變成小液滴分散在溶液中以達(dá)到除油的目的。4、 堿性除油溶液的主要成分？答：氫氧化鈉、碳酸鈉、磷酸三鈉、乳化劑和（偏硅酸鈉）5、 電化學(xué)除油中陰、陽(yáng)極除油方法的特點(diǎn)？答：陰極除油特點(diǎn)是在制件中析出H2，除油時(shí)析出氫氣量多，分散性好，氣泡尺寸小，故乳化作用強(qiáng)烈，除油效果好，速度快，不腐蝕零件。但析出的氫氣會(huì)滲入金屬內(nèi)部引起氫脆，當(dāng)溶液中含有鋅等離子時(shí)，零件表面析出一層海綿狀金屬，污染金屬零件，并影響鍍層結(jié)合力。陽(yáng)極除油時(shí)在制件中析出氧氣，除油時(shí)一方面析出氣泡，泡少兒大，與陰極除油相比起乳化能力差，其除油效率低；另一方面由于OH-放電

13、，使陽(yáng)極表面溶液的PH值降低，不利于除油，同時(shí)陽(yáng)極除油時(shí)析出的氧氣促使金屬表面氧化，甚至某些油脂也被氧化，有些金屬或多或少發(fā)生陽(yáng)極溶解，但陽(yáng)極除油不會(huì)發(fā)生氫脆，鍍件上也不會(huì)有其他金屬雜質(zhì)析出。6、 制定表面準(zhǔn)備工藝流程的原則？答：1、若金屬零件附著大量油污，且銹蝕嚴(yán)重時(shí)，在侵蝕前必須進(jìn)行初步除油；2、零件每經(jīng)過(guò)一次除油之后，必須用水充分洗滌，而且用熱水洗滌；3、零件經(jīng)過(guò)侵蝕之后，至少要經(jīng)過(guò)兩道冷水洗滌，第二道流動(dòng)水洗，并且應(yīng)合理的確定水流方向，以使油污的不斷排除。侵蝕后不要用熱水洗滌，以免零件表面遭到過(guò)腐蝕；4、零件附著礦物油和拋光膏時(shí)，最好先用有機(jī)溶劑或清洗劑除油，除油后零件進(jìn)行干燥。不要把

14、有機(jī)溶劑帶入后續(xù)工序；5、零件經(jīng)過(guò)前處理后，在電鍍之前最好在進(jìn)行一次電化學(xué)除油，除油時(shí)間在12分鐘即可，隨后清洗干凈，馬上轉(zhuǎn)入弱侵蝕液中處理0.51分鐘，然后迅速轉(zhuǎn)入電解槽進(jìn)行電鍍；6、弱侵蝕永遠(yuǎn)是前處理的最后一道工序。弱侵蝕后只能用流動(dòng)冷水清洗，換著去電鍍，如果弱侵蝕后不能馬上進(jìn)行電鍍，則應(yīng)將處理后的零件存放在稀的碳酸鈉溶液中，在進(jìn)行電鍍時(shí)要充分清洗，并重新進(jìn)行弱侵蝕。第四章（鋅對(duì)鐵基材料而言屬于陽(yáng)極性鍍層）1、硫酸鹽鍍鋅的優(yōu)缺點(diǎn)？答：優(yōu)點(diǎn)為成分簡(jiǎn)單，鍍液無(wú)毒性，成本低廉、維護(hù)容易、允許使用較高的電流密度，沉積速度快、電流效率高（接近100%），適合在線(xiàn)材、帶材上高速電鍍。缺點(diǎn)是由于沒(méi)有配離

15、子。陰極極化小，鍍層結(jié)晶粗大，鍍液的分散能力和覆蓋能力較差，只使用于形狀比較簡(jiǎn)單的零件。2、 硫酸鹽鍍鋅溶液中的基本組成及各組分的主要作用？答：1、硫酸鋅，硫酸鋅既是提供鋅離子的主鹽又是導(dǎo)電鹽；2、硫酸鈉，起到導(dǎo)電鹽作用，提高鍍液的導(dǎo)電能力，并提高電流密度上限，但過(guò)高會(huì)縮小工作溫度的范圍；3、硼酸，為鍍液的緩沖劑，維持pH值的穩(wěn)定性；4、光亮劑，提高陰極極化，改善鍍液的分散能力和覆蓋能力，并增加鍍層的光亮性和整平性。3、 鍍鋅層鍍后處理工藝及目的？答：鍍后處理包括除氫、出光和鈍化處理，其目的是為了消除電鍍過(guò)程中產(chǎn)生的一些缺陷，改善鋅鍍層的理化性能及基材的力學(xué)性能，提高鍍層的抗腐蝕能力，延長(zhǎng)壽命

16、，改善鍍層的裝飾性能。除氫處理防止氫脆，提高部件使用壽命等；出光處理提高鍍液的光潔度，使平面得到平整；鈍化處理，提高鍍鋅層的耐蝕性，并能夠增加表面光澤和抗污染能力，還可以作為涂層底層使用。4、 鍍鋅后鍍層鈍化膜的形成機(jī)理？答：鉻酸鈍化處理是固液界面上進(jìn)行的多相化學(xué)反應(yīng)過(guò)程。其反應(yīng)交錯(cuò)進(jìn)行，相當(dāng)復(fù)雜。成膜機(jī)理一般認(rèn)為是金屬鋅和六價(jià)鉻之間的氧化還原反應(yīng)。鋅作為還原劑，六價(jià)鉻是氧化劑，它被還原成三價(jià)鉻，主要反應(yīng)：Cr2O2-7 + 3Zn2+ + 14H+ 3Zn2+ + 2Cr3+ + 7H2O; 2CrO2-4 + 3Zn2+ + 8H2O，其中一式占絕對(duì)優(yōu)勢(shì)，印在酸性較強(qiáng)的溶液中六價(jià)鉻主要以C

17、r2O2-7形式存在。還有以下反應(yīng)：Zn + 2H+ Zn2+ + H2，由于反應(yīng)消耗大量的氫離子，是金屬溶液界面上的pH值升高，當(dāng)pH值上升到一定值時(shí)，凝膠狀鈍化膜就在界面上析出。鈍化膜主要由三價(jià)鉻和六價(jià)鉻化合物，水和金屬離子組成，大都是鉻酸鋅等難溶性堿式鹽。在鈍化過(guò)程總，膜的生成和膜的溶解同時(shí)進(jìn)行，開(kāi)始階段，膜的生成占主導(dǎo)地位，隨著時(shí)間增長(zhǎng)，膜的溶解加快，保持一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡。5、 鍍鋅后的鈍化類(lèi)型？答：軍綠色鈍、金黃色鈍、黑色鈍、藍(lán)白色鈍、白色鈍等鈍化工藝。第5章 （銅對(duì)鐵基而言屬于陽(yáng)極性鍍層）1、 為什么光亮酸性鍍銅要用銅陽(yáng)極？答：在光亮酸性鍍銅中，一般不用電解銅，而采用含磷的銅陽(yáng)極，這是

18、因?yàn)槭褂秒娊忏~陽(yáng)極時(shí)，一方面溶液產(chǎn)生氧化亞銅（銅粉），使鍍層表面粗糙，產(chǎn)生不合格的銅鍍層。另一方面如果用也會(huì)使溶液中的Cu2+濃度升高，鍍液不穩(wěn)定，光亮劑的消耗增加，降低鍍層質(zhì)量。當(dāng)陽(yáng)極和電解液中的Cu2+接觸時(shí)產(chǎn)生下列反應(yīng)：Cu + Cu2+ = 2Cu，另外，陽(yáng)極的不完全氧化也會(huì)產(chǎn)生一價(jià)銅離子：Cu - e = Cu+,這些Cu+在陽(yáng)極表面形成Cu2O而懸浮在電解液中，產(chǎn)生“銅粉”、毛刺、鍍層粗糙不亮。如果陽(yáng)極中含有少量的磷，在陽(yáng)極表面生成一層黑色膜，它的成分是Cu3×104S/cm)，它覆蓋在銅陽(yáng)極表面，阻止過(guò)多的Cu2+生成，并加速Cu+的氧化，減少了Cu+的積累和產(chǎn)生，大大

19、減少了Cu+進(jìn)入溶液的機(jī)會(huì)。也減少了陽(yáng)極泥的生成量。第六章1、 光亮鍍鎳工藝與操作上的特點(diǎn)？答：光亮鍍鎳已經(jīng)形成了三高一低的特點(diǎn)，即高濃度、高溫度、高電流密度和低pH值。硫酸鎳濃度高的鍍液導(dǎo)電性能較好，工作范圍較寬，允許使用較高的電流密度，能提高沉積速度、鍍層的光亮度和整平性，但鍍液均一性差，成本高，帶出損失大。2、 鍍鎳光亮劑的分類(lèi)且分別說(shuō)明其主要作用？答：鍍鎳光亮劑可分為1、初級(jí)光亮劑（第一類(lèi)光亮劑）：具有顯著減小鍍鎳層晶粒尺寸的作用，使鍍層產(chǎn)生柔和的光澤，但不能產(chǎn)生鏡面光澤，也能抵消次級(jí)光亮劑所產(chǎn)生的張應(yīng)力，能降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力，提高鍍層的韌性和延展性；2、次級(jí)光亮劑（第二類(lèi)光亮劑）：能得

20、到光亮鍍層，但光亮區(qū)電流密度范圍狹窄，鍍層張應(yīng)力和脆性大，還具有整平作用，對(duì)基體表面原油的細(xì)微粗糙處起到補(bǔ)漏、填平作用，能大幅度提高陰極極化，顯著改善電解液的分散能力；3、輔助光亮劑，可改善鍍層的覆蓋能力，降低電解液對(duì)金屬雜質(zhì)的敏感性，減少針孔；出光快；降低次級(jí)光亮劑的消耗量。3、 光亮鍍鎳電解液的組成成分？答：有主鹽、緩沖劑、陽(yáng)極活化劑、潤(rùn)濕劑、光亮劑、組合劑等。4、 簡(jiǎn)述鎳封閉原理？答：鎳封閉又稱(chēng)復(fù)合鍍鎳。鎳封閉工藝是在一般光亮鎳電解液中加入固體非金屬微粒（直徑<0.5um），借助攪拌，使固體微粒與鎳離子共同沉積并均勻分布在金屬組織中，在制品表面形成金屬鎳和非金屬固體顆粒組成的致密鍍

21、層，在這種鍍層上沉積鉻時(shí)，由于微粒不導(dǎo)電，所以微粒上無(wú)鉻沉積，從而得到微孔型的鍍層。作為防護(hù)性裝飾性鍍層的微孔數(shù)一般以100005000孔/cm2為宜，微孔數(shù)過(guò)少，耐蝕性提高的不明顯，微孔數(shù)過(guò)多（達(dá)80000孔/cm2）鍍層會(huì)出現(xiàn)倒光現(xiàn)象，影響裝飾性，同時(shí)鍍鉻層厚度也不能過(guò)厚，一般在0.250.5um為好，如鍍鉻層過(guò)厚，會(huì)出現(xiàn)搭橋現(xiàn)象，把微孔表面遮住，微孔會(huì)因此而消失，達(dá)不到鍍微孔鉻的目的。5、 在電鍍鎳鐵合金中電解液的主要組成和穩(wěn)定劑的主要作用？答：主要組成有硫酸鎳、氯化鈉、硼酸、潤(rùn)濕劑、光亮劑等等。穩(wěn)定劑的作用能在較寬的工藝范圍內(nèi)，與三價(jià)鐵形成十分穩(wěn)定的絡(luò)合物，以阻止氫氧化鐵的形成，同時(shí)在

22、電解過(guò)程中，消耗要慢，并能與光亮劑很好的配合，且不影響鍍層的力學(xué)性能和物理性能。第7章 （鍍鉻對(duì)鐵基材料而言屬于陽(yáng)極鍍層）1、 鍍鉻的種類(lèi)？答：基本類(lèi)型，按鍍鉻層分類(lèi)：鍍硬鉻、乳白鉻、松孔鍍鉻、黑鉻與其他黑色鍍鉻層；按電解液分類(lèi)：普通鍍鉻電解液、復(fù)合鍍鉻電解液、自動(dòng)調(diào)節(jié)鍍鉻電解液、快速鍍鉻電解液、四鉻酸鹽鍍鉻電解液、低濃度鉻酸鍍鉻電解液、三價(jià)鉻鍍鉻電解液。2、 鍍鉻的特點(diǎn)？答：特點(diǎn)1、鍍鉻電解液的主要成分是鉻酸而不是金屬鉻鹽；2、在鍍鉻液中，必須加入一定量的局外陰離子才能是電鍍過(guò)程正常進(jìn)行；3、電解液的分散能力很低，不易得到均勻的鍍層；4、鍍鉻時(shí)使用的電流密度很高，槽電壓很高，通常612V；5

23、、鍍鉻電解液的電流效率低；6、陽(yáng)極采用鉛、鉛-銻合金或鉛錫合金等不溶解行陽(yáng)極，不能用金屬鉻作陽(yáng)極；7、不同的工藝參數(shù)可得到不同性質(zhì)的鍍層。3、 簡(jiǎn)述電鍍鉻的陰極過(guò)程？答：當(dāng)鍍液的pH值<1時(shí)，Cr2O2-7為主要存在形式；當(dāng)鍍液的pH值為26時(shí)存在下列平衡：Cr2O2-7 + H2O 2HCrO-4 2H+ + 2CrO2-4；當(dāng)pH值>6時(shí)，CrO2-4為主要形式，因此，鍍鉻的同時(shí)存在其他離子，當(dāng)pH值減小或鉻酐的濃度增加時(shí)，平衡向左移動(dòng)，反之，平衡向右方向移動(dòng)。鍍鉻陰極過(guò)程，當(dāng)電解液中不含硫酸時(shí)，陰極上只析出氫氣，沒(méi)有其他還原反應(yīng)發(fā)生；鍍液中含有少量的硫酸時(shí)，陰極極化曲線(xiàn)由幾段

24、曲線(xiàn)組成，在ab段，陰極上沒(méi)有氫氣析出和鉻的還原，測(cè)定陰極區(qū)鍍液的PH值小于1，存在的離子形式主要是Cr2O2-7，此時(shí)的陰極反應(yīng)為Cr2O2-7 + 14H+ +6e = 2Cr3+ +7H2O，隨著電極電勢(shì)向負(fù)方向移動(dòng)，反應(yīng)速度不斷增加，到達(dá)b點(diǎn)過(guò)后，陰極上明顯的有氫氣析出：2H+ + 2e = H2 ，在bc段，隨著兩個(gè)反應(yīng)同時(shí)進(jìn)行，但表征反應(yīng)速度的電流密度確隨著電極電勢(shì)的變質(zhì)而降低，顯然有物質(zhì)阻礙了電化學(xué)速度，這是由于陰極膠體膜的形成阻礙電極反應(yīng)速度。陰極膠體膜理論：在陰極極化曲線(xiàn)b點(diǎn)以后，由于氫氣的析出，導(dǎo)致近陰極區(qū)PH值增高，當(dāng)PH值達(dá)到3左右時(shí)，近陰極區(qū)的Cr3+生成Cr(OH)

25、3膠體沉淀并與Cr(VI)組成了堿式鉻酸鉻Cr(OH)3Cr(OH)CrO4，這是一種粘膜物質(zhì)稱(chēng)為膠體膜或陰體膜，這種膠體膜致密而均勻地吸附在陰極表面上，它只允許半徑較小的H+通過(guò)膠體膜放電，而HCrO-4的放電收到阻礙，使陰極極化顯著增加，電流密度明顯較低。如果電解液中沒(méi)有硫酸存在，PH值較高，沒(méi)有Cr(VI)還原Cr3+的過(guò)程。氫氣的析出阻礙了鉻的析出，當(dāng)鍍液中有硫酸存在時(shí)，硫酸對(duì)陰體膠體膜有一定的溶解作用，因此近陰極區(qū)膠體膜處于不斷形成與不斷溶解的動(dòng)態(tài)過(guò)程。當(dāng)電極電勢(shì)達(dá)到c點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的數(shù)值時(shí)，發(fā)生HCrO-4 還原為鉻的反應(yīng)：HCrO-4 + 6e + 3H+ Cr + 4OH-，在cd段，同時(shí)進(jìn)行前三個(gè)反應(yīng)，且隨著電極電勢(shì)向負(fù)方向移動(dòng)，反應(yīng)速度不斷增加。4、 簡(jiǎn)述鋼鐵零件多層鎳鍍鉻的