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文檔簡(jiǎn)介
1、2020年日本新材料市場(chǎng)分析報(bào)告2020年3月引言:“一代材料 一代裝備”日本在工業(yè)制造業(yè)長(zhǎng)期保持世界先進(jìn)水平和其發(fā)達(dá)的材料和裝備制造體系密不可分,據(jù)日本 NIMS 數(shù)據(jù)顯示,日本主要新材料的全球市界上最完整的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈,在上中游產(chǎn)業(yè),日本廠商有著極高的市占率。以半導(dǎo)體材料為例,根據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)的數(shù)據(jù),日本企業(yè)在全球半導(dǎo) 體材料市場(chǎng)所占的份額為 52%,而北美和歐洲僅僅各占 15%左右。日本企業(yè)在全球新購(gòu)半導(dǎo)體制造設(shè)備市場(chǎng)占有率超過(guò) 30%,穩(wěn)居產(chǎn)業(yè)鏈上游。信越化學(xué)、SUMCO、JSR、東京應(yīng)化工業(yè)、大陽(yáng)日酸等日企,構(gòu)成了全球半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。因 此,我們?cè)噲D分析日本的
2、材料產(chǎn)業(yè)、關(guān)鍵部件和設(shè)備產(chǎn)業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),得到其產(chǎn)業(yè)發(fā)展的成功經(jīng)驗(yàn)和對(duì)我國(guó)新材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展的啟示。日本三大優(yōu)勢(shì)材料產(chǎn)業(yè)包括碳纖維、半導(dǎo)體材料、顯示材料,優(yōu)勢(shì)部件及設(shè)備產(chǎn)業(yè)包括高端被動(dòng)器件及半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備。1、 日本三大優(yōu)勢(shì)材料產(chǎn)業(yè):碳纖維、半導(dǎo)體材料、顯示材料1.1 碳纖維:日本在技術(shù)、質(zhì)量和規(guī)模上均為世界領(lǐng)先1.1.1 碳纖維:新型纖維材料,主要應(yīng)用為航空航天被譽(yù)為新材料之王的碳纖維,具有強(qiáng)度高、模量高、密度低等優(yōu)異性能,是一種含碳量在 90%以上的高強(qiáng)度、高模量的新型纖維材料。碳纖維“外柔內(nèi)剛”,柔軟可加工,質(zhì)量比鋁輕,強(qiáng)度卻高于鋼鐵,對(duì)支撐我國(guó)制造業(yè)轉(zhuǎn)型和保障國(guó)防安全等方面具有重要意義。碳纖
3、維作為新型復(fù)合材料廣泛運(yùn)用于航空航天、汽車輕量化、工業(yè)智能化、核能利用、海洋工程、軍事工業(yè)、醫(yī)療器材等方面,市場(chǎng)前景廣闊。就最主要的航空航天應(yīng)用領(lǐng)域來(lái)說(shuō),1)在商用飛機(jī)領(lǐng)域,以空客 A320為代表,碳纖維復(fù)合材料占比超 50%。相比于鋁合金,用碳纖維復(fù)合材料來(lái)制造飛機(jī)結(jié)構(gòu),可減重 20 40。2)在航天領(lǐng)域,復(fù)合材料廣泛應(yīng)用于航天器結(jié)構(gòu)件,包括衛(wèi)星中心承力筒、各種儀器安裝結(jié)構(gòu)板等。在運(yùn)載火箭上可用于火箭的排氣錐體,發(fā)動(dòng)機(jī)的蓋、燃燒室殼體、噴管、喉襯、擴(kuò)散段,以及整流罩等部位,與鋁合金相比重量可減輕 1025。航空航天領(lǐng)域?qū)Α拜p量化價(jià)值”的追求不止,碳纖維追求高強(qiáng)、高模、高韌的發(fā)展趨勢(shì)也不會(huì)停止
4、。1.1.2 碳纖維產(chǎn)業(yè)格局:原絲到復(fù)材 日本擁有技術(shù)、規(guī)模等優(yōu)勢(shì)日本是全球最大的碳纖維生產(chǎn)國(guó),其碳纖維在技術(shù)水準(zhǔn)、質(zhì)量和數(shù)量上均處于世界領(lǐng)先地位。全球主要碳纖維生產(chǎn)企業(yè)有:日本的東麗、三菱、東邦,美國(guó)的赫氏、氰特,德國(guó)的西格里,土耳其的陶氏阿克薩等企業(yè)。全球碳纖維企業(yè)可分為三個(gè)梯隊(duì):1)兼具規(guī)模和技術(shù)優(yōu)勢(shì)的企業(yè),日本東麗、日本東邦等為典型代表; 2)在特定領(lǐng)域具備較強(qiáng)競(jìng)爭(zhēng)力的企業(yè),比如德國(guó)西格里在汽車領(lǐng)域;3)具備成本優(yōu)勢(shì)的企業(yè),比如臺(tái)塑、土耳其陶氏阿克薩、韓國(guó)曉星等。根據(jù)2018全球碳纖維及復(fù)合材料市場(chǎng)報(bào)告,主要碳纖維生產(chǎn)企業(yè)中,產(chǎn)能最大的前五家分別是東麗(日本)、卓爾泰克(美國(guó))、西格里
5、(德國(guó))、三菱麗陽(yáng)(日本)、東邦(日本),合計(jì)產(chǎn)能為 8.7萬(wàn)噸,占全球總產(chǎn)能 56%。2018年全球碳纖維理論產(chǎn)能為 15.48萬(wàn)噸,其中東麗公司產(chǎn)能 (含卓爾泰克)達(dá)到 4.7萬(wàn)噸, 占比 30%,遠(yuǎn)超其他碳纖維廠家。在小絲束碳纖維市場(chǎng)上,東麗、帝人(東邦母公司)和三菱合計(jì)占據(jù)全球 49%的市場(chǎng)份額;在大絲束碳纖維市場(chǎng)上,東麗和三菱合計(jì)占據(jù)全球 54%的市場(chǎng)份額。2013 年,東麗收購(gòu)美國(guó)第一大大絲束生產(chǎn)商卓爾泰克,成功進(jìn)入低成本大絲束碳纖維領(lǐng)域,成為當(dāng)之無(wú)愧的碳纖維巨無(wú)霸。數(shù)據(jù)來(lái)源:2018全球碳纖維復(fù)合材料市場(chǎng)報(bào)告,XXXX市場(chǎng)研究部三大碳纖維日企東麗、三菱麗陽(yáng)和東邦:東麗公司通過(guò)自己
6、遍布全球的運(yùn)營(yíng)網(wǎng)絡(luò), 生產(chǎn)基地遍布日本、美國(guó)、歐洲,產(chǎn)品型號(hào)包括 T 和 M 兩個(gè)系列,T 系列是拉伸強(qiáng)度,M 系列是模量,其中 T1000型碳纖維技術(shù)領(lǐng)先,在產(chǎn)能上東麗也遠(yuǎn)超其他企業(yè)。日本三菱麗陽(yáng)是三菱化學(xué)控股集團(tuán)旗下企業(yè),碳纖維產(chǎn)品分為高強(qiáng)度、中模高強(qiáng)、高模量三個(gè)系列。日本東邦隸屬于帝人集團(tuán),有著較完整的產(chǎn)品線,高強(qiáng)型碳纖維包括 HTA40、HTS40、UTS50等,中等模量高強(qiáng)型包括 IMS40、IMS60, 高模量碳纖維有 HMA35、UMS40、UMS55。表 1:日本主要碳纖維生產(chǎn)企業(yè)企業(yè)名稱生產(chǎn)能力(t/a)裝置所在地工藝技術(shù)東麗(TORAY)三菱麗陽(yáng)(MRC)470001430
7、0日本、韓國(guó)、法國(guó)、美國(guó)日本、美國(guó)DMSO(二甲基亞砜)濕法紡絲+干噴施紡DMAC(二甲基乙酰胺)濕法紡東邦(TOHO)13900日本、德國(guó)、美國(guó)絲ZnCl (2 氯化鋅)濕法紡絲日本主要碳纖維公司近年擴(kuò)產(chǎn)情況:(據(jù)中國(guó)化工新材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展報(bào)告統(tǒng)計(jì))東麗公司:1)旗下卓爾泰克 17年宣布擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃匈牙利工廠產(chǎn)能從 1.0萬(wàn)噸提升到 1.5萬(wàn)噸,墨西哥產(chǎn)能從 0.5萬(wàn)噸提升至 1.0萬(wàn)噸。2)由于波音等航空航天用戶及亞洲市場(chǎng)用戶增加,在韓國(guó)和美國(guó)分別擴(kuò)產(chǎn) 2000t 和 2500t 小絲束產(chǎn)能。東邦公司:17 年宣布 3.2 億美元擴(kuò)建計(jì)劃日本原絲產(chǎn)能和美國(guó)南加州碳化工廠,計(jì)劃 2020 年生產(chǎn)。三
8、菱公司:計(jì)劃 18 年投資 1.22 億美元、2000t 產(chǎn)能大絲束產(chǎn)品。PAN基碳纖維技術(shù)主要由日企掌握。碳纖維的種類多樣,按照不同的前驅(qū)體,可以形成聚丙烯腈(PAN)基碳纖維、瀝青基碳纖維、黏膠基碳纖維;其中,聚丙 烯腈(PAN)基碳纖維占整個(gè)碳纖維產(chǎn)能的 90%以上。PAN(聚丙烯腈)是生產(chǎn)碳纖維的原料,1960 年代開(kāi)始,日本東麗公司開(kāi)始使用此方法生產(chǎn)碳纖維,此后全球多家大型碳纖維廠商也以 PAN為生產(chǎn)原料。目前,世界上 PAN基碳纖維技術(shù)主要掌握在日本的東麗公司、三菱人造絲公司和東邦公司中,包括 PAN 原絲生產(chǎn)中的聚合、噴絲、牽引等幾個(gè)步驟,以及碳化過(guò)程中的低溫碳化、高溫碳化兩個(gè)環(huán)
9、節(jié)。機(jī)構(gòu)專利情況:日本非常重視保持在該領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì),尤其重視高性能 PAN 基碳纖維以及能源和環(huán)境友好相關(guān)技術(shù)的研發(fā)。近年各國(guó)都比較重視碳纖維領(lǐng)域的研究投入,相關(guān)論文發(fā)表和專利申請(qǐng)都呈逐年上升趨勢(shì)。日本東麗公司專利數(shù)量為511項(xiàng),位列第一。圖 2:碳纖維專利數(shù)量前 30機(jī)構(gòu)(2010-2017)6005004003002001000東 三 中 帝 哈 河 東 韓 中 日 北 中 山 中 山 西 天 江 巴 上 大 哈 榮 日 韓 大 中 陜 常 天麗 菱 石 人 爾 南 華 國(guó) 國(guó) 本 京 國(guó) 東 南 東 北 津 蘇 伐 海 連 爾 成 本 國(guó) 連 科 西 州 津公 麗 化 株 濱 科 大 曉
10、上 東 化 國(guó) 科 大 大 工 工 恒 利 交 理 濱 復(fù) 東 可 創(chuàng) 院 科 市 大司 陽(yáng) 式 工 信 學(xué) 星 海 邦 工 家 技 學(xué) 學(xué) 業(yè) 業(yè) 神 亞 通 工 天 合 洋 隆 達(dá) 山 技 第 學(xué)會(huì) 業(yè) 電社 大 纜集 石大 電 大團(tuán) 化學(xué) 網(wǎng) 學(xué)大 大 股 發(fā) 大 大 順 材 紡 工 科 西 大 八學(xué) 學(xué) 份 動(dòng) 學(xué) 學(xué) 化 料業(yè) 技 煤 學(xué) 紡學(xué)機(jī)工株 貿(mào) 化織廠式 易 所機(jī)會(huì)械社數(shù)據(jù)來(lái)源:中國(guó)科學(xué)院,XXXX市場(chǎng)研究部1.1.3 日本碳纖維主要企業(yè):東麗集團(tuán) 從紡織到高性能纖維材料的轉(zhuǎn)型日本東麗集團(tuán)創(chuàng)立于 1926年,業(yè)務(wù)范圍廣,包括纖維和紡織品、高性能化學(xué)品、碳纖維復(fù)合材料、環(huán)境工
11、程、生命科學(xué)等多類業(yè)務(wù),在碳纖維領(lǐng)域有著廣泛的控制力,覆蓋了從 PAN 原絲到復(fù)合材料等產(chǎn)業(yè)鏈上各階段產(chǎn)品。2018 年全球的碳纖維生產(chǎn)中,東麗產(chǎn)能(含卓爾泰克)達(dá)到 4.7 萬(wàn)噸。2018 年,東麗在匈牙利和墨西哥再投資 200億日元,預(yù)計(jì)提高 20%左右的自身產(chǎn)能。近年來(lái),東麗大舉展開(kāi)收購(gòu);2013 年收購(gòu)美國(guó)第一大大絲束生產(chǎn)商卓爾泰克,成功進(jìn)入低成本大絲束碳纖維領(lǐng)域,成為當(dāng)之無(wú)愧的碳纖維巨無(wú)霸;同年收購(gòu)韓國(guó)熊津化學(xué);2018 年再斥資 9.3億歐元收購(gòu)荷蘭曇卡先進(jìn)復(fù)合材料公司。公司縱向延伸與橫向擴(kuò)張并舉,不斷鞏固自身優(yōu)勢(shì)地位。2018年,東麗已在 26個(gè)國(guó)家地區(qū)建立了商業(yè)基地,海外營(yíng)收占
12、比達(dá)到 54%。2018財(cái)年?yáng)|麗實(shí)現(xiàn)營(yíng)收 2.39萬(wàn)億日元,同比增長(zhǎng) 8.34%,實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn) 793.73億日元,同比下跌 17.25%;在歐美與本國(guó)市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)仍處于復(fù)蘇期的背景下,原料和原油價(jià)格上漲是影響東麗集團(tuán)凈利潤(rùn)的主要因素。30000002500000200000015000001000000120000100000800006000040000200005000000%0-20%0-5%-20000 2009201020112012201320142015201620172018 -30%2009201020112012201320142015201620172018數(shù)據(jù)來(lái)源:Wind
13、,XXXX市場(chǎng)研究部數(shù)據(jù)來(lái)源:Wind,XXXX市場(chǎng)研究部2018年,東麗集團(tuán)主要業(yè)務(wù)是纖維與紡織(40%、高性能化學(xué)品(39%)和碳纖 維復(fù)合材料(11%)等。纖維與紡織業(yè)務(wù)的增長(zhǎng)主要受益于工業(yè)需求的增強(qiáng);高性能化學(xué)業(yè)務(wù)主要是由于樹(shù)脂、鋰電池分離片、OLED 等出貨量的增加;在碳纖維復(fù)合材料領(lǐng)域,航空領(lǐng)域需求仍然強(qiáng)勁,碳纖維的工業(yè)應(yīng)用也呈現(xiàn)復(fù)蘇趨勢(shì), 主要是環(huán)境和能源相關(guān)領(lǐng)域有復(fù)蘇跡象,然而原材料價(jià)格上漲和競(jìng)爭(zhēng)加劇是影響碳纖維業(yè)務(wù)的主要不利因素。環(huán)境工程, 7%碳纖維復(fù)合材料, 11%生命科學(xué), 3%纖維與紡織品,高性能化學(xué)品,40%39%數(shù)據(jù)來(lái)源:東麗年報(bào),XXXX市場(chǎng)研究部東麗集團(tuán)將每年
14、研發(fā)投入保持在 600億日元的水平,以維持自己的技術(shù)優(yōu)勢(shì)地位。2017 年的全部研發(fā)投入中,32%用于高性能化學(xué)品的研發(fā),11%用于碳纖維。核心技術(shù)方面,東麗集團(tuán)擁有“有機(jī)合成化學(xué)”、“聚合物化學(xué)”、“生物技術(shù)”和“納米技術(shù)”四大板塊的優(yōu)勢(shì)技術(shù),擁有 5800 多項(xiàng)專利,打造了自己的獨(dú)立研發(fā)機(jī)構(gòu),不斷提升自身核心能力。圖 6:東麗研發(fā)費(fèi)用及其占營(yíng)收比重研發(fā)費(fèi)用(十億日元)研發(fā)費(fèi)用營(yíng)收占比706050403020100FY2008 FY2009 FY2010 FY2011 FY2012 FY2013 FY2014 FY2015 FY2016 FY2017 FY20184.0%3.5%3.0%2.
15、5%2.0%1.5%1.0%0.5%0.0%數(shù)據(jù)來(lái)源:東麗官網(wǎng),XXXX市場(chǎng)研究部日企在市場(chǎng)上的優(yōu)勢(shì)與其產(chǎn)品的優(yōu)良性能、技術(shù)水準(zhǔn)緊密相關(guān),尤其是在航空領(lǐng)域,以東麗為首的日本企業(yè)提供的高品質(zhì)碳纖維在航空工業(yè)買家中有著無(wú)可替代的地位。日本東麗公司的碳纖維產(chǎn)品性能優(yōu)異,東麗生產(chǎn)的碳纖維環(huán)氧樹(shù)脂預(yù)浸料用于波音 787“夢(mèng)想”客機(jī)的機(jī)翼和尾翼結(jié)構(gòu)中。除了航空航天領(lǐng)域,碳纖維在體育用品、汽車、土木建筑、壓力容器、葉輪等領(lǐng)域都有著廣泛用途。6000396T600S2400041202301.917001.79T700G1200080024000490024021.781650T800H60002231200
16、054902941.94451.81T1000G1200063702942.24851.8M35J60002251200047003431.41.75450M40J60002251200044103771.24501.77M50J600041204750.82181.88M60J300039205880.71001.946000200M30S1800054902941.97601.73M30G1800051002941.77601.73M40100061300027403920.71821.81600036412000728數(shù)據(jù)來(lái)源:日本東麗公司及其碳纖維事業(yè),XXXX市場(chǎng)研究部1.2 半導(dǎo)體
17、材料:日本擁有從晶圓制造到封裝環(huán)節(jié)重要材料的絕對(duì)優(yōu)勢(shì)1.2.1 半導(dǎo)體材料:細(xì)分領(lǐng)域多,技術(shù)門檻高半導(dǎo)體材料是指電導(dǎo)率介于金屬與絕緣體之間的材料,是制作晶體管、集成電路、電力電子器件、光電子器件的重要材料。半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中細(xì)分領(lǐng)域最多的產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)。半導(dǎo)體材料市場(chǎng)可以分為晶圓材料和封裝材料市場(chǎng)。其中, 晶圓材料主要有硅片、光掩膜、光刻膠、光刻膠輔助設(shè)備、濕制程、濺射靶、拋光液和其他材料。封裝材料主要有層壓基板、引線框架、焊線、模壓化合物、底部填充料、液體密封劑、粘晶材料、錫球、晶圓級(jí)封裝介質(zhì)和熱接口材料。相比于其他電子及制造領(lǐng)域相關(guān)材料,半導(dǎo)體材料的技術(shù)門檻一般要高,因?yàn)槠浼兌纫蟾摺?/p>
18、工藝復(fù)雜,在研發(fā)過(guò)程中需要下游進(jìn)行批量測(cè)試。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從上游的材料、設(shè)備、IP 供應(yīng)開(kāi)始,經(jīng)過(guò) IC 設(shè)計(jì)、IC制造與 IC封測(cè),再到下游的應(yīng)用,產(chǎn)業(yè)鏈龐大到幾乎不可能由單個(gè)企業(yè)或國(guó)家完成,需要各國(guó)之間的產(chǎn)業(yè)鏈相互合作、相互制約。材料和設(shè)備是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基石,是推動(dòng)集成電路技術(shù)創(chuàng)新的引擎。半導(dǎo)體材料處于整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的上游環(huán)節(jié),具有產(chǎn)業(yè)規(guī)模大、細(xì)分行業(yè)多、技術(shù)門檻高、更新速度快等特點(diǎn);其中晶圓制造材料包括硅片、光掩模、光刻膠、光刻膠輔助材料、工藝化學(xué)品、電子特氣、靶材、CMP拋光材料(拋光液和拋光墊)等。數(shù)據(jù)來(lái)源:安集科技招股書,XXXX市場(chǎng)研究部1.2.2 日本在全球半導(dǎo)體材
19、料市場(chǎng)所占份額過(guò)半日本在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域有絕對(duì)優(yōu)勢(shì),日本廠商在全球市場(chǎng)占有的綜合份額達(dá)到52%,生產(chǎn)半導(dǎo)體必備的 19種材料都離不開(kāi)日本企業(yè)的生產(chǎn)。如在硅晶圓、合成半導(dǎo)體晶圓、光罩、光刻膠、靶材料、保護(hù)涂膜、引線架、陶瓷板、塑料板、TAB(捲帶式自動(dòng)接合)、COF(薄膜復(fù)晶)、焊線、封裝材料等 14 種重要材料方面,日本廠商均占有 50%以上份額;在陶瓷基板、樹(shù)脂基板、金線鍵合、以及半導(dǎo)體封裝等材料方面, 日本廠商的市場(chǎng)占有率甚至超過(guò) 80%, 占據(jù)壟斷地位。據(jù) SEMI 數(shù)據(jù),日本企業(yè)在全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)上所占綜合份額約達(dá)到 52%,信越化學(xué)、SUMCO、JSR、東京應(yīng)化工業(yè)、大陽(yáng)日酸等日企,
20、構(gòu)成了全球半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。(1)硅晶圓硅晶圓是芯片制造中將后續(xù)添加的原子與基板固定在一起的關(guān)鍵材料,需要經(jīng)過(guò)高度純化和拉晶制作,晶圓材料是半導(dǎo)體生產(chǎn)的基石。作為全球最大的半導(dǎo)體材料輸出國(guó),日本硅晶圓廠商占全球硅晶圓市場(chǎng)的 53%。全球前五大硅晶圓供貨商分別是日本信越半導(dǎo)體(市場(chǎng)占有率 27%, 其單晶硅可達(dá)到純度所謂“11 個(gè) 9” 的水平, 制造技術(shù)遠(yuǎn)超其他企業(yè))、日本勝高 SUMCO (26%)、臺(tái)灣環(huán)球晶圓 (17%)、德國(guó) Silitronic (13%)、韓國(guó) LG (9%)。圖 8:2018年全球硅晶圓供貨商份額占比韓國(guó)LG, 9%其他,8%德國(guó)世創(chuàng)電子, 13%日本信越,
21、27%日本勝高, 26%臺(tái)灣環(huán)球晶圓, 17%數(shù)據(jù)來(lái)源:勝高官網(wǎng),XXXX市場(chǎng)研究部(2)硅片未切割的單晶硅材料是一種薄型圓片叫晶圓片,割后叫硅片,通過(guò)對(duì)硅片進(jìn)行光刻、離子注入等手段,可以制成各種半導(dǎo)體器件。大硅片方面,日本同樣占據(jù)著絕對(duì)的優(yōu)勢(shì)地位,日本信越化學(xué)與日本勝高(SUMCO)合計(jì)占超過(guò) 50%的全球份額。日本在這一領(lǐng)域的主要競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)在兩個(gè)方面,第一是日本承接了最先開(kāi)創(chuàng)這一行業(yè)的美國(guó)企業(yè)的業(yè)務(wù),是較早進(jìn)入硅片領(lǐng)域的國(guó)家,日本企業(yè)從 90 年代開(kāi)始就保持著自己的專利與技術(shù)壁壘,控制著行業(yè)內(nèi)的人才與資金流向。另一方面, 日本企業(yè)利用硅片行業(yè)的規(guī)模效應(yīng),成本更低。由于半導(dǎo)體硅片行業(yè)具有技
22、術(shù)難度高、研發(fā)周期長(zhǎng)、資本投入巨大、客戶認(rèn)證周期長(zhǎng)等特點(diǎn),全球半導(dǎo)體硅片行業(yè)集中度高(CR5占比 93%),主要被日本、德國(guó)、韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣等地的知名企業(yè)占據(jù)。2018 年,全球前五大半導(dǎo)體硅片企業(yè)規(guī)模較大,合計(jì)銷售額 7,403,516.48 萬(wàn)元,占全球半導(dǎo)體硅片行業(yè)銷售額比重高達(dá) 93%。其中,日本信越化學(xué)市場(chǎng)份額 27.58%,日本 SUMCO 市場(chǎng)份額 24.33%, 中國(guó)臺(tái)灣環(huán)球晶圓市場(chǎng)份額為 16.28%,德國(guó) Siltronic 市場(chǎng)份額 14.22%,韓國(guó)SK Siltron市場(chǎng)份額占比為 10.16%。圖 9:2018年全球半導(dǎo)體硅片行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局合晶科技, 2.5%硅產(chǎn)業(yè)集
23、團(tuán)(模擬合SOITEC, 3.9%SK Siltron, 10.2%并上海新傲), 2.2%Siltronic, 14.2%環(huán)球晶圓, 16.3%數(shù)據(jù)來(lái)源:硅產(chǎn)業(yè)招股書,XXXX市場(chǎng)研究部(3)電子氣體信越化學(xué), 27.6%SUMCO, 24.3%電子氣體指的是半導(dǎo)體工業(yè)中用到的氣體,分為純氣體、高純氣和半導(dǎo)體特殊材料氣體三類,是發(fā)展集成電路、光電子、微電子、超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、半導(dǎo)體發(fā)光器件和半導(dǎo)體材料制造過(guò)程中必不可少的材料,從根本上影響和制約著電路器件的精確性。此前日本對(duì)韓國(guó)實(shí)施出口限制的高純度氟化氫是半導(dǎo)體用的刻蝕氣體,主要用于晶圓表面清洗、芯片加工過(guò)程的清洗和腐蝕。目前日
24、本在氟化氫領(lǐng)域占據(jù)絕對(duì)領(lǐng)先地位,日本限制對(duì)韓出口將迫使韓國(guó)加快進(jìn)口來(lái)源多元化,并致力于材料和零部件的國(guó)產(chǎn)化。氟化氫的全球主要供應(yīng)商是日本的 StellaChemifa、昭和電工、關(guān)東電化、大陽(yáng)日酸和中央硝子等。日本政府2019 年 7 月 4 日起加強(qiáng)對(duì)氟聚酰亞胺、抗蝕劑(光刻膠)和高純度氟化氫三種半導(dǎo)體材料的出口管制,氟化氫對(duì)韓出口量 7 月環(huán)比驟減 83.7%。此前韓國(guó)超過(guò)90%的氟聚酰亞胺和抗蝕劑以及 40%以上的高純度氟化氫均靠從日本進(jìn)口。2019 年一至五月份韓國(guó)進(jìn)口的氟化氫,以總價(jià)額計(jì)分別為中國(guó)占 46.3%,日本 43.9%, 中國(guó)臺(tái)灣 9.7%,印度 0.1%。后經(jīng)兩國(guó)談判,日
25、本政府小幅放寬光刻膠對(duì)韓出口限制,但至今依然限制這 3 種材料的出口。CF4、SF4、C2F6、NF3硅片刻蝕刻蝕氟基(CI2)和溴基(Br2、HBr)氣體CCI4、CI2、BCI3等改進(jìn)氣體、提高各向異性和選擇性鋁和金屬?gòu)?fù)合層的刻蝕離子注入三價(jià)摻雜氣體:B2H6、BBr3、BF3P 型半導(dǎo)體的摻雜等成膜SbC15等氬氣做濺射氣體(濺射率高,成本低)刻蝕硅烷 (SiH4)、 氨氣 (NH3)、 磷烷(PH3)、笑氣(N20)、NF3 等受激發(fā)產(chǎn)能低溫等離子體CF4、02、氯氣刻蝕硅島、溝道和接觸孔H2、N2作載氣五價(jià)摻雜氣體:PH3、P0C13、AsH3、N 型半導(dǎo)體的慘雜顯示半導(dǎo)體照明太陽(yáng)能
26、電池外延片制造芯片制造晶體硅電池片薄膜太陽(yáng)能6N 以上高純度的 V 族氫化物(如NH3、PH3、AsH3) BCI3、CI2等P0CI3、02CF4SiH4、NH3 DEZn、B2H6作反應(yīng)氣用于蝕刻環(huán)節(jié)用于擴(kuò)散工序用于刻蝕工序用于減反射層 PECVD工序用于 LPCVD沉積 TCO工序電池片SiH4、PH3、H2、TMB、H2、CH4、NF用于沉積工序數(shù)據(jù)來(lái)源:新材料在線,XXXX市場(chǎng)研究部電子氣體方面,日本的大陽(yáng)日酸株式會(huì)社也是國(guó)際五大巨頭之一,全球市場(chǎng)份額占比達(dá) 18%,另外四家分別是美國(guó)空氣化工(25%)、法國(guó)液空(23%)、美國(guó)普萊克斯(17%)和林德集團(tuán)(8%)。美國(guó)普萊克斯, 1
27、7%其他, 9%美國(guó)空氣化工, 25%日本大陽(yáng)日酸, 18%法國(guó)液空,23%林德集團(tuán), 8%數(shù)據(jù)來(lái)源:2019半導(dǎo)體關(guān)鍵材料市場(chǎng)研究報(bào)告,XXXX市場(chǎng)研究部(4)光刻膠光刻膠是一種對(duì)光敏感的混合液體,通過(guò)曝光源的照射或輻射,經(jīng)光刻工藝將設(shè)計(jì)所需要的微細(xì)圖形從掩膜版上轉(zhuǎn)移到待加工基片上,主要應(yīng)用于集成電路芯片、發(fā)光二極管(LED)、晶圓級(jí)先進(jìn)封裝等制程上。光刻膠是半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的核心材料,光刻工藝的成本約占整個(gè)芯片制造工藝的 35%,耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的 40%60%。光刻膠技術(shù)壁壘高,涉及光阻材料的核心技術(shù)也為日美企業(yè)所壟斷。全球前五家廠商包括日本 JSR(28%)、東京應(yīng)化(21%)、
28、美國(guó)羅門哈斯(15%)、信越化學(xué)(13%)、富士電子材料(10%),其中四家日本廠商市占率達(dá)到 72%。光刻膠行業(yè)門檻高,新興企業(yè)較難進(jìn)入。同時(shí),作為半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的上游產(chǎn)品, 光刻膠質(zhì)量直接影響著下游芯片產(chǎn)品的質(zhì)量。目前,光刻膠曝光波長(zhǎng)有寬譜紫外向 g 線-i 線-KrF-ArF-EUV 的方向移動(dòng),KrF 和 ArF 光刻膠被日本、美國(guó)企業(yè)壟斷。日本在這一領(lǐng)域的控制力極大增強(qiáng)了日本整體的半導(dǎo)體實(shí)力。數(shù)據(jù)來(lái)源:新材料在線,XXXX市場(chǎng)研究部另外,光掩膜版和濺射靶材同樣也是日美優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域。全球半導(dǎo)體掩膜版 80%以上市場(chǎng)份額被日本凸版印刷 Toppan(32%)、美國(guó) Photronics(23
29、%)、和日本 DNP(27%)三家占據(jù),另外還有自產(chǎn)自銷的臺(tái)積電和三星。濺射靶材是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點(diǎn),一般由靶坯和背板(或背管)組成。濺射靶材的主要國(guó)外廠商包括日本 JX日礦金屬(30%) 和東曹(20%)、美國(guó)霍尼韋爾(20%)和普萊克斯(10%)、韓國(guó)三星等,日美企業(yè)占據(jù)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì),市占率超過(guò) 80%。圖 12:全球掩膜版主要企業(yè)份額占比數(shù)據(jù)來(lái)源:SEMI,XXXX市場(chǎng)研究部數(shù)據(jù)來(lái)源:中國(guó)電子材料行業(yè)協(xié)會(huì),XXXX市場(chǎng)研究部總體而言,日本企業(yè)在全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)上所占綜合份額約達(dá)到 52%,信越化學(xué)、SUMCO、JSR、東京應(yīng)化工業(yè)、大陽(yáng)日
30、酸等日企,構(gòu)成了全球半導(dǎo)體制造的關(guān) 鍵環(huán)節(jié)。其中, 信越化學(xué)工業(yè)在福島和茨城設(shè)有兩大生產(chǎn)基地, 僅其福島基地的半導(dǎo)體晶圓供應(yīng)量就占全球 20%的比例。1.2.3 日本半導(dǎo)體材料主要企業(yè):信越化學(xué)日本信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社成立于 1926 年,業(yè)務(wù)范圍廣泛,涉及硅片、稀土磁體、砷化鎵等等多類材料。從 20世紀(jì)六十年代開(kāi)始,信越的國(guó)際業(yè)務(wù)開(kāi)始擴(kuò)張, 在全世界建立起了自己的生產(chǎn)網(wǎng)絡(luò)。目前信越擁有 85個(gè)海外基地,70%的營(yíng)收來(lái)自海外。2018財(cái)年信越化學(xué)實(shí)現(xiàn)營(yíng)收 1.59萬(wàn)億日元,同比增長(zhǎng) 10.59%;實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn) 3091億日元,同比增速達(dá) 16.11%。圖 14:日本信越化學(xué)營(yíng)收及增速圖 15:日
31、本信越化學(xué)凈利潤(rùn)及增速1800000160000014000001200000100000080000060000040000020000002009 2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018350000300000250000200000150000100000500000凈利潤(rùn)(百萬(wàn)日元)同比增速200920102011201220132014201520162017201860%50%40%30%20%10%0% 數(shù)據(jù)來(lái)源:公司年報(bào),XXXX市場(chǎng)研究部數(shù)據(jù)來(lái)源:公司年報(bào),XXXX市場(chǎng)研究部信越化學(xué)的主要業(yè)務(wù)包括半導(dǎo)體硅(32.7%)、PVC
32、化成品(26.4%)、電子功能材料(16.6%)和有機(jī)硅(14.5%)等。2018年各項(xiàng)業(yè)務(wù)都獲得相當(dāng)增長(zhǎng),PVC化成品營(yíng)收實(shí)現(xiàn) 4.6%的增長(zhǎng),主要得益于歐美市場(chǎng)的穩(wěn)定業(yè)務(wù)拓展;半導(dǎo)體硅營(yíng)收增長(zhǎng) 23.3%,主要由于價(jià)格調(diào)整與穩(wěn)定的出貨量;有機(jī)硅營(yíng)收增長(zhǎng) 13.1%,得益于世界市場(chǎng)需求增長(zhǎng),量?jī)r(jià)齊升。電子功能料, 16.6%數(shù)據(jù)來(lái)源:公司年報(bào),XXXX市場(chǎng)研究部圖 17:2017、2018年日本信越化學(xué)各業(yè)務(wù)營(yíng)收6005004003002001000PVC化成品半導(dǎo)體硅有機(jī)硅電子功能材料 功能性化學(xué)品 其他相關(guān)事業(yè)數(shù)據(jù)來(lái)源:公司年報(bào),XXXX市場(chǎng)研究部1.3 顯示材料:日本有多種關(guān)鍵材料做到
33、全球獨(dú)家供應(yīng)顯示面板又稱為平板顯示(FPD),顯示面板大致可分為發(fā)射型顯示和非發(fā)射型顯示。發(fā)射型顯示包括有機(jī)發(fā)光二極管顯示(OLED)、等離子顯示(PDP)等。其中OLED中根據(jù)矩陣不同,可分為主動(dòng)矩陣(AMOLED)和被動(dòng)矩陣(PMOLED)。非發(fā)射型顯示主要為液晶顯示(LCD),而 LCD中最主要的技術(shù)為薄膜晶體管液晶顯示(TFT-LCD。在液晶顯示(LCD)市場(chǎng)上,我們可以看到日企的產(chǎn)能規(guī)模有限,主要是由于日本企業(yè)投資較為保守,但是日本擁有完整配套的顯示產(chǎn)業(yè)鏈和強(qiáng)大的技術(shù)基礎(chǔ), 在面板產(chǎn)業(yè)上游的材料和設(shè)備上占據(jù)主導(dǎo)優(yōu)勢(shì),因此日企的實(shí)力仍然不容忽視。韓國(guó)憑借著技術(shù)優(yōu)勢(shì)、人才優(yōu)勢(shì)、專利優(yōu)勢(shì)居
34、于領(lǐng)先地位,但由于自身市場(chǎng)過(guò)小, 產(chǎn)能過(guò)剩,較依賴于全球市場(chǎng)尤其是中國(guó)市場(chǎng)。國(guó)家/地區(qū)201520162017E2018E2019E2020E韓國(guó)45.0%44.3%41.8%38.6%34.3%29.8%中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)34.4%33.5%31.2%29.9%28.9%29.3%中國(guó)大陸10.9%12.2%16.8%22.3%29.1%33.8%日本9.7%10.0%10.0%9.1%7.6%6.9%在有機(jī)發(fā)光二極管顯示(OLED)領(lǐng)域,日本顯示產(chǎn)業(yè)主要企業(yè)有出光興產(chǎn)、精工愛(ài)普生、松下、柯尼達(dá)美能達(dá)等,這些公司從 OLED 產(chǎn)品的上游原料到組裝、生產(chǎn)等都有涉及,形成了一個(gè)完整的產(chǎn)業(yè)鏈。目前,韓國(guó)
35、和日本在 OLED 領(lǐng)域的實(shí)力遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先于別的國(guó)家。從 OLED專利數(shù)量來(lái)看,韓國(guó)三星 SDI擁有專利數(shù)最多, 其次就是日本企業(yè)。排名機(jī)構(gòu)名稱所屬國(guó)家/地區(qū)專利數(shù)量所占比例1三星 SDI韓國(guó)1161729.1%2出光興產(chǎn)日本31607.9%3LG顯示韓國(guó)30537.7%4LG韓國(guó)29917.5%5精工日本18434.6%6松下日本17504.4%7柯達(dá)美國(guó)15834.0%8柯尼卡美能達(dá)日本15513.9%9住友化學(xué)日本15123.8%10其他12843.2%11飛利浦荷蘭12073.0%12富士通日本12003.0%13索尼日本11803.0%14友達(dá)光電中國(guó)臺(tái)灣11392.9%15默克專利公司
36、德國(guó)10232.6%16三星電子韓國(guó)8712.2%17西門子德國(guó)8022.0%18先鋒日本7401.9%19群創(chuàng)光電中國(guó)臺(tái)灣7041.8%20佳能日本6951.7%在顯示產(chǎn)業(yè)部分關(guān)鍵材料領(lǐng)域,日本占據(jù)主導(dǎo)地位甚至是壟斷地位。隨著有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管(AMOLED)顯示屏迅速取代智能手機(jī)中的 LCD,精細(xì)金屬掩膜版(FMM)材料占據(jù)了關(guān)鍵地位,其用于制造 RGB-AMOLED的關(guān)鍵生產(chǎn)組件。精細(xì)金屬掩模版(FMM)材料的主材是金屬或金屬+樹(shù)脂,是中小尺寸 OLED 生產(chǎn)中不可或缺的材料,是形成高分辨率像素的必須零部件。三星顯示進(jìn)行了多年的攻關(guān), 但目前全球的 FMM 材料仍由日立金屬獨(dú)家供應(yīng);
37、OLED 金屬模板的全球唯一供應(yīng)商也是大日本印刷公司(DNP)。另外,在設(shè)備領(lǐng)域,全球 OLED蒸鍍?cè)O(shè)備的供應(yīng)為日本的Canon Tokki所壟斷,盡管三星電子占據(jù)了 90%以上的中小尺寸 OLED屏, 但卻很大部分依然要依賴 Canon Tokki的真空蒸鍍機(jī);佳能和尼康能供應(yīng)的曝光2、 日本優(yōu)勢(shì)關(guān)鍵部件及設(shè)備產(chǎn)業(yè)日本關(guān)鍵部件及設(shè)備產(chǎn)業(yè)包括:高端被動(dòng)器件和半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備。2.1 高端被動(dòng)器件(電阻、電容、電感等):日本體現(xiàn)了強(qiáng)大的控制力日本在許多高端被動(dòng)器件(電阻、電容、電感等)體現(xiàn)了強(qiáng)大的控制力,例如日本村田、TDK公司、Taiyo公司、京瓷是全球 SAW濾波器主要供應(yīng)商,日本村田和 Ta
38、iyo公司是電容電感主要供應(yīng)商。在片式多層陶瓷電容器方面,日本村田市場(chǎng)占有率第一(31%),占據(jù)絕對(duì)優(yōu)勢(shì)。在鋁電解兼容領(lǐng)域,前四大廠商均為日本 企業(yè),市場(chǎng)占比達(dá)到 56%。在天線開(kāi)關(guān)方面,除了美國(guó)的 SKYWORKS(思佳訊)公司和 Qorvo公司,日本的村田和松下是主要供應(yīng)商。目前鋁電解電容器電解質(zhì)固態(tài)化技術(shù)發(fā)展領(lǐng)先的國(guó)家是日本, 其三洋公司開(kāi)發(fā)的 TCNQ 固態(tài)電解質(zhì)及貴彌功株式會(huì)社與尼吉康株式會(huì)社開(kāi)發(fā)的高質(zhì)量固態(tài)電解質(zhì), 是目前在全球范圍內(nèi)使用的最主要的固態(tài)電解質(zhì)。圖 18:鋁電解電容器示意圖數(shù)據(jù)來(lái)源:廣西吉光電子科技,XXXX市場(chǎng)研究部2.2 半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備:日本三成以上設(shè)備具備競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)
39、勢(shì)半導(dǎo)體設(shè)備是半導(dǎo)體行業(yè)的支撐行業(yè),可分為 IC制造(前端設(shè)備)和 IC封測(cè)(后道設(shè)備)兩大領(lǐng)域。晶圓加工制造設(shè)備為主要設(shè)備,約占所有設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模的80%。根據(jù)美國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)調(diào)查公司 VLSI Research 2017的數(shù)據(jù),在晶圓加工制造設(shè)備中,份額排名前四的有刻蝕設(shè)備(占比 24%)、薄膜沉積設(shè)備(占比 20%)、光刻設(shè)備(占比 18.4%)、前道檢測(cè)設(shè)備(占比 10.4%)。其他, 4.0%薄膜沉積設(shè)備, 20.0%晶圓加工制造設(shè)備,封裝及組裝設(shè)備, 7.0%測(cè)試設(shè)備, 9.0%80.0%刻蝕設(shè)備,24.0%光刻設(shè)備,18.4%擴(kuò)散設(shè)備, 0.8%離子注入設(shè)別, 1.6%清洗設(shè)備, 1
40、.6%前道監(jiān)測(cè)設(shè)備, 10.4%拋光設(shè)備, 3.2%數(shù)據(jù)來(lái)源:VLSI Research 2017,XXXX市場(chǎng)研究部2.2.1 2020年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)有望復(fù)蘇2020 年半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)將從 2019 年疲軟態(tài)勢(shì)中復(fù)蘇。據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)公布的年度半導(dǎo)體設(shè)備預(yù)測(cè)報(bào)告,預(yù)估 2019 年全球半導(dǎo)體制造設(shè)備銷售額將達(dá) 576 億美元,較去年 644 億美元?dú)v史高點(diǎn)下滑 10.5%,但 2020 年有望逐漸回溫,并于 2021年有望創(chuàng)歷史新高。圖 20:2019-2021全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額預(yù)測(cè)(單位:10億美元)數(shù)據(jù)來(lái)源:SEMI 2019.12,XXXX市場(chǎng)研究部2.2.2
41、全球半導(dǎo)體設(shè)備廠商前十強(qiáng)美日各占 4 家在 2019年全球前 10名半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備廠商中,美日各占據(jù) 4 家。排名前四名廠商為設(shè)備產(chǎn)業(yè)頂級(jí)公司,營(yíng)收達(dá)百億美元。2019 年 4 家美國(guó)公司(應(yīng)用材料、泛林半導(dǎo)體、科磊、泰瑞達(dá))的總營(yíng)收達(dá) 261 億美元,相比 2018 年減少 25 億美元,下滑增長(zhǎng) 8.7%。 4 家日本公司(東京電子、愛(ài)德萬(wàn)測(cè)試、斯科半導(dǎo)體、日立高科)的總營(yíng)收為 158 億美元,相比 2018 年減少 20 億美元,下滑 11%。單位:百萬(wàn)美元營(yíng)收排名公司英文名中文名總部2019年年增1Applied Materials(AMAT)應(yīng)用材料美國(guó)11049-14.18%2AS
42、ML阿斯麥荷蘭108008.97%3Tokyo Electron(TEL)東京電子日本10338-11.18%4Lam Research泛林半導(dǎo)體美國(guó)9549-12.16%5KLA科磊美國(guó)391317.86%6SCREEN斯科半導(dǎo)體日本2200-1.74%7Advantest愛(ài)德萬(wàn)測(cè)試日本1853-27.02%8ASM Pacific Technology先進(jìn)太平洋科技新加坡1770-19.76%9Teradyne泰瑞達(dá)美國(guó)15534.09%10Hitachi High-Tech日立高科日本14125.77%合計(jì)54437-6.83%全球半導(dǎo)體設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)格局高度集中(CR5占比 70%)。其中前
43、五大半導(dǎo)體設(shè)備制造廠商包括美國(guó)應(yīng)用材料(AMAT)、荷蘭阿斯麥(ASML)、美國(guó)泛林半導(dǎo)體(Lam Research)、日本東京電子(Tokyo Electron)和美國(guó)科磊(KLA-Tencor),它們由于起步較早,憑借資金、技術(shù)、客戶資源等優(yōu)勢(shì)占據(jù)了全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)絕大部分份額。其中,阿斯麥在光刻機(jī)設(shè)備方面形成寡頭壟斷;應(yīng)用材料、東京電子和泛林半導(dǎo)體是提供等離子體刻蝕和薄膜沉積等工藝設(shè)備的三強(qiáng);科磊半導(dǎo)體是檢測(cè)設(shè)備的龍頭企業(yè)。2% 2%2%4%7%2%應(yīng)用材料(Applied Materials)美國(guó)阿斯麥(ASML) 荷蘭23%泛林集團(tuán)(Lam Research) 美國(guó)東京電子(Tok
44、yo Electron) 日本科磊(KLA-Tencor) 美國(guó)19%19%迪恩士(SCREEN) 日本20%國(guó)際電氣(KOKUSAI ELECTRIC) 日本日立高新技術(shù)(Hitachi High-Tech) 日本細(xì)美事(SEMES) 韓國(guó)大福(Daifuku) 日本數(shù)據(jù)來(lái)源:Gartner 2018 (注:不含后工序設(shè)備),XXXX市場(chǎng)研究部2.2.3 半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)呈寡頭壟斷格局,市場(chǎng)份額多為前三家占據(jù)細(xì)分來(lái)看,各類半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)均呈現(xiàn)寡頭競(jìng)爭(zhēng)格局,市場(chǎng)份額多為前三家占據(jù)。例如光刻機(jī)方面,阿斯麥(ASML)專業(yè)從事光刻,占領(lǐng) 75%市場(chǎng)份額。應(yīng)用材料(AMAT)作為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備商
45、,在多種設(shè)備領(lǐng)域市占率領(lǐng)先,產(chǎn)品與服務(wù)已覆蓋原子層沉積、物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積、刻蝕、快速熱處理、離子注入、測(cè)量和檢測(cè)、清洗等生產(chǎn)步驟。用途主要廠商(市占率)在半導(dǎo)體基材上(硅片)表面勻膠,將掩模版光刻機(jī)上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上,把器件或電路結(jié)構(gòu)臨ASML (75%)、Nikon (11%)、Canon(6%)時(shí)復(fù)制到硅片上刻蝕機(jī)薄膜設(shè)備使用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要材料LAM (45%)、TEL (21%)、AMAT (20%)采用物理或化學(xué)方法使物質(zhì)(原材料)附著于襯底材料表面AMAT (40%)、LAM (15%)、TEL (15%)離于注入使具有一定能量的帶電粒子(離子
46、)高速轟擊AMAT (60%)、Axcelis (10%)硅襯底并將其注入硅襯底的過(guò)程過(guò)程控制半導(dǎo)體制造過(guò)程中,對(duì)設(shè)備或產(chǎn)品規(guī)范的控制KLA (50%)、AMAT、日立清洗機(jī)CMP采用特定的化學(xué)藥液和去離子水,對(duì)圓片表面進(jìn)行無(wú)損傷清洗,以去除顆粒、自然氧化層、有機(jī)物、金屬污染、犧牲層、拋光殘留物等物質(zhì)通過(guò)機(jī)械研磨和化學(xué)液體溶解“腐蝕”的綜合作用,對(duì)被研磨體(半導(dǎo)體)進(jìn)行研磨拋光SCREEN (54%)、TEL (23%)、KLA (10%)、LAMAMAT (60%)、Ebara (20%)測(cè)試設(shè)備集中檢測(cè)電學(xué)參數(shù)泰瑞達(dá)(45%)、愛(ài)德萬(wàn)(40%)日本半導(dǎo)體廠商在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中所用的 30種
47、生產(chǎn)設(shè)備中至少在 10種以上具有競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì), 且在一些裝置方面如電子束描畫、顯影等形成壟斷地位。如在洗凈干燥、減壓 CVD、氧化擴(kuò)散爐、封裝、存儲(chǔ)檢查、處理器檢查等領(lǐng)域, 日本企業(yè)占有份額均超過(guò) 50%;而在電子束描畫、顯影、切割、探針檢查等領(lǐng)域, 日本企業(yè)份額甚至超過(guò) 90%, 具備了壟斷性競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。分類來(lái)看,在前端半導(dǎo)體設(shè)備中,日本在清洗設(shè)備占比 70%、氧化爐占比 83%、電子束描畫設(shè)備市場(chǎng)占比 93%、涂布/顯影設(shè)備占比 98%、減壓 CVD設(shè)備占比 79%。半導(dǎo)體后端設(shè)備中,成型機(jī)占比 54%、劃片機(jī)占比 97%;后端檢測(cè)設(shè)備中,處理器占比 56%、內(nèi)探針器占比 90%、存測(cè)試機(jī)占比
48、50%。2.2.4 日本半導(dǎo)體設(shè)備主要企業(yè):日本東京電子日本東京電子(Tokyo Electron/TEL)是全球第三大半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商(全球市場(chǎng)份額約 19%,前兩家分別是美國(guó)應(yīng)用材料和荷蘭阿斯麥)。公司成立于 1963 年,主要產(chǎn)品為半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備和平板顯示器(FPD)生產(chǎn)設(shè)備,在等離子體刻 蝕和薄膜沉積等工藝設(shè)備上全球領(lǐng)先。東京電子擁有 34家公司,廣泛分布于 17 個(gè)國(guó)家或地區(qū)。隨著大數(shù)據(jù)和人工智能(AI)等新技術(shù)的日益普及,下一代 5G 電信標(biāo)準(zhǔn)的引入肯定會(huì)加速一個(gè)完全由數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)的社會(huì)的出現(xiàn)。半導(dǎo)體和平板顯示器(FPD)的使用也在以前所未有的速度擴(kuò)大,催生新的產(chǎn)業(yè)。東京電子的半導(dǎo)
49、體和平板顯示器(FPD)生產(chǎn)設(shè)備構(gòu)成了這些新產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ),同時(shí)也是支持創(chuàng)新和推動(dòng)廣泛電子設(shè)備發(fā)展的核心技術(shù)。近年來(lái)公司業(yè)績(jī)持續(xù)增長(zhǎng)。2018財(cái)年,東京電子實(shí)現(xiàn)營(yíng)收 12782.40億日元,同比增長(zhǎng) 13.05%;實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn) 2482.28億日元,同比增長(zhǎng) 21.46%.圖 22:東京電子營(yíng)收及增速圖 23:東京電子凈利潤(rùn)及增速1400070%30001000%1200060%2500800%10000800050%40%30%20001500600%400%20%200%600010%100040000%-10%5000%-200%2000-20%0-400%0-30%2009 2010 201
50、1 2012 2013 2014 2015 2016 2017 20182009 2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018-500-600%數(shù)據(jù)來(lái)源:公司官網(wǎng),XXXX市場(chǎng)研究部數(shù)據(jù)來(lái)源:公司官網(wǎng),XXXX市場(chǎng)研究部公司兩大主要產(chǎn)品:半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備和 FPD生產(chǎn)設(shè)備,占營(yíng)收比重分別為 91.28%和 8.70%。FPD生產(chǎn)設(shè)備8.70%其他0.02%半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè) 備 91.28%數(shù)據(jù)來(lái)源:公司官網(wǎng),XXXX市場(chǎng)研究部半導(dǎo)體設(shè)備的主要類別是涂布機(jī)/顯影機(jī),蝕刻系統(tǒng),用于晶圓加工的沉積系統(tǒng)和清洗系統(tǒng),以及晶圓測(cè)試過(guò)程中使用的晶圓探針,此外還提供用于封
51、裝工藝的晶片粘合機(jī)等。FPD 設(shè)備的主要類別包括涂布機(jī)/顯影機(jī)和刻蝕系統(tǒng)。另外也提供噴墨打印系統(tǒng)制造 OLED面板,以應(yīng)對(duì)不斷擴(kuò)大的 OLED顯示器市場(chǎng)需求。圖 25:東京電子半導(dǎo)體設(shè)備種類數(shù)據(jù)來(lái)源:公司年報(bào),XXXX市場(chǎng)研究部公司充分重視研究開(kāi)發(fā),研發(fā)支出逐年增長(zhǎng)。2018 財(cái)年研發(fā)支出達(dá) 1139.80 億日元,占營(yíng)收比重為 8.92%,公司十年來(lái)研發(fā)支出占營(yíng)收比重一直保持在 8%-15%。120010008006004002000研發(fā)支出(億日元)研發(fā)支出營(yíng)收占比2009 2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 201816%14%12%10%8%
52、6%4%2%0%數(shù)據(jù)來(lái)源:公司官網(wǎng),XXXX市場(chǎng)研究部2.2.5 啟示:國(guó)內(nèi)設(shè)備商成長(zhǎng)之路少不了自主創(chuàng)新+并購(gòu)整合國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備龍頭有著相似的發(fā)展路線,起步較早,且不斷通過(guò)自主研發(fā)和并購(gòu)整合來(lái)豐富產(chǎn)品線從而擴(kuò)張版圖,這為我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化發(fā)展道路帶來(lái)啟示。持續(xù)的高研發(fā)投入和自主創(chuàng)新是企業(yè)立身之本,而并購(gòu)整合加速了新技術(shù)集成和應(yīng)用。在并購(gòu)風(fēng)格上,綜合型設(shè)備公司偏好多樣化并購(gòu),而專業(yè)型設(shè)備公司青睞公司所專注的領(lǐng)域相關(guān)的并購(gòu)。例如光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)歷來(lái)注重研發(fā)投入和自主創(chuàng)新,2010-2018年研發(fā)費(fèi)用率保持在 14%左右。應(yīng)用材料(AMAT)在經(jīng)過(guò)數(shù)次并購(gòu)活動(dòng)后,產(chǎn)品線基本覆蓋了半導(dǎo)體前道制造的主要設(shè)備,包括原子層沉積 ALD、物理氣相沉積 PVD、化學(xué)氣相沉積 CVD、刻蝕
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