《掃描型光學(xué)散射特性測量儀》征求意見稿-編制說明_第1頁
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文檔簡介

《掃描型光學(xué)散射特性測量儀》隨著光學(xué)技術(shù)發(fā)展,納米級粗糙度及光散射效應(yīng)對元件性能的影響成為研究重點(diǎn)。傳統(tǒng)角分辨散射(ARS)和總積分測量法需更高精度設(shè)備支撐表面散射特性分析,這對測量儀器的靈敏度和分辨率提出新要求。掃描型散射特性測量儀是一種光學(xué)精密測量設(shè)備,涉及光學(xué)、精密機(jī)械、精密運(yùn)動控制、微弱信號處理、測試標(biāo)定等多學(xué)科交叉,集光、機(jī)、電、算于一體的先進(jìn)光電測試儀器,具備可根據(jù)需求規(guī)劃運(yùn)動路徑,生成散射特性測試程序,降低使用難度和編程需求。掃描型光學(xué)散射特性測量儀不但可以用于國防、航空航天、重大裝置(點(diǎn)火裝置、同步輻射裝置等)、空間遙感觀測、衛(wèi)星相機(jī)、軍事偵察、高清成像等高端光學(xué)行業(yè),還可在光學(xué)和精密機(jī)械加工(離子束拋光、磁流變拋光等)的粗糙度測量、汽車車漆及車膜光澤度評價(jià)、計(jì)算機(jī)視覺模擬、虛擬現(xiàn)實(shí)、人眼視覺效果模擬、寶石切割效果評價(jià)、化妝品光澤效果評價(jià)等工業(yè)和民用領(lǐng)域2024年12月-2025年2月,標(biāo)準(zhǔn)研制組收集整理了有關(guān)掃描型2025年3月,標(biāo)準(zhǔn)研制組通過多次討論和調(diào)研,形成了標(biāo)準(zhǔn)正1.標(biāo)準(zhǔn)編制原則本文件依據(jù)GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則A:低溫8、GB/T17421.2機(jī)床檢驗(yàn)通則第2部分:數(shù)控軸9、JCGM100-2008Evaluexpressionofuncertaintyinme

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