一PECVD原理及設備結(jié)構(gòu)3

PECVD的原理及設備結(jié)構(gòu)PECVD：PlasmaEnhanceChemicalVapourDeposition等離子增強化學氣相沉積等離子體：由于物質(zhì)分子熱運動加劇，相互間的碰撞就會使氣體分子產(chǎn)生電離，這樣的物質(zhì)就會變成自由運動并由相互作用的電子、正離子和中性粒子組成混合物的一種形態(tài)，這種形態(tài)就稱為等離子態(tài)即第四態(tài).PECVD的原理工作原理：CentrothermPECVD系統(tǒng)是一組利用平行板鍍膜舟和高頻等離子激發(fā)器的系列發(fā)生器。在低壓和升溫的情況下，等離子發(fā)生器直接裝在鍍膜板中間發(fā)生反應。所用的活性氣體為硅烷SiH4和氨NH3。這些氣體作用于存儲在硅片上的氮化硅?？梢愿鶕?jù)改變硅烷對氨氣的比率，來得到不同的折射指數(shù)。在沉積工藝中，伴有大量的氫原子和氫離子的產(chǎn)生，使得晶片的氫鈍化性十分良好。PECVD的原理技術原理：是利用低溫等離子體作能量源，樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的反應氣體，氣體經(jīng)一系列化學反應和等離子體反應，在樣品表面形成固態(tài)薄膜。PECVD的原理3SiH4+4NH3→Si3N4+12H2↑Si3N4的認識:Si3N4膜的顏色隨著它的厚度的變化而變化，其理想的厚度是75—80nm之間，表面呈現(xiàn)的顏色是深藍色，Si3N4膜的折射率在2.0—2.5之間為最佳，與酒精的折射率相乎，通常用酒精來測其折射率。Si3N4的優(yōu)點：優(yōu)良的表面鈍化效果高效的光學減反射性能（厚度折射率匹配）低溫工藝（有效降低成本）反應生成的H離子對硅片表面進行鈍化.PECVD的原理及作用

物理性質(zhì)和化學性質(zhì)：結(jié)構(gòu)致密，硬度大能抵御堿、金屬離子的侵蝕介電強度高耐濕性好PECVD的原理Si3N4膜的作用:減少光的反射:良好的折射率和厚度可以促進太陽光的吸收。防氧化:結(jié)構(gòu)致密保證硅片不被氧化。PECVD的原理PECVD設備結(jié)構(gòu)晶片裝載區(qū)爐體特氣柜真空系統(tǒng)控制系統(tǒng)PECVD設備結(jié)構(gòu)示意圖晶片裝載區(qū)：槳、LIFT、抽風系統(tǒng)、SLS系統(tǒng)。槳：由碳化硅材料制成，具有耐高溫、防變形等性能。作用是將石墨舟放入或取出石英管。LIFT：機械臂系統(tǒng)，使舟在機械臂作用下在小車、槳、儲存區(qū)之間互相移動。抽風系統(tǒng)：位于晶片裝載區(qū)上方，初步的冷卻石墨舟和一定程度的過濾殘余氣體SLS系統(tǒng)：軟著落系統(tǒng)，控制槳的上下，移動范圍在2—3厘米PECVD設備結(jié)構(gòu)爐體：石英管、加熱系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)石英管：爐體內(nèi)有四根石英管，是鍍膜的作業(yè)區(qū)域，耐高溫、防反應。加熱系統(tǒng)：位于石英管外，有五個溫區(qū)。PECVD設備結(jié)構(gòu)PECVD設備結(jié)構(gòu)冷卻系統(tǒng)：是一套封閉的循環(huán)水系統(tǒng)，位于加熱系統(tǒng)的金屬外殼，四進四出并有一個主管道，可適量調(diào)節(jié)流量大小。冷卻系統(tǒng)的優(yōu)點:沒有消耗凈室空氣不同管間無熱干涉爐環(huán)境的溫度沒有被熱空氣所提升空氣運動（通風裝置）沒有使房間污染噪音水平低冷卻系統(tǒng)示意圖特氣柜：MFC氣動閥

MFC：氣體流量計（NH3CF4SiH4O2N2）SiH41.8slmNH310.8slmCF43.6slmO23slmN215slm

氣動閥：之所以不用電磁閥是因為電磁閥在工作時容易產(chǎn)生火花，而氣動閥可以最大程度的避免火花。PECVD設備結(jié)構(gòu)真空系統(tǒng)真空泵：每一根石英管配置一組泵，包括主泵和輔助泵。蝶閥：可以根據(jù)要求控制閥門的開關的大小，來調(diào)節(jié)管內(nèi)氣壓的PECVD設備結(jié)構(gòu)控制系統(tǒng)

CMI:是Centrotherm研發(fā)的一個控制系統(tǒng)，其中界面包括Jobs（界面）、System（系統(tǒng)）、Catalog（目錄）、Setup（軟件）、Alarms（報警）、Help（幫助）.Jobs:機器的工作狀態(tài)。System:四根管子的工作狀態(tài)，舟的狀態(tài)以及手動操作機器臂的內(nèi)容。Datalog:機器運行的每一步。

PECVD設備結(jié)構(gòu)PECVD設備結(jié)構(gòu)Setup:舟的資料的更改，工藝內(nèi)容的更改，使用權限的更改，LIFT位置的更改，CMS安區(qū)系統(tǒng)（安裝的感應器將監(jiān)控重要系統(tǒng)的運行情況，而一旦不受管的計算機的控制，CMS將會發(fā)生作用，所有的錯誤信息也都會在CIM上得以簡潔的文本方式顯示出來）的更改等。Alarms：警報內(nèi)容Help:簡要的說了一下解除警報以及其他方面的方法CESAR:控制電腦，每一個系統(tǒng)都安裝了CESAR控制電腦及CESAR控制軟件，此控制電腦獨立于主電腦系統(tǒng)中。CESAR控制電腦示意圖運行順序控制控制界面數(shù)據(jù)資料記錄溫度特氣真空晶片裝載判斷PECVD的產(chǎn)出硅片的質(zhì)量亮點色斑鍍膜時間太短水紋印色斑色差9、春去春又回，新桃換舊符。在那桃花盛開的地方，在這醉人芬芳的季節(jié)，愿你生活像春天一樣陽光，心情像桃花一樣美麗，日子像桃子一樣甜蜜。2月-252月-25Wednesday,February26,202510、人的志向通常和他們的能力成正比例。18:08:1918:08:1918:082/26/20256:08:19PM11、夫?qū)W須志也，才須學也，非學無以廣才，非志無以成學。2月-2518:08:1918:08Feb-2526-Feb-2512、越是無能的人，越喜歡挑剔別人的錯兒。18:08:1918:08:1918:08Wednesday,February26,202513、志不立，天下無可成之事。2月-252月-2518:08:1918:08:19February26,202514、ThankyouverymuchfortakingmewithyouonthatsplendidoutingtoLondon.ItwasthefirsttimethatIhadseentheToweroranyoftheotherfamoussights.IfI'dgonealone,Icouldn'thaveseennearlyasmuch,becauseIwouldn'thaveknownmywayabout.。26二月20256:08:19下午18:08:192月-2515、會當凌絕頂，一覽眾山小。二月256:08下午2月-2518:08February26,202516、如果一