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文檔簡介
ICS29.045
H83DL
中華人民共和國電力行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
DL/TXXXXX—XXXX
電力系統(tǒng)高壓功率器件用碳化硅外延片使
用條件
Siliconcarbideepitaxialwaferacceptancespecificationforhighvoltagepower
devicesatthegridsystem
(征求意見稿)
XX-XX-XX發(fā)布XXXX-XX-XX實(shí)施
國家能源局發(fā)布
DL/TXXXXX—XXXX
II
DL/TXXXXX—XXXX
電力系統(tǒng)高壓功率器件用碳化硅外延片使用條件
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電力系統(tǒng)高壓功率器件用碳化硅外延材料的各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于高電壓功率器件應(yīng)用的碳化硅外延材料。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于直徑為①100mm和中150mm的碳化硅外延材料。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后
所有的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用F本標(biāo)準(zhǔn)。然而,鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)
議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本
標(biāo)準(zhǔn)。
IEC63068-1Semiconductordevices-Non-des(ruc(iverecognitioncriteriaofdefectsinsilicon
carbidehomocpitaxialwaferforpowerdevices-Part1:Classificationofdefects
IEC63068-2Semiconductordevices-Non-destructiverecognitioncriteriaofdefectsinsilicon
carbidehomocpitaxialwaferforpowerdevices-Part2:Testmethodfordefectsusingopticalinspection
GB/T14264半導(dǎo)體材料術(shù)語
GB/T30656碳化硅單晶拋光片
GB/T30866碳化硅單晶片直徑測試方法
GB/T30868碳化硅單晶片微管密度的測定化學(xué)腐蝕法
GB/T31351碳化硅單晶拋光片微管密度無損檢測方法
GB/T32278嫉化硅單晶片平整度測試方法
3術(shù)語和定義
GB/T14264界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。
3.1掉落物downfall
掉落物是一種小顆粒物,一般為從生長室內(nèi)壁上掉落下來的3C-SiC顆粒,外延生長過程中
被外延層所包裹,通常會(huì)以顆粒物所在位置為起點(diǎn),誘發(fā)三角形缺陷。
[IEC63068-1,定義4,2.12]
3.2三角形triangle
呈現(xiàn)三角形形狀,含有兩條及兩條以上的邊線,具有方向性,第三條邊與主參考邊,近成90
度。三角形頭部有時(shí)有一明顯的小三角形凹痕,內(nèi)含3C-SiC晶型層。
[IEC63068-1,定義4211]
3.2胡蘿卜carrot
呈胡蘿卜形狀,長條形線狀缺陷,其中一端較粗。胡蘿卜缺陷具有方向性,方向沿水平方向,
與主參考邊幾近平行。
DL/TXXXXX-XXXX
4一第i點(diǎn)的外延層厚度,單位為微米(pm);
t一外延層厚度的平均值。
表2厚度允許偏差
平均厚度”im)允許偏差/%
t<5O|im±5
SO^m<t<1OOJ.im±4
100nm<t<200nm±2.5
表3厚度最大相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差
平均厚度最大相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差/%
t<50gm3
50gm<t<100^im4
100pm<t<200nm5
4.6外延片摻雜濃度
4.6.1n型外延層摻雜元素為氮,p型外延層摻雜元素為鋁。
4.6.2外延層中心摻雜濃度允許偏差應(yīng)符合表4的規(guī)定。
表4摻雜濃度允許偏差
平均厚度平均摻雜濃度/cm"允許偏差
t<50pm>1E15±10
50pm<t<l00pm1E14A1E15±15
—
1OOpm<t<200|xm1E14務(wù)5E14
4.6.3摻雜濃度最大相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(Q(c))按公式(2)計(jì)算,外延層徑向摻雜濃度變化應(yīng)符合
表5的規(guī)定。
Cy(c)=x100%...........⑵
式中:
Q(c)—外延層摻雜濃度相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差,通常以百分?jǐn)?shù)表示:
N—測試點(diǎn)數(shù):直徑為100mm的外延片采取5點(diǎn),分別指中心點(diǎn)以及子啊平行于和垂直于主
參考面的兩條直徑上距周邊6mni±1mm的5點(diǎn)位置處;直徑為150mm的外延片采取9點(diǎn),分別為中心
點(diǎn)以及平行于和垂直于主參考面的兩條直徑上1/2半徑以及距周邊6nmi±1mm的9點(diǎn)位置處。
。一第i點(diǎn)的外延層摻雜濃度,單位為每立方厘米(cm。).
C一外延層摻雜濃度的平均值。
III
DL/TXXXXX—XXXX
表5摻雜濃度最大相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差
平均厚度平均摻雜濃度/cm7直徑/mm最大相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差/%
>1E15IGO8
15010
1E14務(wù)1E15IGO15
50pm<t<100pm
15015
1E14^5R14100—
100pm<t<200pm
150
4.7外延片缺陷
4.7.1外延片基面位錯(cuò)密度不大于10cm2。
4.7.2表面缺陷區(qū)域系指直徑100mm和150nnn碳化硅外延片邊緣去除5nlm環(huán)形區(qū)域的整個(gè)表面。
4.7.3外延片表面缺陷密度,應(yīng)符合表6的規(guī)定。
表6表面缺陷限度
序號(hào)缺陷名稱外延片直徑/mm缺陷限度
1掉落物100、150
2胡蘿卜100、150<0.5個(gè)/cnF
3三角形100、150
4長三角形100、150
5臺(tái)階聚集100、150總長度W1個(gè)直徑
6劃傷100、150
4.8外延片表面粗糙度
對(duì)不同厚度規(guī)格的要求如表7。
表7表面粗糙度
平均厚度表面粗糙度(lOumXlOum)Ra
t<50|im<0.3nm
50HmV&lOOpm<0.5nm
100|.im<t<200j.im<lnni
4.9N型外延片的少子壽命
對(duì)不同厚度規(guī)格的要求如表8。
表8少子壽命
平均惇度少子壽命
t<50gm>0.6us
IV
DL/TXXXXX—XXXX
50pm<t<100^m>1.0us
100pm<f<200|im>1.5us
4.10外延片翹曲、彎曲度、總厚度變化
對(duì)不同厚度規(guī)格的要求如表9
表9翹曲度、彎曲度、總厚度變化
平均厚度直徑翹曲度/um彎曲度/um總厚度變化/um
ICO<40<±40<10
t<50pm
150<50<±50<10
ICO<50<±50<10
50pm<t<100pm
150———
———
100pm<ICO
150———
t<200|im
4.11金屬污染
對(duì)各種金屬離子濃度的要求如表1()。
表10金屬污染
金屬元素含量atoms/cm'
銅<1E11
鐵<1E11
輅<1E11
鋅<1E11
鍥<1EU
鉀<1E12
鈉<1E12
鋁<1E12
4.12如客戶對(duì)某些項(xiàng)目有特殊規(guī)定,由供需雙方協(xié)商決定。
5測試方法
5.1外延片的厚度測試按紅外反射方法進(jìn)行,或按供需雙方商定的辦法進(jìn)行。
5.2外延片的摻雜濃度按汞探針電容-電壓法進(jìn)行,或按供需雙方商定的辦法進(jìn)行。
5.3外延片的基面位錯(cuò)測試按熒光光譜進(jìn)行,或按供需雙方商定的辦法進(jìn)行。
V
DL/TXXXXX-XXXX
5.4外延片的表面缺陷測試按IEC63068-2規(guī)定進(jìn)行。
5.5外延片的表面粗糙度測試按原子力顯微鏡方法進(jìn)行,或按供需雙方商定的辦法進(jìn)行。
5.6外延片的少子壽命測試按微波反射光電導(dǎo)衰減法進(jìn)行,或按供需雙方商定的辦法進(jìn)行。
5.7外延片的翹曲度、彎曲度、總厚度變化的測試按GB/T32278的規(guī)定進(jìn)行。
5.8外延片的金屬污染測試按全反射X光熒光光譜測試方法進(jìn)行,或按供需雙方商定的辦法進(jìn)
行。
6包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、儲(chǔ)存
6.1包裝、標(biāo)志
6.1.1碳化硅外延片應(yīng)在潔凈室內(nèi)裝入專用的包裝盒包裝,外用潔凈的塑料袋充氮?dú)饣蛘婵辗?/p>
裝。每個(gè)片盒應(yīng)貼有產(chǎn)品標(biāo)簽,標(biāo)簽內(nèi)容至少應(yīng)包括:產(chǎn)品名稱、規(guī)格、片數(shù)、批號(hào)等信息?;?/p>
按供需雙方商定的其他方法包裝。
6.1.2包裝箱內(nèi)應(yīng)有裝箱單,外側(cè)應(yīng)有“小心輕放”、“防腐防潮”、“易碎”字樣或標(biāo)記,并
注明:
a)需方名稱:
b)產(chǎn)品名稱;
c)產(chǎn)品數(shù)量;
d)供方名稱。
6.1.3每批次產(chǎn)品應(yīng)附產(chǎn)品質(zhì)量證明書,注明:
a)供方名稱;
b)產(chǎn)品名稱;
c)產(chǎn)品批號(hào);
d)產(chǎn)品數(shù)量;
e)電阻率測試方法;
f)產(chǎn)品晶向;
g)各項(xiàng)檢驗(yàn)結(jié)果;
h)本標(biāo)準(zhǔn)編號(hào);
i)出廠日期。
6.2運(yùn)輸、儲(chǔ)存
6.2.1產(chǎn)品在運(yùn)輸中應(yīng)輕裝輕卸、勿擠勿壓、并有防震措施。
6.2.2產(chǎn)品應(yīng)儲(chǔ)存在潔凈干燥環(huán)境中。
VI
DL/TXXXXX—XXXX
目次
目次............................................................................VII
刖a.........................................................................I
1范圍................................................................................I
2規(guī)范性引用文件......................................................................I
3術(shù)語和定義..........................................................................I
4技術(shù)要求...........................................................................II
5測試方法............................................................................V
6包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、儲(chǔ)存.............................................................VI
VII
DL/TXXXXX-XXXX
,>Z1—1—
刖s
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電力系統(tǒng)高壓功率器件用碳化硅外延產(chǎn)品的各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)。
請(qǐng)注意本標(biāo)準(zhǔn)的某些內(nèi)容可能涉及專利。本標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別這些專利的責(zé)任。
本標(biāo)準(zhǔn)由全球能源互聯(lián)網(wǎng)研究院有限公司提出并解釋。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國也力企也聯(lián)合會(huì)電力系統(tǒng)用電力電子器件標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(CEC/TC08)歸
口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:全球能源互聯(lián)網(wǎng)研究院有限公司、蕪湖啟迪半導(dǎo)體有限公司、中國電子
科技集團(tuán)公司第五十五研究所、東莞市天域半導(dǎo)體科技有限公司、瀚天天成電子科技(度門)有
限公司、國網(wǎng)經(jīng)濟(jì)技術(shù)研究院有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:鈕應(yīng)喜、楊霏、李贊、孫國勝、馮浪、張新河、陳志霞、王翼、石
巖、楊勇。
本標(biāo)準(zhǔn)為首次發(fā)布。
DL/TXXXXX—XXXX
目次
目次............................................................................VII
刖a...........................................................
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