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文檔簡(jiǎn)介

ICS87.020

CCSQ18

41

河南省地方標(biāo)準(zhǔn)

DB41/T2432—2023

石窟寺石刻類(lèi)文物拓印技術(shù)規(guī)范

2023-06-06發(fā)布2023-09-05實(shí)施

河南省市場(chǎng)監(jiān)督管理局發(fā)布

DB41/T2432—2023

目次

前言..................................................................................II

1范圍.................................................................................1

2規(guī)范性引用文件.......................................................................1

3術(shù)語(yǔ)和定義...........................................................................1

4拓印原則.............................................................................2

5拓印要求.............................................................................2

6拓印信息登記.........................................................................3

7拓片保存.............................................................................4

附錄A(資料性)文物拓印、拓片信息登記表..............................................5

參考文獻(xiàn)...............................................................................6

I

DB41/T2432—2023

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定

起草。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專(zhuān)利,本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專(zhuān)利的責(zé)任。

本文件由河南省文化和旅游廳提出并歸口。

本文件起草單位:河南省文物建筑保護(hù)研究院、北京理工大學(xué)、河南省測(cè)繪工程院、河南博物院、

河南大學(xué)。

本文件主要起草人:李銀忠、楊東昱、李芳、肖夢(mèng)瑩、朱曉寧、周鼎、李仁清、馮新紅、張留民、

侯岳、李存文、王景荃。

II

DB41/T2432—2023

石窟寺石刻類(lèi)文物拓印技術(shù)規(guī)范

1范圍

本文件規(guī)定了石窟寺石刻類(lèi)文物拓印原則、拓印要求、拓印信息登記和拓片保存。

本文件適用于石窟寺石刻類(lèi)文物拓印工作。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,

僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本

文件。

GB/T33289—2016館藏磚石文物保護(hù)修復(fù)記錄規(guī)范

WW/T0007—2007石質(zhì)文物保護(hù)修復(fù)方案編寫(xiě)規(guī)范

國(guó)家文物局.文物復(fù)制拓印管理辦法.2011

3術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。

3.1

石窟寺

開(kāi)鑿于山崖上洞窟式的寺院遺跡。

[來(lái)源:WW/T0063—2015]

3.2

石刻

經(jīng)雕刻的技法刻畫(huà)的石質(zhì)材料。

3.3

拓印

在文物本體覆蓋一定的材料,通過(guò)摹印文物上的紋飾、文字、圖案等,制作拓片的活動(dòng)。

3.4

平面拓印

拓印對(duì)象為平面器物,通過(guò)上紙、上墨、揭取等流程等比例將器物拓印在拓片上的過(guò)程。

3.5

高浮雕拓印

采用正投影原理,按照原尺寸1:1大小,通過(guò)上紙、上墨、揭取、拼接等流程將高浮雕作品從立體

形象轉(zhuǎn)換為平面拓片的過(guò)程。

3.6

拓片

將金石等器物的形狀及其上面的文字、圖案通過(guò)拓印取得的紙片。

1

DB41/T2432—2023

3.7

上紙

將拓紙覆蓋于所拓器物上,并使之貼合的過(guò)程。

3.8

上墨

用拓包著墨的過(guò)程。

3.9

拼接

高浮雕拓印過(guò)程中將揭取下來(lái)的拓片碎片用糨糊貼條按照原有比例位置固定在一起,形成完整拓片

的過(guò)程。

4拓印原則

4.1真實(shí)性原則

反映石窟寺石刻類(lèi)文物的歷史、藝術(shù)、科學(xué)、社會(huì)信息的真實(shí)性。

4.2完整性原則

拓印應(yīng)對(duì)石窟寺石刻類(lèi)文物各個(gè)要素進(jìn)行完整記錄。

4.3最低限度干預(yù)原則

石窟寺石刻類(lèi)文物拓印應(yīng)首先保證文物安全,把對(duì)文物本體的干預(yù)限制在最低程度。

5拓印要求

5.1基本要求

拓印應(yīng)按照《文物復(fù)制拓印管理辦法》規(guī)定開(kāi)展,符合WW/T0007—2007各措施基本要求。

5.2平面拓印

5.2.1除塵

除塵的主要對(duì)象為拓體表面附著的灰塵、土垢等,宜采用柔軟刷子或棉布毛巾清潔。

5.2.2上紙

5.2.2.1拓印用紙應(yīng)選用薄透、細(xì)膩、有較強(qiáng)韌性的紙張,常用生宣紙或皮紙。紙張尺寸依據(jù)拓體大

小選擇,四邊至少留白3cm。

5.2.2.2平面拓印上紙有以下兩種方法:

a)干紙上紙法:主要用于快速拓印,可采用摁紙法、打紙法及刮掃法,這些上述方法也可組合

使用;

b)濕紙上紙法:上紙前應(yīng)悶紙,即疊紙、浸水處理,疊紙對(duì)折時(shí)紙邊宜錯(cuò)開(kāi)5mm~10mm。常采

用刮掃法,也可采用摁紙法、打紙法。

2

DB41/T2432—2023

5.2.3上墨

選墨應(yīng)采用油煙墨或膠性較小墨汁。

拓紙干至80%~90%開(kāi)始上墨,上墨時(shí)行包應(yīng)遵循“包壓包”、“行壓行”、“縱橫交錯(cuò)”的原則,

包與包、行與行相互之間重疊部分以三分之一至三分之二為宜,應(yīng)保持墨色均勻、墨不透紙,一般需要

上墨三遍。

5.2.4揭取

墨干至80%~90%,從下往上順勢(shì)揭取。揭取后自然晾干,不可曝曬。

5.2.5折疊拓片

折疊拓片應(yīng)由邊緣向內(nèi),折疊后裝袋保存。

5.3高浮雕拓印

5.3.1除塵

除塵的主要對(duì)象為拓體表面所附著的灰塵、土垢等,應(yīng)保持字體紋飾清晰,宜采用柔軟刷子或棉布

毛巾清潔。

5.3.2上紙

5.3.2.1整紙切割上紙法:將整張紙覆蓋于拓印對(duì)象上,在易破損處采用主動(dòng)切割的上紙方法。

5.3.2.2分紙切割上紙法:將紙裁成若干塊,分部定位逐步上紙的方法。

5.3.2.3上紙時(shí)先從高處上起,再逐步、分別摁壓,在易破損、易褶皺處可選擇主動(dòng)切割。凹凸落差

大時(shí),用竹刀主動(dòng)割開(kāi),避免錯(cuò)位。

5.3.3上墨

用墨應(yīng)使用油煙墨或膠性較小墨汁。

上墨順序應(yīng)遵循由高到低原則,上墨范圍應(yīng)依照拓印對(duì)象正投影尺寸1:1大小。同一部位凸出部分

墨色要重,向周邊逐步漸淡。

5.3.4揭取

依據(jù)拓印對(duì)象紋路順向揭取,應(yīng)最大限度保持拓片完整,細(xì)微處可使用竹刀挑起。揭取后鋪一張整

紙作為墊紙,將揭取的拓片碎片做初步拼接定位。

5.3.5拼接

拼接包括制作糨糊、蒸拓片、噴水、伸展、拼裝、粘接等過(guò)程。拼接過(guò)程中應(yīng)保證拓片對(duì)接合縫。

6拓印信息登記

拓印后應(yīng)進(jìn)行信息登記,詳細(xì)記錄文物拓印信息和拓片信息。文物拓印信息和拓片信息登記內(nèi)容見(jiàn)

附錄A,書(shū)寫(xiě)要求按GB/T33289規(guī)定。

3

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7拓片保存

7.1拓片存放

7.1.1平放存放:將拓片平展置于架子上保存,拓片存放應(yīng)首選此方式;

7.1.2折疊存放:將拓片折疊放入布袋或牛皮紙袋內(nèi)保存;

7.1.3裝裱存放:裝裱形式可采用卷軸、冊(cè)頁(yè)、手卷、剪裱線(xiàn)裝本等。

7.2拓片存放環(huán)境

7.2.1控制溫濕度

拓片存放地溫度宜控制在18℃~25℃之間,濕度宜控制在50%~55%之間。

7.2.2防蟲(chóng)害

拓片存放地應(yīng)進(jìn)行蟲(chóng)害防護(hù),宜采用化學(xué)防護(hù)法,如放置樟腦丸、麝香草粉、花椒、靈香草等。

7.2.3配備硬件設(shè)施

拓片存放地宜配備改善和監(jiān)測(cè)存放環(huán)境的專(zhuān)業(yè)設(shè)備設(shè)施,如空氣凈化器、溫濕度測(cè)量?jī)x等。

4

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A

A

附錄A

(資料性)

文物拓印、拓片信息登記表

A.1表A.1給出了文物拓印信息登記信息。

表A.1文物拓印信息登記表

序號(hào)文物名稱(chēng)文物級(jí)別拓印內(nèi)容拓印單位拓印人拓印數(shù)量拓印時(shí)間拓片去向

A.2表A.2給出了拓片信息登記表。

表A.2拓片信息登記表

序號(hào)拓片名稱(chēng)拓片年代拓印人拓片尺寸拓片內(nèi)容備注

5

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參考文獻(xiàn)

[1]WW/T0007—2007石質(zhì)文物保護(hù)修復(fù)方案編寫(xiě)規(guī)范

[2]WW/T0063—2015石質(zhì)文物保護(hù)工程勘察規(guī)范

[3]國(guó)家文物局.文物復(fù)制拓印管理辦法.2011.

[4]國(guó)際古跡遺址理事會(huì)中國(guó)國(guó)家委員會(huì).中國(guó)文物古跡保護(hù)準(zhǔn)則.2015.

6

DB41/T2432—2023

目次

前言..................................................................................II

1范圍.................................................................................1

2規(guī)范性引用文件.......................................................................1

3術(shù)語(yǔ)和定義...........................................................................1

4拓印原則.............................................................................2

5拓印要求.............................................................................2

6拓印信息登記.........................................................................3

7拓片保存.............................................................................4

附錄A(資料性)文物拓印、拓片信息登記表..............................................5

參考文獻(xiàn)...............................................................................6

I

DB41/T2432—2023

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定

起草。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專(zhuān)利,本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專(zhuān)利的責(zé)任。

本文件由河南省文化和旅游廳提出并歸口。

本文件起草單位:河南省文物建筑保護(hù)研究院、北京理工大學(xué)、河南省測(cè)繪工程院、河南博物院、

河南大學(xué)。

本文件主要起草人:李銀忠、楊東昱、李芳、肖夢(mèng)瑩、朱曉寧

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