全口義齒講義

PAGEPAGE3第七章牙列缺損的修復(fù)—全口義齒P286（completedenture，fulldenture）第一節(jié)慨述3.上半口修復(fù)多余下半口修復(fù)原因：(1)下頜是運(yùn)動(dòng)的上頜骨是固定的，對(duì)沖撞力無(wú)緩沖，受力大。(2)上頜牙齒的長(zhǎng)軸偏唇頰側(cè)受側(cè)方力大，而下頜牙長(zhǎng)軸近垂直或偏舌側(cè)，受受側(cè)向力小。(3)上頜牙槽骨比下頜牙槽骨骨質(zhì)疏松，易脫落。(4)上頜義齒固位穩(wěn)定，故不需保留少數(shù)余留牙而拔除。下頜義齒固位差，需借助余留牙固位，故不拔除余留牙。4.牙列缺失修復(fù)的特點(diǎn)：(1)無(wú)基牙，無(wú)連接體、桿，只有基托和人工牙組成。(2)由粘膜和牙槽骨支持的可摘義齒。(3)由大氣壓力和吸附力來(lái)固位。(4)可是單頜牙缺失，也可是上下頜牙全部缺失。四、牙列缺失修復(fù)的影響：1.牙列缺失的口腔解剖形態(tài)和功能改變。2.TMJ的功能改變。3.口腔軟硬組織改變。4.患者心理狀態(tài)改變。第二節(jié)牙列缺失后的組織改變一、頜骨的改變1.牙槽骨吸收與病因、骨質(zhì)、全身情況的關(guān)系骨形骨吸收速度和量缺牙原因骨質(zhì)情況全身情況時(shí)間平整、低平、尖銳骨吸收多而快牙周病（炎性吸收）松質(zhì)骨差長(zhǎng)不平整、豐滿骨吸收少而慢齲病（退變性吸收）密質(zhì)骨健康短2.骨吸收與時(shí)間的關(guān)系1-2個(gè)月骨吸收快3-4個(gè)月骨吸收減慢5個(gè)月骨吸收減少1年骨吸收相對(duì)穩(wěn)定3.牙槽骨吸收與功能刺激的關(guān)系功能刺激多——→骨吸收少，功能刺激少——→骨吸收多4.下頜骨吸收的特點(diǎn)沿牙根方向吸收吸收方向（牙根）吸收結(jié)果原因上頜骨向上、向內(nèi)變小唇頰側(cè)骨皮質(zhì)薄下頜骨向下、向外變大舌側(cè)骨皮質(zhì)薄5.牙槽骨吸收對(duì)修復(fù)的影響(1)上頜骨變小，下頜骨變大，出現(xiàn)反嵴關(guān)系，不利于排牙，不利于上頜義齒穩(wěn)定和舌運(yùn)動(dòng)(2)吸收過(guò)度使頜間距離增大上下頜義齒重心遠(yuǎn)離牙槽嵴頂不利于上頜義齒穩(wěn)定。▲頜間距離：指正中位時(shí)，上下牙槽嵴頂之間的距離。二、軟組織改變(一)頜面部皮膚肌肉的改變：面部表情肌依賴于牙齒牙弓的支持，當(dāng)牙列缺失時(shí)使肌張力下降，變軟，松弛，面下1/3變短。1.口周軟組織松弛：(1)皮膚松弛、皺紋增多、變深。(2)口周肌群——口輪匝肌、頰肌松弛。結(jié)果：鼻唇溝變深、口角下垂、嘴變扁、面容蒼老。2.咀嚼肌張力平衡破壞：顳肌、咬肌、翼內(nèi)、外肌、二腹肌(1)降頜肌群張力增高:——二腹肌、下頜骨肌、頦舌骨肌.(2)升頜肌群張力降低:——咬肌、顳肌、翼內(nèi)肌導(dǎo)致面下1/3垂直距離變短。原因：a.失去牙支持。b.下頜骨重量減輕。(3)引頜肌群張力升高:——翼外肌.——使下頜前伸.3.面容改變鼻唇溝變深、嘴角下移、嘴變扁、面下1/3垂直距離變短，、下頜前伸面容蒼老。(二)舌體變肥大1.原因：(1)束縛解除；(2)運(yùn)動(dòng)代償增加2.危害：影響義齒固位，妨礙運(yùn)動(dòng)和功能發(fā)揮，故應(yīng)及早修復(fù)。(三)口腔粘膜改變1.退行性變：粘膜變薄、干燥、對(duì)疼痛敏感。2.唇頰溝變深：唇頰系帶附麗向牙槽嵴頂靠近。(四)TMJ改變1.髁道斜度改變，關(guān)節(jié)凹變深，髁道鈄度增大。2.面下為垂直距離變小，髁突后移，鼓板受壓破壞、損傷、鼓索血管神經(jīng)引起TMJ功能紊亂綜合癥。(五)味覺(jué)、唾液改變。第三節(jié)無(wú)牙頜的解剖標(biāo)志、生理特點(diǎn)與義齒修復(fù)的關(guān)系一、上頜1.上唇系帶(labialfrenum)(1)部位：上頜牙槽嵴唇側(cè)中線處，末端距牙槽嵴頂4-5mm。(2)解剖特點(diǎn)：為口輪匝肌在上頜的附著部、呈扇狀，活動(dòng)度大。(3)與修復(fù)的關(guān)系；為義齒的邊緣抗力區(qū)，義齒此處應(yīng)形成切跡?！沽Γ褐阜恋K或抵義齒固位的力。▲抗力區(qū)：指具有抗力作用的區(qū)域?！」δ苷埽ㄐ拚?指口周及舌肌在功能運(yùn)動(dòng)時(shí)，所取得的基托邊緣的位置和性形態(tài)與功能相適應(yīng)。2.上頜前庭（弓）區(qū)(oralvestibule).(1)位于上唇頰系帶之間的區(qū)域。(2)為疏松結(jié)蒂組織，無(wú)肌肉附麗。(3)為義齒邊緣伸展區(qū)。3.上頰系帶(buccalfrenum)(1)位于上頜雙尖牙頰側(cè)區(qū)，有一束或兩束(2)為提口角肌附麗處。(3)為義齒邊緣抗力區(qū)，義齒在此處應(yīng)形成切跡。4.顴突區(qū)(zygomaticprocess)(1)上頜第一磨頰側(cè)牙根部的骨突部分。(2)有頰肌前纖維附麗，表面粘膜菲薄。(3)為義齒邊緣抗力區(qū)，基托在此處應(yīng)緩沖，以免壓痛。5.上頜結(jié)節(jié)(maxillarytuberosity)(1)位于顴突與翼上頜切跡之間的圓形骨突起，外為頰間隙。(2)頰側(cè)粘膜菲薄。(3)義齒邊緣應(yīng)盡量伸展至頰間隙內(nèi)，以助固力，但頰應(yīng)作緩沖。▲頰間隙：指上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)與頰粘膜之間的間隙。6.翼上頜切跡(pterygomaxillarynotch)(1)為上頜結(jié)節(jié)后緣與蝶骨突之間的骨間隙。(2)外覆蓋軟組織。(3)義齒伸入間隙內(nèi)，為義齒后緣的外側(cè)界限。7.切牙乳突(incisivepapilla)(1)上中切牙腭側(cè)為——卵圓形突起的軟組織。(2)與鼻腭神經(jīng)血管通過(guò)。(3)基托組織面在此處應(yīng)作緩沖，以免壓痛。兩個(gè)上中切牙的交界線（接觸點(diǎn)）應(yīng)以切牙乳突為準(zhǔn)，唇面位于切牙乳突中點(diǎn)前8-10mm，兩側(cè)上頜尖牙牙尖頂?shù)倪B線應(yīng)通過(guò)切牙乳突中點(diǎn)前后lmm范圍內(nèi)，牙列缺失后，上頜骨唇側(cè)骨板吸收，使切牙乳突前移約1.6mm，年輕人，上尖牙頂連線通過(guò)切牙乳突中點(diǎn)；老年人，此連線應(yīng)與切牙乳突后緣平齊。8.腭皺襞(palatalrugae)(1)位于腭前部中縫兩側(cè)，呈放射狀軟組織橫嵴。(2)輔助發(fā)音，其高度隨年齡增加而變低平。(3)此區(qū)支持力不大，避免受力過(guò)大。9.上頜硬區(qū)(hardarea).（腭隆突、上頜隆突）(1)位于腭中部的嵴狀骨突起。(2)粘膜菲薄，不能受壓。(3)此處易形成支點(diǎn)，影響固位，義齒此處應(yīng)作緩沖。10.腭穹窿.——由軟硬腭形成的拱形結(jié)構(gòu)。高拱形.水平形.適中形。11.腭小凹(palatinefovea)(1)位于腭后部中線兩側(cè)，（軟硬腭交界處稍后方）前顫動(dòng)線之前1.31mm處的兩個(gè)軟組織凹陷。(2)為腭粘液腺導(dǎo)管開(kāi)口。(3)為前顫動(dòng)線定位的解剖標(biāo)志，以參考確定上頜全口義齒的后界，在腭小凹之后2mm（3-4mm）處。12.顫動(dòng)線(vibratingline)——后堤區(qū)（軟硬腭交界線）▲顫動(dòng)線：為腭小凹后方1.3（2mm）-12mm范圍的帶狀區(qū)域，平均寬度約8.2mm。在發(fā)“啊”音時(shí)有一條輕微的顫動(dòng)帶——（前、后顫動(dòng)線）?！邦潉?dòng)線：——為硬腭與軟腭腱膜的連接處。▲后顫動(dòng)線——為軟腭腱膜與腭肌的連接處。前、后顫動(dòng)線之間的區(qū)域——▲后堤區(qū).后堤區(qū)——是上頜義齒基托后緣突向軟腭，形狀似堤而得名.為上頜全口義齒的邊緣封閉區(qū)。后堤區(qū)的功能：是防止功能運(yùn)動(dòng)時(shí)空氣進(jìn)入基托與粘膜之間，破壞大氣負(fù)壓固位。上頜全口義齒基托后緣的位置：應(yīng)放在前、后顫動(dòng)線之間，在腭小凹之后，平均為（（2mm（3-4mm），即后堤區(qū)的平均寬度為（2mm（3-4mm）。軟腭形態(tài)與后堤區(qū)和義齒固位的關(guān)系：軟腭形態(tài)決定顫動(dòng)線和后堤區(qū)的寬窄:(1)水平形：軟腭呈水平狀，軟腭封閉區(qū)寬（后堤區(qū)寬）——指水平向?qū)挾葘?，義齒后界可向后伸展，有利于義齒固位。(2)斜坡形：（適中型）軟腭呈斜坡?tīng)睿涬穹忾]區(qū)寬度適中，有利于義齒固位。(3)垂直形：軟腭下垂，軟腭封閉區(qū)窄（后堤區(qū)窄）——指水平向?qū)挾日?，義齒后界不能向后伸展，不利于義齒固位。13.上頜牙槽嵴（alveolarridge）(1)由上頜體向下方伸出的弓狀骨隆起。(2)粘膜角化，結(jié)構(gòu)致密，無(wú)粘膜下層，組織讓性小。(3)能承受較大的壓力，為義齒承受力的主要區(qū)域?！鞒型袇^(qū)?！δ苡∧＃菏侵缚谥芗∪饧吧嗉≡诠δ苓\(yùn)動(dòng)時(shí)所取得的印模。二、下頜1.下唇系帶：位于下頜牙槽嵴唇側(cè)中線處，余同上唇系帶。2.下頜前庭（弓）區(qū)：位于下唇頰系帶之間的區(qū)域，余同上頜前庭（弓）區(qū)。3.下頰系帶：位于下頜雙尖牙頰側(cè)，余同上頜頰系帶。4.頰側(cè)翼緣區(qū)(buccalflangearea)——頰棚區(qū)。(1)位于下頜頰系帶與咬肌前緣之間的區(qū)域，又名下頜后弓區(qū)。(2)為頰肌下纖維構(gòu)成，此區(qū)面積最大，骨質(zhì)致密，能承受較大的力。(3)義齒邊緣在此區(qū)廣應(yīng)盡量伸展，形成邊緣封閉。5.遠(yuǎn)中頰角區(qū)(distobuccalanglesarea)(1)位于咀嚼肌前與頰側(cè)翼緣之后的區(qū)域，范圍狹小。(2)咬肌運(yùn)動(dòng)使義齒脫位，應(yīng)作肌功能整塑。(3)基托在此區(qū)應(yīng)作相應(yīng)縮小。6.磨牙后墊(retromolarpad)。(1)位于第三磨牙遠(yuǎn)中的卵園形粘膜軟墊。(2)由疏松結(jié)締組織構(gòu)成。(3)下頜全口義齒后緣位于磨牙后墊前1/3-1/2.為后緣封閉區(qū).從面觀，磨牙后墊頰、舌面與下尖近中面的連線形成一個(gè)三角形，上頜后牙的舌尖應(yīng)位于此三角內(nèi)。側(cè)面觀，下頜第一磨牙的面與磨牙后墊的1/2等高，第二磨牙位于磨牙后墊前緣。7.舌側(cè)冀緣區(qū)(lingualflangearea)(1)位于磨牙后墊內(nèi)下方的舌后凹陷區(qū)域。(2)有舌腭肌、咽上縮肌附麗，翼內(nèi)肌。(3)在不妨礙組織功能運(yùn)動(dòng)的情況下盡量適度伸展。8.下頜舌骨嵴(mylohyoidridges)分三型：a.刃狀嵴；b.園滑嵴；c.平面嵴。(1)位于下頜骨舌側(cè)，第三磨牙斜向第1、2雙尖牙處的骨嵴突起。(2)有頜舌骨肌附麗，表覆粘膜薄。(3)義齒力邊緣要蓋過(guò)此區(qū)，并作緩沖。9.舌隆突區(qū)(torusmandibularis)(1)位于雙尖牙舌側(cè)的骨突起，下前方為舌下腺凹。(2)表覆薄層粘膜，對(duì)壓力敏感。(3)基托應(yīng)覆蓋此區(qū)并作緩沖。10.“P”切跡：位于下頜舌骨嵴前方，是口底上升的最高點(diǎn)?；羞吘壴诖藨?yīng)有切跡。11.舌下腺區(qū)(sublingualglands)(1)為舌系帶兩側(cè)，下頜骨舌面的舌下腺凹內(nèi)。(2)有下頜舌骨肌附麗，活動(dòng)性大。(3)此處基托邊緣需作肌功能修整，不能過(guò)長(zhǎng)。12.舌糸帶區(qū)(lingualfrenum)：位于口底正中，活動(dòng)度大，抗力強(qiáng)，應(yīng)作足夠的切跡。13.下頜牙槽嵴：為下頜體向上方伸出的弓形骨隆起，余同上頜牙槽嵴。三、無(wú)牙頜的生理特點(diǎn)與功能關(guān)糸(一)主承托區(qū)(primarystress-bearingarea)是指主要承受力的區(qū)域——主支持區(qū)——主負(fù)荷區(qū)，即上下頜的牙槽嵴項(xiàng)。是由于此區(qū)的解剖特點(diǎn)所致。(二)副承托區(qū)(secondarystress-bearingarea)是指承受部分力的區(qū)域。位于牙槽嵴項(xiàng)與唇頰舌側(cè)邊緣封閉區(qū)之間以及與上頜腭隆突之間的區(qū)域。解剖特點(diǎn)、為大量疏松粘膜組織和結(jié)締組織，只能承受較小的壓力。(三)緩沖區(qū)(reliefarea)是指使義齒產(chǎn)生翹動(dòng)和疼痛的區(qū)域，包括腭隆突、上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)、顴突區(qū)、切牙乳突、下頜舌隆突、下頜舌骨嵴、以及存留在牙槽骨嵴上的一切骨尖和骨突。解剖特點(diǎn)：此區(qū)表覆粘膜菲薄，無(wú)讓性，所以不能承受咀嚼壓力，易引起疼痛和支點(diǎn)翹動(dòng)。(四)邊緣封閉區(qū)(bordersealarea)是指義齒基托邊緣與上下頜牙槽嵴四周軟組織相接觸以防止空氣進(jìn)入，維持大氣壓力作用的區(qū)域，即義齒的邊緣。它包括唇、頰、舌、溝，上頜后堤區(qū)以及下頜磨牙后墊處。解剖持點(diǎn)：為疏松結(jié)締組織，活動(dòng)度大，不能承受力。(五)后堤區(qū)的功能是上頜全口義齒基托后緣，防止功能運(yùn)動(dòng)時(shí)空氣進(jìn)入基托與粘膜之間，破壞大氣負(fù)壓固位的區(qū)域?？沽^(qū)(resistthestrengtharea)指有肌纖維附麗，抵抗義齒固位的區(qū)域。包括唇、頰、舌糸帶、顴突區(qū)、遠(yuǎn)中頰角區(qū)、下頜舌骨嵴、舌下腺區(qū)。第四節(jié)全口義齒的支持與固位和穩(wěn)定—、口義齒的支持全口義齒與真牙承受咀嚼壓力的比較。l.天然牙傳導(dǎo)力的方式：靠牙周膜將咀嚼壓力傳導(dǎo)致頜骨上，由于牙周膜的特殊結(jié)構(gòu)和作用，使之能承受較大的力。2.義齒傳導(dǎo)力的方式：由粘膜將咀嚼壓力傳導(dǎo)致頜骨上，粘膜承受壓力有限力過(guò)大使粘膜受壓，影響血運(yùn)，造成粘膜壞死和潰瘍，同時(shí)頜骨受壓，久之會(huì)產(chǎn)生吸收。二、全口義齒的固位和穩(wěn)定固位▲固位：是指義齒在行使功能過(guò)程中不發(fā)生向或就位道相反方向脫位?！涛涣Γ菏侵噶x齒抵抗從口內(nèi)垂直向、向或就位道相反方向脫位的能力。▲固位型：能形成固位力的幾何形狀。▲穩(wěn)定：是指義齒在行使功能過(guò)程中不發(fā)生翹動(dòng)、下沉、旋轉(zhuǎn)、擺動(dòng)等運(yùn)動(dòng)?！€(wěn)定性：是指義齒抵抗水平向（側(cè)向移動(dòng)）和翹動(dòng)（旋轉(zhuǎn)）的能力?！涛蛔饔茫菏侵噶x齒抵抗向脫位的作用。▲穩(wěn)定作用：是指義齒抵抗義齒側(cè)向移動(dòng)或翹動(dòng)的作用。(一)全口義齒的固位原理1.大氣壓力作用(atmosphericpressure)為全口義齒的主要固位力。大氣壓力作用形成的條件（同時(shí)也是影響大氣壓力作用的因素）：(1)邊緣封閉；(2)密合；(3)面積。2.吸附力的作用▲吸附力（adsorption）：是指兩種分子間的相互吸引力（附著力和粘著力）。如：基托組織面——唾液——粘膜。(1)▲附著力：指不同分子間碼的相互吸引力。接觸面積越大，附著力也越大。(2)▲粘著力：指相同分子之間的相互吸引力（內(nèi)聚力或凝聚力）.唾液越稠，粘著力也越大。反之亦然。影響吸咐力的因素：(1)兩者的接觸面積；(2)接觸的緊密程度；(3)唾液的質(zhì)量（稀、稠）。3.表面張力(surfacetension)是指抵抗使液體分層的力量。影響全口義齒固位力的因素：(1)密合程度；(2)邊緣封閉；(3)接觸面積；(4)唾液的質(zhì)量；(5)表面張力。(二)與全口義齒固位力有關(guān)的因素1.頜骨的解剖形態(tài)與全口義齒固位的關(guān)系：(1)頜弓寬大；(2)牙槽嵴高、寬；(3)腭穹窿高深；(4)糸帶附麗距牙槽嵴頂遠(yuǎn)；上述情況可獲得較大的面積，義齒固位好，反之固位差。(5)腭穹窿。1)高拱型.牙槽嵴豐滿，固位有利。低平型.牙槽嵴吸收嚴(yán)重，較低平，固位不利。適中型.牙槽嵴相對(duì)豐滿好，固位較好。2)平頂型.固位有利。園頂型.固位較好。尖頂型.固位差。2.口腔粘膜情況(1)厚度適宜，有一定彈性，基托與粘膜易貼合，易獲得良好的邊緣封閉一有利于固位。(2)過(guò)薄——封閉性差，對(duì)固位不利，易產(chǎn)生疼痛。(3)過(guò)厚或過(guò)于松軟——活動(dòng)度大，受力時(shí)基托移位，不利干義齒穩(wěn)定。(4)糸帶附麗位置。3.義齒邊緣及伸展(1)是否充分伸展：邊緣應(yīng)達(dá)到粘膜轉(zhuǎn)折處，不妨礙運(yùn)動(dòng)，后緣應(yīng)達(dá)后堤區(qū)和磨牙后墊前1/3。(2)邊緣形態(tài)、厚度——園鈍、稍厚。(3邊緣過(guò)長(zhǎng)——產(chǎn)生抗力，過(guò)短——位固面積減小。(4)糸帶區(qū)緩沖情況。4.基托磨光面(1)應(yīng)形成適應(yīng)于周?chē)M織運(yùn)動(dòng)的凹面形態(tài)。上頜基托頰面應(yīng)成凹面向下、外；下頜基托頰面應(yīng)成凹面向上、外；下頜基托舌面應(yīng)成凹面向上、內(nèi)。(2)義齒應(yīng)位于中性區(qū)。5.▲平衡：正中位或非正中位（前伸、側(cè)方）時(shí)，上下義齒間都需要有平衡的接觸關(guān)糸。至少有三點(diǎn)上的接觸。6.杠桿力：牙應(yīng)排在牙槽崤項(xiàng)上或稍向腭、舌側(cè)，形成有利杠桿，避免使義齒產(chǎn)生翹動(dòng)和脫位的不利杠桿。(1)▲一類(lèi)杠桿：（不利杠桿）排牙偏向頰側(cè)，支點(diǎn)在力點(diǎn)和重點(diǎn)之間，引起基托翹動(dòng)和脫位。(2)▲二類(lèi)杠桿（有利杠桿）：排牙位于牙槽嵴頂，重點(diǎn)在力點(diǎn)和支點(diǎn)之間(支點(diǎn)與力點(diǎn)重疊)，有利于義齒固位(3)▲三類(lèi)杠桿排牙偏腭（舌）側(cè)，力點(diǎn)在支點(diǎn)和重點(diǎn)之間，形成單頜平衡，有利于固位，是最有效的杠桿。7.舌：肥大原因：(1)束縛消除；(2)功能活動(dòng)增加一產(chǎn)生代償性肥大。結(jié)果：固有口腔體積減小，戴牙后舌運(yùn)動(dòng)受限一義齒脫位。解決方法:(1)牙適當(dāng)向頰側(cè)排列或排反。(2)適應(yīng)。8.唾液：量適中、稠——固位好，量過(guò)多或少或過(guò)稀——固位差。如：內(nèi)分泌病、糖尿病、惡液質(zhì)患者。9.其它：(1)垂直距離過(guò)高或過(guò)低；(2)頜位關(guān)系；(3)平分頜間距離；(4)印模、模形；(5)中性區(qū)。第五節(jié)無(wú)牙頜的口腔檢查和修復(fù)前的準(zhǔn)備一、口腔檢查(一)頜面部檢查l.面型：園、卵園、方、尖。幫助選擇牙齒形態(tài)。2.膚色3.唇型正常唇一松弛狀態(tài)時(shí)，露出上中切牙切緣2mm。長(zhǎng)唇——松弛狀態(tài)時(shí)（息止頜位），上唇緣與切緣平齊。短唇一松弛狀態(tài)時(shí)，露出整個(gè)上中切牙。超長(zhǎng)唇一張口時(shí)不露齒。超短唇一松弛狀態(tài)時(shí)，露出牙齦。4.面部對(duì)稱性5.面下l/3高度：中—70mm，高—85mm，低—51mm。6.下頜運(yùn)動(dòng)情況、TMJ情況(二)牙槽嵴：l.豐滿度；2撥牙創(chuàng)情況；3.有無(wú)骨尖、骨嵴；4.有無(wú)軟組織倒凹。(三)牙弓形態(tài)和大小方園、卵園、尖園——幫助選擇牙齒大小。(四)上下頜弓的位置關(guān)系1.水平關(guān)系指上下牙弓的前后、左右關(guān)系。(1)正常型：上下頜弓的大小，形狀基本正常，正側(cè)面觀基本在同一水平或上頜弓在下頜弓稍前方。此型有利于排牙和固位。(2)上頜前突型：（下頜后縮型）上頜弓大于下頜弓，上頜弓位于下頜弓的前方和側(cè)方，不利于排牙，下頜形成一類(lèi)杠桿不利于固位。(3)下頜前突型：（上頜后縮型）上頜牙弓小，下頜牙弓大，下頜弓位于上頜弓前方和側(cè)方，不利于排牙，上頜形成一類(lèi)杠桿不利于固位。2.垂直關(guān)系：指上下頜弓的上下關(guān)系?！x齒間隙：指口腔內(nèi)容納義齒的潛在空間，即天然牙列所占據(jù)的空間，此空間又稱為中性區(qū)?！x齒表面：組織面、咬合面、磨光面。▲頜間距離(interarchdistance)：指正中位時(shí)，上下牙槽嵴頂之間的距離?！⒅诡M間距離：指下頜在自然松弛狀態(tài)下，上下牙槽嵴頂之間的距離。(1)頜間距離大：(2)頜間距離中等：(3)頜間距離小：(五)上下唇糸帶的位置：位置是否居中，距牙槽嵴頂?shù)木嚯x是否正常。(六)腭穹窿的形狀：高拱、低平、適中。(七)肌肉附麗：距牙槽嵴頂?shù)木嚯x越近對(duì)固位影響越大。(八)口腔粘模l.正常(厚薄、質(zhì)地正常)：耐受力強(qiáng)，有利于固位。2.過(guò)厚：彈性大、移動(dòng)性大，有利于固位，但不于穩(wěn)定，印模也不容易取準(zhǔn)確。3.過(guò)?。焊稍铩椥圆?，易疼痛，也不利于固位。(九)舌肥大——不利于固位(十)患者年齡和全身情況1.年齡大，吸收快，耐受力差，適應(yīng)性差。2.疾病營(yíng)養(yǎng)不良、糖尿病、內(nèi)分泌疾病一骨質(zhì)疏松，粘膜及腺體萎縮，唾液分泌減少，耐受力、適應(yīng)能力差，不利于固位和功能行使。(十一)對(duì)舊義齒的檢查二、修復(fù)前的外科處理(一)骨尖、骨嵴、骨突或易壓痛的部位；(二)上頜結(jié)節(jié)：下垂、頰側(cè)倒凹；(三)下頜舌隆突；(四)唇、頰糸帶；(五)唇、頰溝加深；(六)增生粘膜和增生的纖維組織。第六節(jié)全口義齒制作一、制取無(wú)牙頜印模(一)印摸的要求1.準(zhǔn)確（密合、均勻、輕壓、穩(wěn)定）方法：一次法、二次法，要求：材料，壓力均勻，穩(wěn)定。2.夠大基托在允許范圍內(nèi)盡量伸展。(1)上頜：邊緣——到粘膜轉(zhuǎn)折處，并讓開(kāi)系帶。后緣——蓋過(guò)翼上頜切跡，達(dá)后顫動(dòng)線。(2)下頜：邊緣——到粘膜轉(zhuǎn)折處，并讓開(kāi)系帶。后緣——蓋過(guò)磨牙后墊，并伸至舌側(cè)翼緣區(qū)。3.采取功能性印?！」δ苡∧?指口周及舌肌在功能運(yùn)動(dòng)時(shí)所取得的印模。又稱肌功能修整(muscletrimming)。目的：使基托的邊緣、位置和形態(tài)符合口周及舌肌的功能運(yùn)動(dòng)。獲得良好的邊緣封閉。(1)主動(dòng)性肌功能修整：(2)被動(dòng)性肌功能修整：分為六區(qū)。4.厚度：均勻。約2-3mm，目的使印摸不變形。(二)取印模前的準(zhǔn)備1.調(diào)整椅位一體位。2.選托盤(pán)（成品托盤(pán)ready-madetray）(1)上頜托盤(pán)的要求——寬窄、高低1)托盤(pán)邊緣距牙槽骨頰側(cè)約2一3mm。2)托盤(pán)邊緣和腭部距粘膜轉(zhuǎn)折和腭頂約2mm，并在糸帶處有切跡。3)后緣到翼上頜切跡和后顫動(dòng)線。(2)下頜托盤(pán)的要求——1)、2)，同上頜。3)后緣蓋過(guò)磨牙后墊至舌側(cè)翼緣區(qū)距口底2mm?！鴤€(gè)別托盤(pán)：指適應(yīng)于個(gè)別特殊病人的托盤(pán)，要求同成品托盤(pán)。3.選擇印模材料硅橡膠、Alg鹽、印模石膏、紅膏等。(三)取印摸的方法A.粘膜靜止式印模(mucostaticimpressiontrechnique)：指粘膜不發(fā)生變形（移動(dòng)）的印模。l.▲一次印模法在口中一次完成工作印模的方法。適應(yīng)于牙槽嵴豐滿、口腔情況正常的人。用有孔托盤(pán)一次取模并作肌功能整塑形成2.▲二次印模法：一雙重印摸法一聯(lián)合印模法指在口腔中用同一托盤(pán)制取二次印模后而完成工作印模的方法。即采用個(gè)別托盤(pán)取印模的方法。適應(yīng)于牙槽嵴吸收明顯、吸收不均、高低不均，固位不好口腔情況異常。(1)制作個(gè)別托盤(pán)（初印摸preliminary，primaryimpression）1)用印模膏制作個(gè)別托盤(pán)：a.選托盤(pán)——成品托盤(pán)；b.準(zhǔn)備印模膏；c.裝填；d.取?！獙?duì)準(zhǔn)、加壓、肌功能整塑；e.修整、打孔——便于固定印模材。2)用自凝塑料制作個(gè)別托盤(pán)：a.選托盤(pán)一成品托盤(pán)；b.用Alg鹽印模材取模、灌摸；c.模型劃線；d.鋪蠟片；e.調(diào)自凝塑料鋪蓋，厚度約1.5-2mm，并形成托盤(pán)柄。3)用硅橡膠制作個(gè)別托盤(pán)：a.選托盤(pán)一成品托盤(pán)；b.用外層硅橡膠取摸并作肌功能整塑。4)用廢舊義齒制作個(gè)別托盤(pán)：將舊義齒組織面和邊緣磨除2mm即得。(2)制取終印模(finalimpression)（工作摸）用Alg鹽、硅橡膠等取模并作肌功能整塑(3)上頜后堤區(qū)形成1)在“啊”線上作有色標(biāo)記；2)戴入終印模取印跡；3)取出并在印模上的印跡處加一層3-4mm寬的軟蠟片；4)戴入口中囑患者發(fā)“啊”音而形成。B.粘膜運(yùn)動(dòng)式印模(mucodynamicimpression)：指粘膜發(fā)生（受壓）變形（移動(dòng)）的印模?！鴫毫τ∧＃海ㄓ址Q咬合印?；蜷]口印?；颍┲钢鞒型袇^(qū)、副承托區(qū)等口腔軟組織在受一定壓力時(shí)所取得的印模。常用硅橡膠取。二、灌注模型1.橡皮底座法；2.圍模法；3.一般灌注法。三、頜位記錄指記錄下頜對(duì)上頜的位置關(guān)系（水平關(guān)系和垂直關(guān)系）。(一)頜位關(guān)系的概念1.▲正中：指上下牙列具有最大面積和最緊密的牙接觸關(guān)系。不同的上頜位置都可以形成正中。2.▲正中位（關(guān)系）CO.是指垂直距離正常時(shí)，髁突位于關(guān)節(jié)凹中央，雙側(cè)肌肉均等收縮，上下牙列在正中時(shí)的上下頜位置。是最舒適的位。又稱舒適位。3.▲息止頜位（關(guān)系）R.指咀嚼肌處于松弛平衡狀態(tài)，下頜處于休息的靜止?fàn)顟B(tài)時(shí)，無(wú)接觸的下頜位置。4.▲息止間隙(free-wayspace)指息止頜位時(shí)上下牙列間存在的間隙。5.▲正中關(guān)系位：指下頜不偏左不偏右，雙側(cè)咀嚼肌均等收縮，髁突位于凹生理最后位時(shí)，上下頜的位置關(guān)系。6.▲正中關(guān)系位（CRO）指上下牙列在正中關(guān)系時(shí)有接觸的位系。是唯一穩(wěn)定，可從復(fù)的位。又稱韌帶位。7.▲長(zhǎng)正中指由正中關(guān)系位滑向正中位時(shí)有1mm的距離關(guān)系，此離稱為長(zhǎng)正中。8.▲非正中關(guān)系（前伸、側(cè)方關(guān)系）指除正中關(guān)系和息止頜位以外的上下頜的位置關(guān)系。9.▲非正中位（關(guān)系）指除正中位和正中關(guān)系位以外的接觸關(guān)系。(1)▲前伸位（關(guān)系）：指下頜前伸上下切牙相對(duì)時(shí)，牙列的接觸位置關(guān)系。(2)▲側(cè)方位（關(guān)系）：指下頜作側(cè)方運(yùn)動(dòng)時(shí)雙側(cè)磨牙均有接觸的上下頜位置關(guān)系?！褐冈陟o止?fàn)顟B(tài)下，上下牙列相接觸的關(guān)系。▲咬合:指下頜從開(kāi)口位到閉口位的過(guò)程中，上下牙列相接觸的關(guān)系?！唬P(guān)系）：指上下頜牙接觸時(shí)，上下頜之間的位置系。(二)頜位記錄（頜位關(guān)系記錄）——記錄上下頜的空間位置▲概念：是指借一種能代替無(wú)牙頜的缺失牙列的堤來(lái)記錄和再現(xiàn)患者上下頜骨的位置關(guān)系和垂直距離。頜位記錄——正中頜位記錄；——非正中頜位記錄。頜位記錄——上下頜的垂直位置關(guān)系記錄——垂直距離記錄；——上下頜的水平位置關(guān)系記錄——正中關(guān)系記錄。1.確定垂直距離（面下1/3的垂直距離）指鼻底至頦底的垂線距離。A.咬合位垂直距離(occlusalverticaldimension)——正中垂直距離：最大約85mm，最小約51mm，平均為70mm。B.休息位垂直距離——息止頜位垂直距離兩者相差2-3mm的息止頜間隙。息止頜間隙的意義：1)說(shuō)話時(shí)牙齒不撞擊。2)休息時(shí)牙齒不磨損。3)有利于咀嚼肌發(fā)揮效率。4)有利于牙槽骨、粘膜、ＴＭＪ的健康。(1)垂直距離的重要性：（影響）1)垂直距離恢復(fù)過(guò)高：a.咀嚼肌及TMJ處于緊張狀態(tài)，產(chǎn)生肌肉疲勞酸脹和疼痛。b.牙槽嵴長(zhǎng)期持續(xù)受壓，產(chǎn)生疼痛和加速吸收。c.說(shuō)話時(shí)易出現(xiàn)牙齒撞擊聲。d.義齒增高，重心遠(yuǎn)離牙槽嵴頂，不利于固位。e.開(kāi)口度減小，不能大口進(jìn)食。f.面部表情不自然，呆板。2)垂直距離恢復(fù)過(guò)低：a.表情哀老，下頜明顯前突b.肌張力下降，肌肉疲勞，咀嚼無(wú)力。c.口腔容積減小，影響舌運(yùn)動(dòng)，影響下頜義齒固位。d.髁突后移，壓迫YMJ后壁，易引起TMJ功能紊亂綜合癥。(2)確定垂直距離的方法：1)息止頜位測(cè)定法：——息止頜間隙法體位要求:2)面部等距離測(cè)量法。瞳孔至口裂的距離＝鼻底至頦底的距離。3)面部外形觀察法：——像片參照法。用參照物觀察，面部表情、鼻唇溝深度、口角、口裂情況。4)拔牙前記錄法：5)舊義齒參考法：2.確定正中關(guān)系——水平頜位關(guān)系(1)不易取得正中關(guān)系的原因：1)習(xí)慣性下頜前伸2)患者情緒緊張，不配合3)年齡過(guò)大，關(guān)節(jié)囊松弛，不穩(wěn)定(2)方法：（促使下頜回到正中位的方法）1)卷舌法；2)吞咽法；3)肌肉疲勞法；4)輔助法；5)哥德氏弓(Gothicarch)或哥德氏切道描記法；6)肌監(jiān)控儀(myo-monitor)法；7)后牙咬合法；8)下頜運(yùn)動(dòng)軌跡描記儀。(3)判斷取得正中位的方法：l）指感髁突撞擊法；2)捫顳肌收縮法；3)標(biāo)記線對(duì)位法；(4)正中位臨床誤差分析：l）確定正中位時(shí)如作了前伸咬合，戴牙時(shí)會(huì)出現(xiàn)，a.下頜后退、水平開(kāi)b.后牙早接觸，垂直距離增高2)如作了偏側(cè)咬合，戴牙時(shí)會(huì)出現(xiàn)，Ⅰ.上下中線不對(duì)a.當(dāng)下頜偏左側(cè)咬時(shí)——下頜中線偏右b.當(dāng)下頜偏右側(cè)咬時(shí)——下頜中線偏左Ⅱ.后牙咬合關(guān)系不良a.下頜偏左側(cè)咬時(shí)——右側(cè)呈對(duì)刃——左側(cè)覆蓋變大b.下頜偏右側(cè)咬時(shí)——左側(cè)呈對(duì)刃——右側(cè)覆蓋變大3)原因分析：Ⅰ.患者自身的原因：a.精神、肌肉緊張b.不了解醫(yī)生的要求c.有前伸或偏側(cè)咀嚼的習(xí)慣d.年齡大、關(guān)節(jié)囊松弛位置不恒定，運(yùn)動(dòng)不規(guī)則Ⅱ.操作原因：a.蠟堤不平分頜間距離蠟堤前低后高或前高后低，蠟堤左低右高或左高右低。b.蠟基托與粘膜不貼合若后牙區(qū)出現(xiàn)間隙時(shí)——會(huì)表現(xiàn)后牙無(wú)接觸，若一側(cè)組織面出現(xiàn)間隙——會(huì)表現(xiàn)一側(cè)后牙無(wú)接觸。⒊頜位記錄的操作步驟（l）模型準(zhǔn)備1)修整模型，使模型邊緣距離粘膜轉(zhuǎn)折處2mm。2)后堤區(qū)形成“M”形。a.在雙側(cè)翼上頜切跡至腭小凹稍后方的連線上刻一條深為1-2mm的切跡，使腭中縫與兩側(cè)翼上頜切跡中點(diǎn)為2mm，兩端為1mm的移行切跡。b.沿此切跡向前沿伸逐漸變淺，呈斜坡?tīng)?。腭中縫與兩側(cè)翼上頜切跡中點(diǎn)最寬為4-5mm，翼上頜切跡處最窄為1mm，腭中逢處為2mm，逐漸移行，似“M”狀的模型修整區(qū)。(2)鋪基托l(wèi)暫基托（蠟基托、蟲(chóng)板基托）a.浸濕模型；b.制作增力絲：目的：防止蠟基托變形。位置：上頜：在牙槽嵴頂腭側(cè)4mm，后絲在基托后緣前10mm。下頜：位于牙槽嵴項(xiàng)舌側(cè)3mm。c.鋪蠟基托；d.增力絲安放；e.后腭部安放蠟球。2)恒基托制作——優(yōu)點(diǎn)：不變形，固位好。用于牙槽嵴吸收嚴(yán)重，口腔條件不好的情況。塑料基托（自凝、熱凝、光固化）。(3)試基托——目的：了解基托的伸展和固位情況(4)上頜基托制作.蠟堤的要求：1)在牙槽嵴頂或稍偏頰側(cè)。2)與牙弓形態(tài)一致。3)后界在翼上頜切跡或下頜磨牙后墊之前約1cm，呈斜坡?tīng)睢?)前牙區(qū)寬約7mm，磨牙區(qū)寬約8-10mm。5)前部高約7-8mm，后部約為5-6mm，以平分頜間距離為原則。6)平面前部與疃孔連線平行，唇面要能襯托出上唇，使之豐滿正常。下緣露出上唇緣約2mm。7)前后頜堤平面與鼻翼耳屏線平行。▲鼻翼耳屏線或坎珀線(Camperline)：指耳屏中點(diǎn)至鼻翼底部的連線。8)蠟堤平面平整，與基托固定牢固。9)上頜4-6區(qū)左右側(cè)分別刻出兩條不平行的溝，深約3mm。l0）在上腭后部中央粘著一個(gè)直徑約5mm的蠟球。(5)下頜蠟堤制作一同上(6)頜位記錄——確定頜位關(guān)系.1)卻定下頜高度品同時(shí)取得正中關(guān)系位：添蠟球并咬合，直至達(dá)到己測(cè)量的垂直距離為止。停止咬合，取出冷卻。2)用預(yù)制下頜托，取得正中關(guān)系記錄后再確定垂直距離：(7)校對(duì)垂直距離和正中關(guān)系1)校對(duì)垂直距離：觀察面部外形，有否息止頜間隙。2)校對(duì)正中關(guān)系:捫髁突、顳肌，觀察蠟托是否有移位?！炌?waxbiteplate)：指安放有蠟堤(waxocclusalrim)的基托。作用:a.恢復(fù)外形和豐滿度；b.記錄頜間距離；c.代替義齒基托和人造牙位置；d.再現(xiàn)正中位關(guān)系用平面導(dǎo)板平面規(guī)(occlusalplaneguide)檢查4.蠟堤唇面劃標(biāo)志線(1)標(biāo)記中線:(2)劃口角線:上下唇輕輕閉合時(shí)，口角的位置。(3)劃笑線:——微笑時(shí)上下唇緣在蠟堤唇面形成的凸凹形弧線。1)微笑線:(唇高線和唇低線)▲唇高線:微笑時(shí)上唇緣在蠟堤上呈凸形弧線。正常應(yīng)露出上前牙長(zhǎng)度的2/3?！降途€：微笑時(shí)下唇緣在蠟堤上呈凹形弧線。正常應(yīng)露出上前牙長(zhǎng)度的切1/2.2)大笑線:上唇露出上中切牙唇面全長(zhǎng)，下唇露出下中切牙唇面全長(zhǎng)。5.選牙(1)人造牙的種類(lèi):材料：a.塑料牙:——普通、硬質(zhì).用于牙槽骨吸收明顯的患者。b.瓷牙（金釘）:——用于牙槽骨豐滿的患者。c.金屬面塑料牙:——用于牙槽骨豐滿的患者。顏色、硬度、與塑料的結(jié)合能力的比較:(2)大小、牙型：l）大小:a.寬度：ⅰ.兩側(cè)口角線之間蠟堤唇面弧度為上前牙3—3的總寬度。ⅱ.6個(gè)上前牙寬度∶外毗間距=1∶2。b.高度：根據(jù)唇型——唇高低線。唇型：正常型、長(zhǎng)型、短型、超長(zhǎng)型、超短型。唇高線：為上中切牙的切2/3。唇低線：為下中切牙的切l(wèi)/2。2)形態(tài)：根據(jù)面型和牙弓形狀選擇▲頰線(cheekline)：指面部?jī)蓚?cè)髁突到下頜角外側(cè)面的連線。方形面：兩條頰線接近平行，額寬，頦部方園。卵園形面：兩條頰線自顴骨處向外凸出，面型園胖，頦部略尖，下頜緣呈園曲線式。尖形面：兩條頰線從上至下明顯內(nèi)聚，面型顯瘦，略呈三角形。3)顏色：每種型號(hào)都有6種顏色，1號(hào)最白，6號(hào)最黃，亞洲人常為2-3號(hào)。4)牙槽嵴豐滿程度：——力大小和功能解剖式牙(anatomicalteeth)：牙尖鈄度為33度，用于牙槽嵴豐滿。半解剖式牙:牙尖鈄度為20度，用于牙槽嵴豐滿或低平。非解剖式牙(nonanatomicalteeth):牙尖鈄度為0度，用于牙槽嵴低平。槽狀牙：由Sear（1922)設(shè)計(jì)，特點(diǎn)：上后牙為無(wú)尖牙，但有頰舌側(cè)斜面，中央溝處有狹窄凹槽介于兩斜面之間。下后牙為與上后牙凹槽相適應(yīng)的凸嵴，便于嚼啐食物。十字刃狀牙：Sosin（1961)設(shè)計(jì)，特點(diǎn)是上頜567面為直徑8mm的鑄造金屬園片，片上有“十”字刃狀凸棱（棱高4mm）。下頜567為近似橢圓形，中央微凹的整體鑄件。提高咀嚼效率。改良十字刃狀牙：又稱舌尖刃狀牙。由Lcven（1977)改進(jìn)，是在塑料解剖式后牙舌尖上安裝十字刃狀金屬裝置.不僅保持了后牙的解剖形態(tài)，又減少了對(duì)支持組織的側(cè)向力，明顯提高了咀嚼效率.倒尖牙：由Hall（1929)設(shè)計(jì)，在后牙牙尖處有凹窩，窩緣突出，似刃狀，便于撕裂食物。改良后牙：由French（1935)設(shè)計(jì)，特點(diǎn)是上后牙面為平尖牙，下頜后牙僅有窄而平的舌尖，呈舌側(cè)平臺(tái)頰尖形成凹面與對(duì)牙無(wú)接觸。有利于下頜義齒固位。四、轉(zhuǎn)移頜位關(guān)系——上架(一)轉(zhuǎn)移頜位關(guān)系——轉(zhuǎn)移正中位關(guān)系、非正中位關(guān)系1.▲轉(zhuǎn)移正中位關(guān)系：是指用面弓(facebow)、叉(bitefork)將上頜對(duì)TMJ的位置關(guān)系轉(zhuǎn)移到架上的過(guò)程?！?articulator):——咬合器：指一種能固定上下頜模形，并能模擬人體TMJ運(yùn)動(dòng)的機(jī)戒裝置。轉(zhuǎn)移步驟和方法：(1)確定髁突位置：在眼外眥部到耳屏中點(diǎn)的連線的耳屏前約12-13mm處作標(biāo)記?！鄱辆€：(2)安放叉：要求：中線對(duì)齊，叉兩翼距離蠟堤平面4-5mm。(3)堤就位，固定上下堤，安放面弓.(4)上架。2.非正中關(guān)系的記錄和轉(zhuǎn)移:(1)▲前伸關(guān)系記錄：指在下頜前伸閉合時(shí)，在上下蠟堤之間咬蠟片的方法所得到的蠟形。前伸記錄，實(shí)質(zhì)上是反映了前伸位時(shí)的髁道斜度的大小。▲前伸髁道斜度(inclinationofprotrusivecondylarguidance)：指關(guān)節(jié)凹前鈄面與眶耳平面的交角?！舳矫妫褐缚粝戮壟c外耳道中點(diǎn)的連線。1)▲Christensen現(xiàn)象、間隙：即上下蠟堤的平面間形成正中關(guān)系位記錄后，下頜前伸約6mm閉合時(shí)，上下堤前緣接觸，而后部不接觸，在上下平面間出現(xiàn)向后逐漸增大的楔狀間隙的現(xiàn)象。2)Christensen間隙產(chǎn)生的原因：髁突作前伸運(yùn)動(dòng)時(shí)，是關(guān)節(jié)凹前壁向前下方滑動(dòng)，而不是作水平移動(dòng)，而堤平面鼻翼耳屏線平行，是一個(gè)斜向下的平面，它與眶耳平面的交角小于前髁道斜度，所以髁突前滑時(shí)向下移動(dòng)的距離大于下堤下移的距離。3)Christensen間隙大小與前伸髁道斜度的關(guān)系：a.前伸髁道斜度小，Christensen間隙也小。b.前伸髁道斜度大，Christensen間隙也大。c.前伸髁道斜度為零，Christensen間隙也為零。4)前伸髁道斜度記錄和轉(zhuǎn)移:a.上下堤平面刻復(fù)位溝，b.囑下頜前伸，咬軟蠟片（三層蠟片）——記錄c.將此記錄轉(zhuǎn)移至架上，調(diào)節(jié)髁導(dǎo)盤(pán)，使方堤平面與之吻合。——轉(zhuǎn)移。此時(shí)，髁導(dǎo)盤(pán)與水平面的交角就是下頜關(guān)節(jié)的前伸髁道斜度。(2)確定側(cè)方髁道斜度：——側(cè)方關(guān)糸記錄（15分鐘）▲側(cè)方髁道斜度(inclinationoflateralcondylarguidance)：是指關(guān)節(jié)凹內(nèi)側(cè)壁與眶耳平面的交角。側(cè)方關(guān)糸記錄，實(shí)質(zhì)上是反映了側(cè)方位的髁道斜度。側(cè)方髁道斜度與前伸髁道斜度的關(guān)系：L＝H/8＋12。側(cè)方髁導(dǎo)斜度：是指架上的側(cè)柱與矢狀面的交角。(二)▲上架：是指將帶有位關(guān)系記錄的上下托和石膏模型固定在架上。上架的作用：1)保持上下頜模型的垂直距離。2)保持上下頜模型的頜位關(guān)系。3)固定上下頜模形。4)能模擬人體TMJ運(yùn)動(dòng)。1.種類(lèi)(1)▲簡(jiǎn)單架：指具有固定的髁斜和切導(dǎo)斜度，只能作開(kāi)閉口運(yùn)動(dòng).(2)▲平均值架：除具有簡(jiǎn)單外固定的平均值髁導(dǎo)斜度，只能模擬部分下頜前伸和側(cè)方運(yùn)動(dòng)。(3)▲全可調(diào)節(jié)架：指具有可調(diào)節(jié)的前伸、側(cè)方髁斜和切導(dǎo)斜度以及髁球間距的架。又稱完全可調(diào)節(jié)架。(4)▲半可調(diào)節(jié)架：指具有可調(diào)節(jié)的前伸、側(cè)方髁斜和切導(dǎo)斜度但髁球間距不可調(diào)節(jié)的架。2.理想架應(yīng)具備的條件(1)具有可調(diào)節(jié)的髁導(dǎo)和切導(dǎo)斜度以及髁球間距，能適應(yīng)于不同患者，能做模擬TMJ的各項(xiàng)種運(yùn)動(dòng)。(2)具有與上下頜模型牢固連接的最簡(jiǎn)單固定裝置。(3)架上凡有可調(diào)節(jié)的部分，都應(yīng)該有刻度指標(biāo)。4.哈氏架的結(jié)構(gòu)和使用方法(1)結(jié)構(gòu)：上頜體：1)切導(dǎo)針：有上刻線和下刻線志。2)切導(dǎo)針固定器。3)架環(huán)——固定上頜模型。4)架環(huán)固定器。5)髁桿——擬髁軸。6)髁球——擬髁突。下頜體：l）切導(dǎo)盤(pán)——呈凹園盤(pán)狀，有前伸側(cè)方切導(dǎo)斜度刻度。2)切導(dǎo)盤(pán)調(diào)節(jié)固定器。3)架環(huán)及固定器。4)側(cè)柱——有側(cè)方髁導(dǎo)斜度刻度及固定器。5)髁導(dǎo)盤(pán)一─有前伸髁導(dǎo)斜度、刻度、固定器。6)髁槽——似關(guān)節(jié)凹，髁球在其中運(yùn)動(dòng)。7)正中鎖——將髁球固定在髁槽最前端的裝置。(2)人體結(jié)構(gòu)在架上的位置：人體結(jié)構(gòu)架人體結(jié)構(gòu)架上頜骨上頜體髁道斜度髁導(dǎo)斜度下頜骨下頜體切道斜度切導(dǎo)斜度關(guān)節(jié)凹髁槽髁軸髁桿髁突髁球(3)哈氏架與人體咀嚼器官的區(qū)別：人體關(guān)節(jié)運(yùn)動(dòng)，開(kāi)口時(shí)髁突先沿髁軸旋轉(zhuǎn)，后與關(guān)節(jié)盤(pán)一起向前滑動(dòng)。架打開(kāi)時(shí)，髁球只有旋轉(zhuǎn)而無(wú)滑動(dòng)人體是下頜運(yùn)動(dòng)架是上頜運(yùn)動(dòng)每個(gè)人的髁突間距不同架髁球間距是固定的(4)哈氏架使用前的準(zhǔn)備:1)調(diào)節(jié)兩側(cè)髁導(dǎo)斜度為25°，將髁球固定在髁槽最前端。若是正中關(guān)系位，則需要墊1mm的塑料片。即回到正中位。2)兩側(cè)方髁導(dǎo)斜度固定在15°。3)節(jié)切導(dǎo)針位于切導(dǎo)盤(pán)中央，上刻線與上頜體上緣平齊。4)切導(dǎo)盤(pán)調(diào)成水平位，并固定。5)定上下架環(huán)。(5)頜位關(guān)系轉(zhuǎn)移至架上：1)調(diào)整安放面弓于架上。2)調(diào)石膏將上頜模型固定于上頜架環(huán)上，石膏凝固后再固定下頜模型。3)利用前伸記錄調(diào)整前伸和側(cè)方髁導(dǎo)斜度。五、排牙(arrangingartificialteeth)(一)排牙原則1.恢復(fù)牙列的解剖外形和功能(1)上下牙列尖窩相對(duì)，有廣泛密切的接觸。(2)有適當(dāng)?shù)难a(bǔ)償曲線和橫曲線。(3)按頜弓形態(tài)和頜骨關(guān)系排牙。2.美觀(1)上下中線與面部中線一致。(2)牙列弧度與頜弓形態(tài)一致，上前牙要襯托出唇面豐滿度。(3)左右協(xié)調(diào)對(duì)稱，弧度自然，前牙切緣和后牙中央溝的連線呈自然弧線。(4)牙切緣與瞳孔連線平行，并位于唇下2-3mm。老年者少露。(5)牙排列要體現(xiàn)患者個(gè)性，要考慮到性別、年齡、個(gè)性。(6)上前牙排列要參考患者意見(jiàn)。3.保持義齒穩(wěn)定——組織保健(1)上下集中：上下牙列平分頜間距離，避免重心遠(yuǎn)離牙槽嵴頂。(2)左右集中：牙排在牙槽嵴頂，避免不利杠桿。(3)前后集中：力集中在5、6區(qū)，避免前后翹動(dòng)。(4)前牙排成淺覆，淺覆蓋——小開(kāi)（有1mm的覆，3mm覆蓋關(guān)系），有利于前伸平衡。(5)正中、前伸、側(cè)方都應(yīng)達(dá)到多點(diǎn)平衡接觸。(二)排牙步驟和方法1.在架石膏模型上畫(huà)標(biāo)志線，中線、口角線、牙槽嵴頂線。2.排牙順序(1)前牙(2)后牙3.前牙排例要求近中面與平面的關(guān)系近遠(yuǎn)中向傾斜唇舌向傾斜旋轉(zhuǎn)程度上中切牙近中切角與中線接觸切緣與平面接觸頸部略向遠(yuǎn)中傾斜頸部稍向舌側(cè)傾斜與蠟堤唇面弧度一致上側(cè)切牙與上中切牙遠(yuǎn)中鄰面接觸切緣離平面1mm頸部略向遠(yuǎn)中傾斜程度最大，〉上3〉上1頸部向舌側(cè)傾斜〉上1〈上3遠(yuǎn)中微微向舌側(cè)上尖牙與上側(cè)切牙遠(yuǎn)中鄰面接觸切緣與平面接觸頸部略向遠(yuǎn)中傾斜程度，〉上1，〈上2頸部向唇傾斜近中與前牙弓弧度一致，遠(yuǎn)中向舌側(cè)扭轉(zhuǎn)與后牙蠟堤頰面弧度一致下中切牙同上中切牙切緣高于平面1mm長(zhǎng)軸與中線平行頸部向舌側(cè)傾斜同上中切牙下側(cè)切牙同上側(cè)切牙同上長(zhǎng)軸略向遠(yuǎn)中傾斜<下3頸部直立或稍向舌側(cè)傾斜同上側(cè)切牙下尖牙同上尖牙同上長(zhǎng)軸略向遠(yuǎn)中傾斜最大頸部向唇傾斜同上尖牙前牙排完后應(yīng)達(dá)到的標(biāo)準(zhǔn)：(1)上下中切牙中縫與人中線是否一致。(2)上下切緣連線是否與前牙弓形態(tài)一致，同名牙是否對(duì)稱協(xié)調(diào)。(3)人造牙蓋嵴部應(yīng)位于牙槽嵴唇舌徑的唇1/3處。(4)上下前牙是否有約1mm的覆，3mm的覆蓋關(guān)系。(5)下尖牙是否正對(duì)上尖牙和側(cè)切牙間間隙。(6)上下尖牙遠(yuǎn)中嵴方向是否正對(duì)后牙牙槽嵴中線，遠(yuǎn)中與切牙切緣弧度是否-致.男性，尖牙向遠(yuǎn)中，向唇側(cè)的傾斜程度大于女性。(7)各牙鄰接關(guān)系是否緊密。4.上頜磨牙的排列要求與平面的關(guān)系頸部近遠(yuǎn)中傾斜情況頸部頰舌向傾斜情況上4頰尖接觸平面，舌尖離開(kāi)平面1mm微向遠(yuǎn)中傾斜稍向頰的傾斜上5頰舌尖同時(shí)與平面接觸直立直立上6近中舌尖與平面接觸，遠(yuǎn)中舌尖離開(kāi)平面1mm，近中頰尖離開(kāi)平面1mm，遠(yuǎn)中頰尖離開(kāi)平面1.5mm，上頜456舌尖正對(duì)下頜堤溝(牙槽嵴頂)微向近中傾斜微向舌側(cè)傾斜上7舌尖離開(kāi)平面1mm，近中頰尖離開(kāi)平面2mm，遠(yuǎn)中頰尖離開(kāi)平面2.5mm向近中傾斜向舌側(cè)傾斜各牙鄰接緊密5.下頜磨牙的排列要求(1)上6近中頰尖正對(duì)下6近中頰溝，上6近中舌尖正對(duì)下6中央窩。(2)下5正對(duì)上45縫，下4正對(duì)上34縫。(3)上7近中頰尖正對(duì)下7頰溝，上7舌尖下正對(duì)下7中央窩。正中——指上6近中頰尖正對(duì)下6近中頰溝，上6近中舌尖正對(duì)下6中央窩，余牙尖窩交錯(cuò)的緊密牙接觸關(guān)系。后牙排列應(yīng)達(dá)到面與標(biāo)準(zhǔn)：(1)正中(2)上頜4頰，5頰舌，6近中舌尖在平面上。(3)上頜34567占5頰尖連線形的凸向下的補(bǔ)償曲線。(4)兩側(cè)上頜67頰舌尖連線形成凸向下的橫曲線。(5)上下磨牙中央溝位于牙槽嵴頂上。(6)各后牙與牙弓形態(tài)-致，左右對(duì)稱。(7)咬平面平分間距離。六、牙列的平衡(一)平衡的概念和意義1.概念——具有平衡狀態(tài)的關(guān)系平衡(balancedocclusion):是指全口義齒作正中，前伸和側(cè)方運(yùn)動(dòng)時(shí)，上下頜牙始終保持有多點(diǎn)接觸(平衡)的關(guān)系。2.內(nèi)容(1)正中平衡(centricbalancedocclusion):指正中位時(shí)，上下頜牙有廣泛緊密的接觸。(2)前伸平衡(protrusivebalancedocclusion):當(dāng)下頜前伸至前牙相對(duì)，在滑向正中位過(guò)程中前后牙有接觸。(兩側(cè)后牙呈異各牙尖相對(duì))——三點(diǎn)接觸，多點(diǎn)接觸，完全接觸。(3)側(cè)方平衡(lateralbalancedocclusion):當(dāng)下頜側(cè)方運(yùn)動(dòng)時(shí)，不僅工作側(cè)有同名牙尖相接觸，而且平衡側(cè)的上頜舌尖與下頜頰尖(異名牙尖)也有接觸。3.平衡的意義——調(diào)平衡的目的(1)均勻分散力，有利于支持組織他建康。(2)有利于全口義齒的固位和穩(wěn)定。(3)提高咀嚼效力。(4)防止義齒折斷。4.達(dá)到前伸，側(cè)方平衡的條件(1)應(yīng)具有良好的正中平衡。(2)前牙淺覆，淺覆蓋(小開(kāi))各牙鄰接緊密。(3)后牙有適度的補(bǔ)償曲線和橫曲線。(二)平衡理論(同心園學(xué)說(shuō))1.前伸平衡(1)與前伸平衡有關(guān)的因素：(五因素)1)▲髁導(dǎo)斜度：指髁槽與水平面的交角。2)▲切導(dǎo)斜度：指切導(dǎo)盤(pán)前后斜面與水平面的交角。3)▲定位平面斜度：指定位平面與眶耳平面的交角?！ㄎ黄矫妫褐干现星醒澜星薪堑絻蓚?cè)上頜第二磨牙近中頰尖的連線所構(gòu)成的平面。4)▲補(bǔ)償曲線曲度(prominenceofcompensationcurve)：指上頜尖牙的牙尖頂與上頜第二磨牙遠(yuǎn)中頰尖頂?shù)倪B線形成凸向下的曲線的曲率半徑的倒數(shù)。即到補(bǔ)償曲線間的最大垂直距離。——弧頂?shù)较议g的最大垂直距離。由牙長(zhǎng)軸傾斜而形成，傾斜程度越大，該曲線曲度也越大。5)▲牙尖斜度(inclinationofcusp)：指牙尖斜面與各自的牙尖底的交角。牙尖工作斜面或牙尖平衡斜面：指下頜前伸或側(cè)方運(yùn)動(dòng)時(shí)上、下頜牙頰尖相互接觸摩擦的牙尖斜面。a.前伸牙尖工作斜面或前伸牙尖平衡斜面：指下頜前伸運(yùn)動(dòng)時(shí)，上頜牙頰尖的遠(yuǎn)中斜面和下頜牙頰尖的近中斜面。b.側(cè)方牙尖工作斜面或側(cè)方牙尖平衡斜面：指下頜側(cè)方運(yùn)動(dòng)時(shí)，工作側(cè)的上磨牙頰、舌尖的舌斜面，下磨牙頰、舌尖的頰斜面和平衡側(cè)的上磨牙舌尖的頰斜面，下磨牙頰尖的舌斜面?！兰夤ぷ餍泵嫘倍然蜓兰馄胶庑泵嫘倍?指牙尖工作斜面與水平面的交角?！兰飧叨?heightofcusp)：指牙尖頂?shù)窖兰獾椎拇咕€距離。牙尖斜度越大牙尖高度越高，牙工作斜面斜度也越大.牙尖工作科面斜度的大小隨牙尖高度和牙長(zhǎng)軸的傾斜程度而變化。牙尖工作斜面斜度與牙尖斜度、補(bǔ)償曲線曲度、定位平面斜度之間的關(guān)系：A.牙尖斜度增加——牙尖工作斜面斜度也增加.B.補(bǔ)償曲線曲度增加——牙尖工作斜面斜度也增加。C.定位平面斜度增加——牙尖工作斜面斜度也增加。達(dá)到前伸平衡應(yīng)滿足的條件：Ⅰ.切導(dǎo)斜度、牙尖工作斜面斜度、前伸髁導(dǎo)斜度工三者相等.———此時(shí)三者的垂線互相平行，無(wú)交點(diǎn)，即無(wú)運(yùn)中心。Ⅱ.同心園學(xué)說(shuō):Gysi，1908年提出，當(dāng)切導(dǎo)、牙尖工作斜面、髁導(dǎo)斜度分別為同心園上不同半徑的一段截弧，或三者的垂線(法線)能同時(shí)相交于一點(diǎn)R，即旋轉(zhuǎn)中心或運(yùn)中心時(shí)，前伸達(dá)到平衡。(2)前伸平衡五因素之間的關(guān)系—十定律髁導(dǎo)斜度(inclinationofcondylarpath)、切導(dǎo)斜度(inclinationofincisalguidance)與牙尖斜度(inclinationofcusp)、補(bǔ)償曲線曲度、定位平面斜度(inclinationofplaneoforientation)之間的關(guān)系：1)髁導(dǎo)斜度增加——補(bǔ)償曲線曲度也增加。2)髁導(dǎo)斜度增加——定位平面也增加。3)髁導(dǎo)斜度增加——牙尖斜度也增加(向后逐漸增加)。4)切導(dǎo)斜度增加——牙尖斜度也增加(向前逐漸增加)。5)切導(dǎo)斜度增加——補(bǔ)償曲線曲度也增加。6)切導(dǎo)斜度增加——定位平面也增加。髁導(dǎo)斜度與切導(dǎo)斜度之間的關(guān)系：牙工科不變時(shí)：7)髁導(dǎo)斜度增加——切導(dǎo)斜度減小。牙尖斜度與補(bǔ)償曲線曲度、定位平面斜度之間的關(guān)系：8)補(bǔ)償曲線曲度增加——牙尖斜度減小(向后逐漸減小)。9)定位平面斜度也增加——牙尖斜度減小。10)補(bǔ)償曲線曲度也增加——定位平面斜度減小。(3)前伸平衡調(diào)整的步驟和方法：1)先使正中達(dá)到平衡，見(jiàn)選磨原則。2)前伸平衡調(diào)整：即有三點(diǎn)以上接觸。前伸平衡易出現(xiàn)的問(wèn)題、原因和處理方法：A.前牙有接觸，后牙無(wú)接觸(后牙開(kāi))：原因：a.前牙覆覆蓋過(guò)大，切導(dǎo)斜度過(guò)大。處理方法：減小前牙覆(降低下前牙或改變前牙唇舌向傾斜度)。b.后牙牙尖工作斜面斜度過(guò)小。處理方法：加大補(bǔ)償曲線曲度(首選)或加大定位平面斜度或加大牙尖斜度。c.個(gè)別前牙早接觸：調(diào)改早接觸點(diǎn)。B.前牙無(wú)接觸，后牙有接觸：原因：a.前牙覆太淺。處理：升高下前牙。b.后牙牙尖工作斜面斜度過(guò)大：處理：減小補(bǔ)償曲線曲度或定位平面斜度或牙尖斜度。c.個(gè)別后牙早接觸：處理：調(diào)磨后牙早接觸點(diǎn)。2.側(cè)方平衡側(cè)方位時(shí)，不僅工作側(cè)有同名牙尖接觸，平衡側(cè)的異名牙尖也有接觸。(1)與側(cè)方平衡有關(guān)的因素：三要素1)平衡側(cè)髁導(dǎo)側(cè)斜度：即平衡側(cè)髁槽(側(cè)柱)與矢狀面的交角。2)切導(dǎo)側(cè)斜度：即切導(dǎo)盤(pán)側(cè)斜面與水平面的交角。3)側(cè)方牙尖工作斜面斜度：指工作側(cè)，上磨牙頰、舌尖的舌斜面，下磨牙頰、舌尖的頰斜面和平衡側(cè)上磨牙舌尖的頰斜面，下磨牙頰尖的舌斜面與水平面的交角。受橫曲線曲度的影響，成正比關(guān)系?！鴻M曲線曲度：指橫曲線曲率半徑的倒數(shù)。即弦到曲線間的垂直距離。(2)側(cè)方平衡的規(guī)律：——同前伸平衡當(dāng)側(cè)方髁導(dǎo)斜度與切導(dǎo)斜度和側(cè)方牙尖工作斜面斜度，三者成為同心園上不半徑的一段截弧或三者相等時(shí)，側(cè)方即可達(dá)到平衡。牙尖工作斜面斜度與橫曲線曲度之間的關(guān)系：工作側(cè)：橫曲線曲度越大，上下牙的牙尖工作斜面斜度越小。平衡側(cè)：橫曲線曲度越大，上下牙的牙尖工作斜面斜度越大。(3)側(cè)方平衡的調(diào)整：1)工作側(cè)有接觸，平衡側(cè)無(wú)接觸：原因：平衡側(cè)側(cè)方牙尖工作斜面斜度不足。處理：升高下頰尖和降低上舌尖。即增大平衡側(cè)的橫曲線曲度。2)工作側(cè)無(wú)接觸，平衡側(cè)有接觸：原因：平衡側(cè)側(cè)牙尖工作斜面斜度過(guò)大。處理：降低平衡側(cè)下頰尖，升高上舌尖。即減小平衡側(cè)橫曲線曲度。3)工作側(cè)頰尖不接觸，平衡側(cè)有接觸：原因：工作側(cè)上頜頰尖過(guò)高和下頜頰尖過(guò)低。即工作側(cè)橫曲線曲度過(guò)大。處理：降低工作側(cè)上頰尖和尖升高下頰尖(上下牙舌尖位置不動(dòng))。即減小工作側(cè)橫曲線曲度，并回到正中時(shí)應(yīng)調(diào)磨上牙的中央窩。4)工作側(cè)頰尖不接觸，平衡側(cè)也無(wú)接觸：原因：工作側(cè)上頜舌尖過(guò)低和下頜舌尖過(guò)高尖過(guò)高。即工作側(cè)橫曲線曲度過(guò)大。處理：降低工作側(cè)下舌尖和升高上舌尖(上下牙頰尖位置不動(dòng))。即減小工作側(cè)橫曲線曲度。5)工作側(cè)舌尖不接觸，平衡側(cè)有接觸：原因：工作側(cè)上舌尖過(guò)高和下舌尖過(guò)低。即工作側(cè)橫曲線曲度過(guò)小。處理：升高工作側(cè)下舌尖和降低上舌尖(上下牙頰尖位置不動(dòng)).即增大工作側(cè)橫曲線曲度?；氐秸袝r(shí)應(yīng)調(diào)磨上下牙的中央窩。6)工作側(cè)舌尖不接觸，平衡側(cè)也無(wú)接觸：原因：工作側(cè)上頰尖過(guò)低和下頰尖過(guò)高。即工作側(cè)橫曲線曲度過(guò)小。處理：升高工作側(cè)上頰尖和降低下頰尖。(上下舌尖不動(dòng)).即增大工作側(cè)橫曲線曲度。7)作為工作側(cè)和平衡側(cè)均無(wú)接觸：原因：該側(cè)橫曲線曲度過(guò)小。處理：降低該側(cè)上舌尖和升高下頰尖。即增大該側(cè)橫曲線曲度?；氐秸袝r(shí)應(yīng)調(diào)磨上下牙的中央窩。8)作為工作側(cè)有接觸，作為平衡側(cè)無(wú)接觸：原因：該側(cè)橫曲線曲度過(guò)小。處理：降低該側(cè)上舌尖和下舌尖，升高該側(cè)上頰尖和下頰尖。即增大該側(cè)橫曲線曲度。七、選磨調(diào)(selectivegrinding)(一)選磨調(diào)的原則1.不能影響正中的牙接觸。2.不能影響面下1/3的垂直距離。3.每個(gè)位的高點(diǎn)要用其它位來(lái)檢查，以確定選磨部位。4.以調(diào)磨非功能尖和中央窩為主。5.前伸、側(cè)方平衡調(diào)好后，還要回到正中核對(duì)。(二)選磨順序正中——前伸——側(cè)方——正中循環(huán)。(三)各位的選磨方法(塑料牙)A.咬合紙法B.高點(diǎn)印模法1.正中位早接觸點(diǎn)的選磨(1)作為工作側(cè)有接觸，作為平衡側(cè)無(wú)接觸：原因：該側(cè)上下牙中央窩過(guò)淺、上頰尖過(guò)低和下舌尖過(guò)高。處理：調(diào)磨該側(cè)上下牙中央窩和上頰尖及下舌尖。(2)作為工作側(cè)和平衡側(cè)均有早接觸：原因：該側(cè)上頜舌尖過(guò)低和下頜頰尖過(guò)高。處理：調(diào)磨該側(cè)上頜舌尖和下頜頰尖。(3)作為工作側(cè)和平衡側(cè)均無(wú)早接觸：原因該側(cè)上下頜牙中央窩過(guò)淺。處理：調(diào)磨該側(cè)上下牙中央窩。(4)作為工作側(cè)頰尖有早接觸，作為平衡側(cè)無(wú)早接觸：調(diào)磨上頜頰尖。(5)作為工作側(cè)頰尖有早接觸，作為平衡側(cè)也有早接觸：調(diào)磨下頜頰尖。(6)作為工作側(cè)舌尖有早接觸，作為平衡側(cè)無(wú)早接觸：調(diào)磨下頜舌尖。(7)作為工作側(cè)舌尖有早接觸，作為平衡側(cè)也有早接觸：調(diào)磨上頜舌尖。2.前伸位的選磨(1)前牙有早接觸：原因：切導(dǎo)斜度過(guò)大，覆過(guò)深。處理：調(diào)磨上頜切牙舌斜面和下頜切牙唇斜面。(2)