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文檔簡介
12.1集成電路材料2.2半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識2.3PN結(jié)與結(jié)型二極管2.4雙極型晶體管2.5MOS晶體管第二章 IC制造材料結(jié)構(gòu)與理論2
2.2.1半導(dǎo)體的晶體結(jié)構(gòu)固體材料分為兩類:晶體和非晶體。從外觀看晶體有一定的幾何外形,非晶體沒有一定的形狀。
用來制作集成電路的硅、鍺等都是晶體,而玻璃、橡膠等都是非晶體。32.2.2本征半導(dǎo)體與雜質(zhì)半導(dǎo)體本征半導(dǎo)體是一種完全純凈的、結(jié)構(gòu)完整的半導(dǎo)體晶體。但是,當(dāng)半導(dǎo)體的溫度升高或受到光照等外界因素的影響時(shí),本征激發(fā)所產(chǎn)生的自由電子和空穴數(shù)目是相同的。在外加電場作用下,電子和空穴的運(yùn)動方向相反,但由于電子和空穴所帶電荷相反,因而形成的電流是相加的,即順著電場方向形成電子和空穴兩種漂移電流。4雜質(zhì)半導(dǎo)體根據(jù)摻入雜質(zhì)性質(zhì)的不同,雜質(zhì)半導(dǎo)體可以分為N型半導(dǎo)體和P型半導(dǎo)體。5P型半導(dǎo)體摻入少量的3價(jià)元素,如硼、鋁或銦,有3個(gè)價(jià)電子,形成共價(jià)鍵時(shí),缺少1個(gè)電子,產(chǎn)生1個(gè)空位??昭槎鄶?shù)載流子,電子為少數(shù)載流子。3價(jià)雜質(zhì)的原子很容易接受價(jià)電子,稱為“受主雜質(zhì)”。6N型半導(dǎo)體摻入少量的5價(jià)元素,如磷、砷或銻,有5個(gè)價(jià)電子,形成共價(jià)鍵時(shí),多余1個(gè)電子。電子為多數(shù)載流子,空穴為少數(shù)載流子。在半導(dǎo)體內(nèi)產(chǎn)生多余的電子,稱為“施主雜質(zhì)”。72.1了解集成電路材料2.2半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識2.3PN結(jié)與結(jié)型二極管2.4雙極型晶體管2.5MOS晶體管第二章 IC制造材料結(jié)構(gòu)與理論82.3.1PN結(jié)的擴(kuò)散與漂移由于兩種半導(dǎo)體內(nèi)帶電粒子的正、負(fù)電荷相等,所以半導(dǎo)體內(nèi)呈電中性。圖2.2PN結(jié)的形成9擴(kuò)散運(yùn)動由于PN結(jié)交界面兩邊的載流子濃度有很大的差別,載流子就要從濃度大的區(qū)域向濃度小的區(qū)域擴(kuò)散。P區(qū)中的空穴向N區(qū)擴(kuò)散,在P區(qū)中留下帶負(fù)電荷的受主雜質(zhì)離子;而N區(qū)中的電子向P區(qū)擴(kuò)散,在N區(qū)中留下帶正電荷的施主雜質(zhì)離子。在緊靠接觸面兩邊形成了數(shù)值相等、符號相反的一層很薄的空間電荷區(qū),稱為耗盡層,這就是PN結(jié)。10圖2.3平衡狀態(tài)下的PN結(jié)在耗盡區(qū)中正負(fù)離子形成了一個(gè)電場ε,其方向是從帶正電的N區(qū)指向帶負(fù)電的P區(qū)的。這個(gè)電場一方面阻止擴(kuò)散運(yùn)動的繼續(xù)進(jìn)行;另一方面,將產(chǎn)生漂移運(yùn)動,即進(jìn)入空間電荷區(qū)的空穴在內(nèi)建電場ε作用下向P區(qū)漂移,自由電子向N區(qū)漂移。
漂移運(yùn)動和擴(kuò)散運(yùn)動方向相反。動態(tài)平衡時(shí),擴(kuò)散電流和漂移電流大小相等、方向相反,流過PN結(jié)的總電流為零。擴(kuò)散電流漂移電流擴(kuò)散:濃度差漂移:電場
112.3.2PN結(jié)型二極管(a)圖2.4PN結(jié)二極管(a)結(jié)構(gòu)(b)符號(c)I-V特性曲線12PN結(jié)電學(xué)特性
具有單向?qū)щ娦?,即正向外加電壓作用下,電流呈指?shù)規(guī)律急劇增加;在反向電壓作用下,最多只有一個(gè)很小的反向電流流通。132.3.3肖特基結(jié)二極管圖2.5
金屬與半導(dǎo)體接觸
加反向電壓時(shí),金屬到半導(dǎo)體的電子流占優(yōu)勢,形成從半導(dǎo)體到金屬的反向電流。當(dāng)反向電壓提高,由于從金屬到半導(dǎo)體的電子流是恒定的,反向電流將趨于飽和??梢姡钃鯇泳哂蓄愃朴赑N結(jié)的伏安特性。
金屬與半導(dǎo)體在交界處形成阻擋層。以N型半導(dǎo)體為例,當(dāng)在金屬端外加正電壓時(shí),形成一股從金屬到半導(dǎo)體的正向電流,該電流是由N型半導(dǎo)體中多數(shù)載流子電子構(gòu)成的。14基于GaAs和InP的MESFET和HEMT器件中,其金屬柵極與溝道材料之間形成的結(jié)就屬于肖特基結(jié)。因此,它們的等效電路中通常至少包含柵-源和柵-漏兩個(gè)肖特基結(jié)二極管。152.3.4歐姆型接觸在半導(dǎo)體器件與集成電路制造過程中,半導(dǎo)體元器件引出電極與半導(dǎo)體材料的接觸也是一種金屬-半導(dǎo)體結(jié)。但是我們希望這些結(jié)具有雙向低歐姆電阻值的導(dǎo)電特性,也就是說,這些結(jié)應(yīng)當(dāng)是歐姆型接觸,或者說,這里不應(yīng)存在阻擋載流子運(yùn)動的“結(jié)”。工程中,這種歐
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