材料分析測(cè)試技術(shù)習(xí)題題庫(kù)

第一章

一、選擇題

1.用來(lái)進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)分析的X射線學(xué)分支是（）

A.X射線透射學(xué)；B.X射線衍射學(xué)；C.X射線光譜學(xué)；D.其它

2.M層電子回遷到K層后，多余的能量放出的特征X射線稱（）

A.Ka；B.KP；C.Ky；D.Lao

3.當(dāng)X射線發(fā)生裝置是Cu靶，濾波片應(yīng)選（）

A.Cu；B.Fe；C.Ni；D.Mo。

4.當(dāng)電子把所有能量都轉(zhuǎn)換為X射線時(shí)，該X射線波長(zhǎng)稱（）

A.短波限AO；B.激發(fā)限Xk；C.吸收限：D.特征X射線

5.當(dāng)X射線將某物質(zhì)原子的K層電子打出去后，L層電子回遷K層，多余能量將另一個(gè)L層電子打出核

外，這整個(gè)過(guò)程將產(chǎn)生（）（多選題）

A.光電子；B.二次熒光：C.俄歇電子；D.（A+C）

二、正誤題

1.隨X射線管的電壓升高，入°和入k都隨之減小。（）

2,激發(fā)限與吸收限是?回事，只是從不同角度看問(wèn)題。（）

3.經(jīng)濾波后的X射線是相對(duì)的單色光。（）

4.產(chǎn)生特征X射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外，原子處于激發(fā)狀態(tài)。（）

5.選擇濾波片只要根據(jù)吸收曲線選擇材料，而不需要考慮厚度。（）

三、填空題

1.當(dāng)X射線管電壓超過(guò)臨界電壓就可以產(chǎn)生X射線和X射線。

2.X射線與物質(zhì)相互作用可以產(chǎn)生—、、、、

3.經(jīng)過(guò)厚度為H的物質(zhì)后，X射線的強(qiáng)度為。

4.X射線的本質(zhì)既是也是,具有性。

5.短波長(zhǎng)的X射線稱,常用于;長(zhǎng)波長(zhǎng)的X射線稱

,常用于o

習(xí)題

1.X射線學(xué)有幾個(gè)分支？每個(gè)分支的研究對(duì)象是什么？

2.分析下列熒光輻射產(chǎn)生的可能性，為什么？

（1）用CuK..X射線激發(fā)CuK.,熒光輻射；

（2）用CuK.X射線激發(fā)CuK。熒光輻射：

（3）用CuKaX射線激發(fā)CuL熒光輻射。

3.什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“熒光輻射”、“吸收限”、“俄歇效應(yīng)”、“發(fā)射譜”、

“吸收譜”？

4.X射線的本質(zhì)是什么？它與可見(jiàn)光、紫外線等電磁波的主要區(qū)別何在？用哪些物理量描述它？

5.產(chǎn)生X射線需具備什么條件？

6.X射線具有波粒二象性，其微粒性和波動(dòng)性分別表現(xiàn)在哪些現(xiàn)象中？

7.計(jì)算當(dāng)管電壓為50kv時(shí)，電子在與靶碰撞時(shí)的速度與動(dòng)能以及所發(fā)射的連續(xù)譜的短波限和光子的最

大動(dòng)能。

8.特征X射線與熒光X射線的產(chǎn)生機(jī)理有何異同？某物質(zhì)的K系熒光X射線波長(zhǎng)是否等于它的K系特征

X射線波長(zhǎng)？

he124x103

9.連續(xù)譜是怎樣產(chǎn)生的？其短波限％°=——=———------與某物質(zhì)的吸收限

eVV

hei24x103

k-"有何不同（V和％以kv為單位）？

10.X射線與物質(zhì)有哪些相互作用？規(guī)律如何？對(duì)x射線分析有何影響？反沖電子、光電子和俄歇電子有

何不同？

11.試計(jì)算當(dāng)管壓為50kv時(shí)，X射線管中電子擊靶時(shí)的速度和動(dòng)能，以及所發(fā)射的連續(xù)譜的短波限和光

子的最大能量是多少？

12.為什么會(huì)出現(xiàn)吸收限？K吸收限為什么只有一個(gè)而L吸收限有三個(gè)？當(dāng)激發(fā)X系熒光X射線時(shí)，能否

伴生L系？當(dāng)L系激發(fā)時(shí)能否伴生K系？

13.已知銅的3。=0.71A,鐵的30=L93A及鉆的L0=1.79A,試求光子的頻率和能量。試計(jì)算鋁的K

激發(fā)電壓，已知鋁的3=0.619鼠已知鉆的K激發(fā)電壓％=7.71kv,試求其

14.X射線實(shí)驗(yàn)室用防護(hù)鉛屏厚度通常至少為1mm,試計(jì)算這種鉛屏對(duì)CuKa、MoKa輻射的透射系數(shù)各為

多少？

15.如果用1mm厚的鉛作防護(hù)屏，試求Cn“和MOE”的穿透系數(shù)。

16.厚度為Imw的鋁片能把某單色X射線束的強(qiáng)度降低為原來(lái)的23.9%,試求這種X射線的波長(zhǎng)。

試計(jì)算含眈=0.8%,Wcr=4%,Ww=18%的高速鋼對(duì)MoKa輻射的質(zhì)量吸收系數(shù)。

17.欲使銅靶X射線管發(fā)射的X射線能激發(fā)放置在光束中的銅樣品發(fā)射K系熒光輻射，問(wèn)需加的最低的管

壓值是多少？所發(fā)射的熒光輻射波長(zhǎng)是多少？

18.什么厚度的銀濾波片可將Cu.“輻射的強(qiáng)度降低至入射時(shí)的70%?如果入射X射線束中K,和K,強(qiáng)度之

比是5：1,濾波后的強(qiáng)度比是多少？已知=49.03cm2/g,P=290cm2/g?

19.如果Co的K。、K“輻射的強(qiáng)度比為5：1,當(dāng)通過(guò)涂有15mg/cm，的FeQ濾波片后，強(qiáng)度比是多少？己

知FezOs的P=5.24g/cm\鐵對(duì)知K.的u.=371cm2/g,一對(duì)知Ke的u.=15cm2/g.

20.計(jì)算0.071nm（MoK.）和0.154nm（CuK.,）的X射線的振動(dòng)頻率和能量。（答案：4.23X10%'

2.80X10,sJ,1.95X10V,1.29X10，）

21.以鉛為吸收體，利用MoK.、RhK.、AgK.X射線畫(huà)圖，用圖解法證明式（1-16）的正確性。（鉛對(duì)于上

述X射線的質(zhì)量吸收系數(shù)分別為122.8,84.13,66.14cm?/g）。再由曲線求出鉛對(duì)應(yīng)于管電壓為30

kv條件下所發(fā)出的最短波長(zhǎng)時(shí)質(zhì)量吸收系數(shù)。

”計(jì)算空氣對(duì)CrK.的質(zhì)量吸收系數(shù)和線吸收系數(shù)（假設(shè)空氣中只有質(zhì)量分?jǐn)?shù)80%的氮和質(zhì)量分?jǐn)?shù)20%

的氧,空氣的密度為1.的X107g/cn?）。（答案：26.97cm2/g,3.48X102cm1

23.為使CuK。線的強(qiáng)度衰減1/2,需要多厚的Ni濾波片？（Ni的密度為8.90g/cm3）。CuK.,和CuK.z

的強(qiáng)度比在入射時(shí)為2：1,利用算得的Ni濾波片之后其比值會(huì)有什么變化？

24.試計(jì)算Cu的K系激發(fā)電壓。（答案：8980V）

25.試計(jì)算Cu的K”射線的波長(zhǎng)。（答案：0.1541nm）.

第二章

1、選擇題

1.有一倒易矢量為g*=2a*+2b*+c、*,與它對(duì)應(yīng)的正空間晶面是()。

A.(210)；B.(220)；C.(221)；D.(110)；。

2.有一體心立方晶體的晶格常數(shù)是0.286nm,用鐵靶K.(XK.=0.194nm)照射該晶體能產(chǎn)生()衍射

線。

A.三條；B.四條：C.五條：D.六條。

3.一束X射線照射到晶體上能否產(chǎn)生衍射取決于(

A.是否滿足布拉格條件；B.是否衍射強(qiáng)度IWO；C.A+B；D.晶體形狀。

4.面心立方晶體(111)晶面族的多重性因素是()。

A.4；B.8：C.6：D.12。

2、正誤題

1.倒易矢量能唯一地代表對(duì)應(yīng)的正空間晶面。()

2.X射線衍射與光的反射一樣，只要滿足入射角等于反射角就行。()

3.干涉晶面與實(shí)際晶面的區(qū)別在于：干涉晶面是虛擬的，指數(shù)間存在公約數(shù)n。()

4.布拉格方程只涉及X射線衍射方向，不能反映衍射強(qiáng)度。()

5.結(jié)構(gòu)因子F與形狀因子G都是晶體結(jié)構(gòu)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響因素。()

3、填空題

1.倒易矢量的方向是對(duì)應(yīng)正空間晶面的:倒易矢量的長(zhǎng)度等于對(duì)應(yīng).

2.只要倒易陣點(diǎn)落在厄瓦爾德球面上，就表示該_滿足條件，能產(chǎn)生。

3.影響衍射強(qiáng)度的因素除結(jié)構(gòu)因素、晶體形狀外還有,,.3

4.考慮所有因素后的衍射強(qiáng)度公式為,對(duì)于粉末多晶的相對(duì)強(qiáng)度

為。

5.結(jié)構(gòu)振幅用__表示，結(jié)構(gòu)因素用表示，結(jié)構(gòu)因素=0時(shí)沒(méi)有衍射我們稱

或。對(duì)于有序固溶體，原本消光的地方會(huì)出現(xiàn)。

4、名詞解釋

I.倒易點(diǎn)陣——

2.系統(tǒng)消光——

3.衍射矢量——

4.形狀因子——

5.相對(duì)強(qiáng)度——

1、試畫(huà)出下列晶向及晶面(均屬立方晶系)：[III]。[121],[212]>(0J0)(110),(123)(211)?

2、下面是某立方晶系物質(zhì)的幾個(gè)晶面間距，試將它們從大到小按次序重新排列。(123)(100)(200)

(311)(121)(111)(210)(220)(030)(221)(110)

3、當(dāng)波長(zhǎng)為之的X射到晶體并出現(xiàn)衍射線時(shí)，相鄰兩個(gè)(hkl)反射線的程差是多少？相鄰兩個(gè)(HKL)

反射線的程差又是多少？

4、畫(huà)出Fe?B在平行于(010)上的部分倒易點(diǎn)。Fe?B屬正方晶系，點(diǎn)陣參數(shù)a=b=0.510nm,c=0.424nm。

5、判別下列哪些晶面屬于［111］晶帶：(H0),(133),(1］2),(132),(Op),(212)?

6、試計(jì)算(±11)及(1^2)的共同晶帶軸。

7、鋁為面心立方點(diǎn)陣,a=0.409nm?今用CrKa(%=0.209nm)攝照周轉(zhuǎn)晶體相，X射線垂直于［001］。試

用厄瓦爾德圖解法原理判斷下列晶面有無(wú)可能參與衍射：(111),(200),(220),(311),(331),

(420).

8、畫(huà)出六方點(diǎn)陣(001)*倒易點(diǎn)，并標(biāo)出a*,b*,若一單色X射線垂直于b軸入射，試用厄爾德作圖法求

出(120)面衍射線的方向。

9、試簡(jiǎn)要總結(jié)由分析簡(jiǎn)單點(diǎn)陣到復(fù)雜點(diǎn)陣衍射強(qiáng)度的整個(gè)思路和要點(diǎn)。

10、試述原子散射因數(shù)/和結(jié)構(gòu)因數(shù)Ib”也「的物理意義。結(jié)構(gòu)因數(shù)與哪些因素有關(guān)系？

II、計(jì)算結(jié)構(gòu)因數(shù)時(shí)，基點(diǎn)的選擇原則是什么?如計(jì)算面心立方點(diǎn)陣，選擇(0,0,0)(1,1,0)、(0,1,

0)與(1,0,0)四個(gè)原子是否可以，為什么？

12、當(dāng)體心立方點(diǎn)陣的體心原子和頂點(diǎn)原子種類不相同時(shí)，關(guān)于H+K+L=偶數(shù)時(shí)，衍射存在，11+1<+1=奇

數(shù)時(shí)，衍射相消的結(jié)論是否仍成立？

13、計(jì)算鈉原子在頂角和面心，氯原子在棱邊中心和體心的立方點(diǎn)陣的結(jié)構(gòu)因數(shù)，并討論。

14、今有一張用CuKa輻射攝得的鴇(體心立方)的粉末圖樣，試計(jì)算出頭四根線條的相對(duì)積分強(qiáng)度［不計(jì)

曉乂和人(6)］。若以最強(qiáng)的一根強(qiáng)度歸一化為100,其他線強(qiáng)度各為多少?這些線條的8值如下，按下表

計(jì)算。

線條8/(*)HKLPsin0_]f*PF?中強(qiáng)度

-------nm

2歸一化

120.3

229.2

336.4

443.6

第三章

5,選擇題

1.最常用的X射線衍射方法是（）。

A.勞厄法；B.粉末多法；C.周轉(zhuǎn)晶體法；D.德拜法。

2.德拜法中有利于提高測(cè)量精度的底片安裝方法是（）。

A.正裝法；B.反裝法；C.偏裝法；D.A+B。

3.德拜法中對(duì)試樣的要求除了無(wú)應(yīng)力外，粉末粒度應(yīng)為（）。

A.<325目；B.>250目；C.在250-325目之間；D.任意大小。

4.測(cè)角儀中，探測(cè)器的轉(zhuǎn)速與試樣的轉(zhuǎn)速關(guān)系是（）。

A.保持同步；B.2：1；C.1：2：D.1：0?

5.衍射儀法中的試樣形狀是（）.

A.絲狀粉末多晶；B.塊狀粉末多晶；C.塊狀單晶；D.任意形狀。

6、正誤題

1.大直徑德拜相機(jī)可以提高衍射線接受分辨率，縮短暴光時(shí)間。（）

2.在衍射儀法中，衍射幾何包括二個(gè)圓。一個(gè)是測(cè)角儀圓，另一個(gè)是輻射源、探測(cè)器與試樣三者還必須位

于同一聚焦圓。（）

3.選擇小的接受光欄狹縫寬度，可以提高接受分辨率，但會(huì)降低接受強(qiáng)度。（）

4.德拜法比衍射儀法測(cè)量衍射強(qiáng)度更精確。（）

5.衍射儀法和德拜法一樣，對(duì)試樣粉末的要求是粒度均勻、大小適中，沒(méi)有應(yīng)力。（）

7、填空題

1.在粉末多晶衍射的照相法中包括、和

2.德拜相機(jī)有兩種，直徑分別是和四mm。測(cè)量0角時(shí)，底片上每毫米對(duì)應(yīng)”和

3.衍射儀的核心是測(cè)角儀圓，它由、和共同組成。

4.可以用作X射線探測(cè)器的有、和等。

5.影響衍射儀實(shí)驗(yàn)結(jié)果的參數(shù)有、和等。

8、名詞解釋

1.偏裝法——

2.光欄一

3.測(cè)角儀——

4.聚焦圓一

5.正比計(jì)數(shù)器——

6.光電倍增管一

習(xí)題:

1.CuKa輻射（入=0.154nm）照射Ag（f.c.c）樣品，測(cè)得第一衍射峰位置2。=38°,試求Ag的點(diǎn)陣

常數(shù)。

2.試總結(jié)德拜法衍射花樣的背底來(lái)源，并提出一些防止和減少背底的措施。

3.粉末樣品顆粒過(guò)大或過(guò)小對(duì)德拜花樣影響如何？為什么？板狀多晶體樣品晶粒過(guò)大或過(guò)小對(duì)衍射峰形

影響又如何？

4.試從入射光束、樣品形狀、成相原理（厄瓦爾德圖解）、衍射線記錄、衍射花樣、樣品吸收與衍射強(qiáng)

度（公式）、衍射裝備及應(yīng)用等方面比較衍射儀法與德拜法的異同點(diǎn)。

5.衍射儀與聚焦相機(jī)相比，聚焦幾何有何異同？

6.從一張簡(jiǎn)單立方點(diǎn)陣物的德拜相上，已求出四根高角度線條的e角（系由CuKa所產(chǎn)生）及對(duì)應(yīng)的干

涉指數(shù)，試用“a-cos?/的圖解外推法求出四位有效數(shù)字的點(diǎn)陣參數(shù)。

HKL532620443541

611540

621

。.角72.0877.9381.1187.44

7.根據(jù)上題所給數(shù)據(jù)用柯亨法計(jì)算點(diǎn)陣參數(shù)至四位有效數(shù)字。

8.用背射平板相機(jī)測(cè)定某種鴿粉的點(diǎn)陣參數(shù)。從底片上量得鴇的400衍射環(huán)直徑2Lw=5L20毫米，用氮

化鈉為標(biāo)準(zhǔn)樣，其640衍射環(huán)直徑2LNaa=36.40毫米。若此二衍射環(huán)均系由CuKal輻射引起，試求精

確到四位數(shù)字的鴇粉的點(diǎn)陣參數(shù)值。

9.試用厄瓦爾德圖解來(lái)說(shuō)明德拜衍射花樣的形成。

10.同一粉末相上背射區(qū)線條與透射區(qū)線條比較起來(lái)其。較高還是較低？相應(yīng)的d較大還是較小？既然多

晶粉末的晶體取向是混亂的，為何有此必然的規(guī)律

11.衍射儀測(cè)量在人射光束、試樣形狀、試樣吸收以及衍射線記錄等方面與德拜法有何不同？

12.測(cè)角儀在采集衍射圖時(shí)，如果試樣表面轉(zhuǎn)到與入射線成30。角，則計(jì)數(shù)管與人射線所成角度為多少？

能產(chǎn)生衍射的晶面，與試樣的自由表面呈何種幾何關(guān)系？

13.CuKa輻射（入=0.154nm）照射Ag（f.c.c）樣品，測(cè)得第一衍射峰位置26=38。，試求Ag的點(diǎn)陣常

數(shù).

14.試總結(jié)德拜法衍射花樣的背底來(lái)源，并提出一些防止和減少背底的措施。

15.圖題為某樣品德拜相（示意圖），攝照時(shí)未經(jīng)濾波。巳知1、2為同一晶面衍射線，3、4為另一晶面

衍射線.試對(duì)此現(xiàn)象作出解釋.

透射區(qū)背射區(qū)

1234

16.粉未樣品顆粒過(guò)大或過(guò)小對(duì)德拜花樣影響如何？為什么？板狀多晶體樣品晶粒過(guò)大或過(guò)小對(duì)衍射峰形

影響又如何？

17.試從入射光束、樣品形狀、成相原理（厄瓦爾德圖解〉、衍射線記錄、衍射花樣、樣品吸收與衍射強(qiáng)

度（公式）、衍射裝備及應(yīng)用等方面比較衍射儀法與德拜法的異同點(diǎn)。

18.衍射儀與聚焦相機(jī)相比，聚焦幾何有何異同？

第四章

9、選擇題

1.測(cè)定鋼中的奧氏體含量，若采用定量X射線物相分析，常用方法是（）。

A.外標(biāo)法；B.內(nèi)標(biāo)法；C.直接比較法；D.K值法。

2.X射線物相定性分析時(shí)，若已知材料的物相可以查（）進(jìn)行核對(duì)。

A.Hanawalt索引；B.Fenk索引；C.Davey索引；D.A或B。

3.德拜法中精確測(cè)定點(diǎn)陣常數(shù)其系統(tǒng)誤差來(lái)源于（）。

A.相機(jī)尺寸誤差；B.底片伸縮；C.試樣偏心；D.A+B+C。

4.材料的內(nèi)應(yīng)力分為三類，X射線衍射方法可以測(cè)定（）。

A.第一類應(yīng)力（宏觀應(yīng)力）：B.第二類應(yīng)力（微觀應(yīng)力）；C.第三類應(yīng)力：D.A+B+C.

5.Sin:V測(cè)量應(yīng)力，通常取中為（）進(jìn)行測(cè)量。

A.確定的W角；B.0-45。之間任意四點(diǎn)；C.0。、45。兩點(diǎn)；D.0。、15。、30。、45。四點(diǎn)。

10、正誤題

1.要精確測(cè)量點(diǎn)陣常數(shù)。必須首先盡量減少系統(tǒng)誤差，其次選高角度0角，最后還要用直線外推法或柯

亨法進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。（）

2.X射線衍射之所以可以進(jìn)行物相定性分析，是因?yàn)闆](méi)有兩種物相的衍射花樣是完全相同的。（）

3.理論上X射線物相定性分析可以告訴我們被測(cè)材料中有哪些物相，而定量分析可以告訴我們這些物相的

含量有多少。（）

4.只要材料中有應(yīng)力就可以用X射線來(lái)檢測(cè)。（）

5.衍射儀和應(yīng)力儀是相同的，結(jié)構(gòu)上沒(méi)有區(qū)別。（）

11、填空題

6.在△。一定的情況下，。一二，Asin。一—；所以精確測(cè)定點(diǎn)陣常數(shù)應(yīng)選擇

7.X射線物相分析包括和,而更常用更廣泛。

8.第一類應(yīng)力導(dǎo)致X射線衍射線；第二類應(yīng)力導(dǎo)致衍射線;第三類應(yīng)力導(dǎo)致衍射

線。

9.X射線測(cè)定應(yīng)力常用儀器有和,常用方法有和。

10.X射線物相定量分析方法有、、等。

12、名詞解釋

1.柯亨法—

2.Hanawalt索引一

3.直接比較法—

4.Sin2V法一

習(xí)題

1.A-TiO2（銳鐵礦）與R—Ti02（金紅石：）混合物衍射花樣中兩相最強(qiáng)線強(qiáng)度比I

試用參比強(qiáng)度法計(jì)算兩相各自的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。

2.求淬火后低溫回火的碳鋼樣品，不含碳化物（經(jīng)金相檢驗(yàn)），A（奧氏體）中含碳1%,M（馬氏體）

中含碳量極低。經(jīng)過(guò)衍射測(cè)得A220峰積分強(qiáng)度為2.33（任意單位），M200峰積分強(qiáng)度為16.32,試

計(jì)算該鋼中殘留奧氏體的體積分?jǐn)?shù)（實(shí)驗(yàn)條件：FeKa輻射，濾波，室溫20，C,a-Fe點(diǎn)陣參數(shù)

a=0.2866nm,奧氏體點(diǎn)陣參數(shù)a=0.35氏+0.0044wc,wc為碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。

3.在aFeqaFeg^Fe：。.混合物的衍射圖樣中，兩根最強(qiáng)線的強(qiáng)度比I-在收產(chǎn)1.3,試借助于索

引上的參比強(qiáng)度值計(jì)算aFeB的相對(duì)含量。

4.一塊淬火+低溫I可火的碳鋼，經(jīng)金相檢驗(yàn)證明其中不含碳化物，后在衍射儀上用FeK。照射，分析出

Y相含現(xiàn)碳，a相含碳極低，又測(cè)得丫220線條的累積強(qiáng)度為5.40,a211線條的累積強(qiáng)度為51.2,

如果測(cè)試時(shí)室溫為31-C,問(wèn)鋼中所含奧氏體的體積百分?jǐn)?shù)為多少？

5.一個(gè)承受上下方向純拉伸的多晶試樣，若以X射線垂直于拉伸軸照射，間在其背射照片上衍射環(huán)的形

狀是什么樣的？為什么？

6.不必用無(wú)應(yīng)力標(biāo)準(zhǔn)試樣對(duì)比，就可以測(cè)定材料的宏觀應(yīng)力，這是根據(jù)什么原理？

7.假定測(cè)角儀為臥式，今要測(cè)定一個(gè)圓柱形零件的軸向及切向應(yīng)力，問(wèn)試樣應(yīng)該如何放置？

8.總結(jié)出一條思路，說(shuō)明平面應(yīng)力的測(cè)定過(guò)程。

9.今要測(cè)定軋制7—3黃銅試樣的應(yīng)力，用CoKa照射（400）,當(dāng)W=0。時(shí)?測(cè)得2。=150.1。，當(dāng)甲

=45°時(shí)20=150.99°,問(wèn)試樣表面的宏觀應(yīng)力為若干？（己知a=3.695埃，E=8.83X10X10"'牛

/米z,v=0.35）

10.物相定性分析的原理是什么？對(duì)食鹽進(jìn)行化學(xué)分析與物相定性分析，所得信息有何不同？

11.物相定量分析的原理是什么？試述用K值法進(jìn)行物相定量分析的過(guò)程。

12.試借助PDF（ICDD）卡片及索引，對(duì)表1、表2中未知物質(zhì)的衍射資料作出物相鑒定。

表1?

d/AI/Ld/AI/Ld/AI/L

3.66501.46101.0610

3.171001.42501.0110

2.24801.31300.9610

1.91401.23100.8510

1.83301.1210

1.60201.0810

表2。

d/AI/Ld/AI/I,d/AI/I.

2.40501.26100.9310

2.09501.25200.8510

2.031001.20100.8120

1.75401.06200.8020

1.47301.0210

13.在一塊冷軋鋼板中可能存在哪幾種內(nèi)應(yīng)力？它的衍射譜有什么特點(diǎn)？按本章介紹的方法可測(cè)出哪一類

應(yīng)力？

14.一無(wú)殘余應(yīng)力的絲狀試樣，在受到軸向拉伸載荷的情況下，從垂直絲軸的方向用單色X射線照射，其

透射針孔相上的衍射環(huán)有何特點(diǎn)？

15.X射線應(yīng)力儀的測(cè)角器2。掃描范圍143。?163。，在沒(méi)有“應(yīng)力測(cè)定數(shù)據(jù)表”的情況下，應(yīng)如何為

待測(cè)應(yīng)力的試件選擇合適的X射線管和衍射面指數(shù)（以Cu材試件為例說(shuō)明之）。

16.在水平測(cè)角器的衍射儀上安裝一側(cè)傾附件，用側(cè)傾法測(cè)定軋制板材的殘余應(yīng)力，當(dāng)測(cè)量軋向和橫向應(yīng)

力時(shí)，試樣應(yīng)如何放置？

17.用側(cè)傾法測(cè)量試樣的殘余應(yīng)力，當(dāng)甲=0。和￥=45°時(shí)，其x射線的穿透深度有何變化？

18.A-TiOz%（銳鈦礦）與R-Ti02（金紅石）混合物衍射花樣中兩相最強(qiáng)線強(qiáng)度比IA-TiO2/IR-TiO,=

1-5"試用參比強(qiáng)度法計(jì)算兩相各自的質(zhì)量分?jǐn)?shù).

19.某淬火后低溫回火的碳鋼樣品，不含碳化物（經(jīng)金相檢驗(yàn)）。A（奧氏體）中含碳1%,M（馬氏體）

中含碳量極低。經(jīng)過(guò)衍射測(cè)得A珈峰積分強(qiáng)度為2.33（任意單位））此“峰積分強(qiáng)度為16.32。試計(jì)算該

鋼中殘留奧氏體的體積分?jǐn)?shù)（實(shí)驗(yàn)條件：FeKa輻射，濾波，室溫20℃。a-Fe點(diǎn)陣參數(shù)a=0.2866

nm,奧氏體點(diǎn)陣參數(shù)a=0。3571+0.0044Wc,Wc為碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)）。

20.某立方晶系晶體德拜花樣中部分高角度線條數(shù)據(jù)如右表所列。試用“a—cos20"的圖解外推法求其

點(diǎn)陣常數(shù)（準(zhǔn)確到4位有效數(shù)字）。

H2+K2+L2Sin20

380.9114

400.9563

410.9761

420.9980

21.欲在應(yīng)力儀（測(cè)角儀為立式）上分別測(cè)量圓柱形工件之軸向、徑向及切向應(yīng)力

工件各應(yīng)如何放歸.？

第五章

13、選擇題

1.若H-800電鏡的最高分辨率是0.5nm,那么這臺(tái)電鏡的有效放大倍數(shù)是（）。

A.1000；B.10000：C.40000；D.600000?

2.可以消除的像差是（）。

A.球差；B.像散：C.色差；D.A+B。

3.可以提高TEM的襯度的光欄是（）。

A.第二聚光鏡光欄；B.物鏡光欄；C.選區(qū)光欄；D.其它光欄。

4.電子衍射成像時(shí)是將（）。

A.中間鏡的物平面與與物鏡的背焦面重合；B.中間鏡的物平面與與物鏡的像平面重合；C.關(guān)閉中間

鏡；D.關(guān)閉物鏡。

5.選區(qū)光欄在TEM鏡筒中的位置是（）。

A.物鏡的物平面；B.物鏡的像平面C.物鏡的背焦面；D.物鏡的前焦面。

14、正誤題

1.TEM的分辨率既受衍射效應(yīng)影響，也受透鏡的像差影響。（）

2.孔徑半角a是影響分辨率的重要因素，TEM中的a角越小越好。（）

3.有效放大倍數(shù)與儀器可以達(dá)到的放大倍數(shù)不同，前者取決于儀器分辨率和人眼分辨率，后者僅僅是儀器

的制造水平。（）

4.TEM中主要是電磁透鏡，由于電磁透鏡不存在凹透鏡，所以不能象光學(xué)顯微鏡那樣通過(guò)凹凸鏡的組合設(shè)

計(jì)來(lái)減小或消除像差，故TEM中的像差都是不可消除的。（）

5.TEM的景深和焦長(zhǎng)隨分辨率的數(shù)值減小而減??；隨孔徑半角a的減小而增加；隨放大倍數(shù)的提高而

減小。（）

15、填空題

11.TEM中的透鏡有兩種，分別是和。

12.TEM中的三個(gè)可動(dòng)光欄分別是位于,位

于，位于

13.TEM成像系統(tǒng)由、和組成。

14.TEM的主要組成部分是、和觀：輔助部分山.

和組成。

15.電磁透鏡的像差包括.和

16、名詞解釋

5.景深與焦長(zhǎng)一一

6.電子槍——

7.點(diǎn)分辨與晶格分辨率一一

8.消像散器一一

9.選區(qū)衍射一一

10.分析型電鏡一一

11.極靴——

12.有效放大倍數(shù)—

13.Ariy斑-

14.孔徑半角一

思考題

1.什么是分辨率，影響透射電子顯微鏡分辨率的因素是哪些？

2.有效放大倍數(shù)和放大倍數(shù)在意義上有何區(qū)別？

3.球差、像散和色差是怎樣造成的？如何減小這些像差？哪些是可消除的像差？

4.聚光鏡、物鏡和投影鏡各自具有什么功能和特點(diǎn)？

5.影響電磁透鏡景深和焦長(zhǎng)的主要因素是什么？景深和焦長(zhǎng)對(duì)透射電子顯微鏡的成像和設(shè)計(jì)有何影響？

6.消像散器的作用和原理是什么？

7.何為可動(dòng)光闌？第二聚光鏡光闌、物鏡光闌和選區(qū)光闌在電鏡的什么位置？它們各具有什么功能？

8.比較光學(xué)顯微鏡和電子顯微鏡成像的異同點(diǎn)。電子束的折射和光的折射有何異同點(diǎn)？

9.比較靜電透鏡和磁透鏡的聚焦原理。

10.球差、色差和像散是怎樣造成的？用什么方法可以減小這些像差？

11.說(shuō)明透鏡分辨率的物理意義，用什么方法提高透鏡的分辨率？

12.電磁透鏡的景深和焦長(zhǎng)是受哪些因素控制的？

13.說(shuō)明透射電鏡中物鏡和中間鏡在成像時(shí)的作用。

14.物鏡光闌和選區(qū)光闌各具有怎樣的功能

15?點(diǎn)分辨率和晶格分辨率在意義上有何不同？

16.電子波有何特征？與可見(jiàn)光有何異同？

17.分析電磁透鏡對(duì)電子波的聚焦原理，說(shuō)明電磁透鏡結(jié)構(gòu)對(duì)聚焦能力的影響。

18.說(shuō)明影響光學(xué)顯微鏡和電磁透鏡分辨率的關(guān)鍵因素是什么？如何提高電磁透分辨率？

19.電磁透鏡景深和焦長(zhǎng)主要受哪些因素影響？說(shuō)明電磁透鏡的景深大、焦長(zhǎng)長(zhǎng)，是什么因素影響的結(jié)

果？假設(shè)電磁透鏡沒(méi)有像差，也沒(méi)有衍射Airy斑，即分辨率極高，此時(shí)景深和焦長(zhǎng)如何？

20.透射電鏡主要由幾大系統(tǒng)構(gòu)成？各系統(tǒng)之間關(guān)系如何？

21.照明系統(tǒng)的作用是什么？它應(yīng)滿足什么要求？

22.成像系統(tǒng)的主要構(gòu)成及其特點(diǎn)是什么？

23.分別說(shuō)明成像操作與衍射操作時(shí)各級(jí)透鏡（像平面與物平面）之間的相對(duì)位置關(guān)系，并畫(huà)出光路圖。

24.樣品臺(tái)的結(jié)構(gòu)與功能如何？它應(yīng)滿足哪些要求？

25.透射電鏡中有哪些主要光闌，在什么位置？其作用如何？

26.如何測(cè)定透射電鏡的分辨卒與放大倍數(shù)。電鏡的哪些主要參數(shù)控制著分辨率與放

大倍數(shù)？

第六章

17、選擇題

1.單晶體電子衍射花樣是（）。

A,規(guī)則的平行四邊形斑點(diǎn)；B.同心圓環(huán)；C.暈環(huán)；I）.不規(guī)則斑點(diǎn)。

2.薄片狀晶體的倒易點(diǎn)形狀是（）。

A.尺寸很小的倒易點(diǎn)；B.尺寸很大的球；C.有一定長(zhǎng)度的倒易桿；D.倒易圓盤(pán)。

3.當(dāng)偏離矢量S<0時(shí)，倒易點(diǎn)是在厄瓦爾德球的（）。

A.球面外；B.球面上；C.球面內(nèi)；I）.B+C.

4.能幫助消除180°不唯一性的復(fù)雜衍射花樣是（）。

A.高階勞厄斑；B.超結(jié)構(gòu)斑點(diǎn)；C.二次衍射斑：D.攣晶斑點(diǎn)。

5.菊池線可以幫助（）。

A.估計(jì)樣品的厚度；B.確定180°不唯--性；C.鑒別有序固溶體；1）.精確測(cè)定晶體取向。

6.如果單晶體衍射花樣是正六邊形，那么晶體結(jié)構(gòu)是（）。

A.六方結(jié)構(gòu)；B.立方結(jié)構(gòu)；C.四方結(jié)構(gòu)；D.A或B。

18、判斷題

1.多晶衍射環(huán)和粉末德拜衍射花樣一樣，隨著環(huán)直徑增大，衍射晶面指數(shù)也由低到高。（）

2.單晶衍射花樣中的所有斑點(diǎn)同屬于一個(gè)晶帶。（）

3.因?yàn)閿伨峭瑯拥木w沿?cái)伨鎯蓜t對(duì)稱分布，所以攣晶衍射花樣也是衍射斑點(diǎn)沿兩則對(duì)稱分布。

（）

4.偏離矢量S=0時(shí)，衍射斑點(diǎn)最亮。這是因?yàn)镾=0時(shí)是精確滿足布拉格方程，所以衍射強(qiáng)度最大。（）

5.對(duì)于未知晶體結(jié)構(gòu)，僅憑一張衍射花樣是不能確定其晶體結(jié)構(gòu)的。還要從不同位向拍攝多幅衍射花樣，

并根據(jù)材料成分、加工歷史等或結(jié)合其它方法綜合判斷晶體結(jié)構(gòu)。（）

6.電子衍射和X射線衍射一樣必須嚴(yán)格符合布拉格方程。（）

19、填空題

16.電子衍射和X射線衍射的不同之處在于不同、不同，以及

不同。

17.電子衍射產(chǎn)生的復(fù)雜衍射花樣是、、、

和.

18.偏離矢量s的最大值對(duì)應(yīng)倒易桿的長(zhǎng)度,它反映的是e角布拉格方程的程度。

19.單晶體衍射花樣標(biāo)定中最重要的一步是。

20.二次衍射可以使密排六方、金剛石結(jié)構(gòu)的花樣中在產(chǎn)生衍射花樣，但體心立方和面

心立方結(jié)構(gòu)的花樣中。

20、名詞解釋

15.偏離矢量S

16.180°不唯一性

17.菊池線

18.高階勞厄斑

習(xí)題

6-1.從原理及應(yīng)用方面分析電子衍射與X衍射在材料結(jié)構(gòu)分析中的異、同點(diǎn)。

6-2.用愛(ài)瓦爾德圖解法證明布拉格定律。

6-3.試推導(dǎo)電子衍射的基本公式，并指出L人的物理意義。

6-4.簡(jiǎn)述單晶子電子衍射花樣的標(biāo)定方法。

6-5.說(shuō)明多晶、單晶及厚單晶衍射花樣的特征及形成原理。

6-6.下圖為18Cr2N4WA經(jīng)900℃油淬后在透射電鏡下攝得的選區(qū)電子衍射花樣示意圖，衍射花樣中有馬氏

體和奧氏體兩套斑點(diǎn)，請(qǐng)對(duì)其指數(shù)斑點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)定。

O

?。?

O

O

?O?

O

O

0

O

?電?

0

6-1.18Cr2N4WA經(jīng)900C油淬后電子衍射花樣示意圖

Ri=10.2mm,RFIO.0mm,

R2=10.2mmR2=10.Onun,

,R；F14.4nun,R：F16.8mm,

R和比間夾角為90°,R和R間夾角為70。，

L入=2.05mm*nni

6-7.下圖為18Cr2N4WA經(jīng)900℃油淬400℃回火后在透射電鏡下攝得的滲碳體選區(qū)電子衍射花樣示意圖,

請(qǐng)對(duì)其指數(shù)斑點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)定.

RI=9.8mm,R2=10.Omm,

中=95°,LA.=2.05mm*nm

6-8.為何對(duì)稱入射時(shí)，即只有倒易點(diǎn)陣原點(diǎn)在愛(ài)瓦爾德球面上，也能得到除中心斑點(diǎn)以外的?系列衍射

斑點(diǎn)？

6-9.舉例說(shuō)明如何用選區(qū)衍射的方法來(lái)確定新相的慣習(xí)面及母相與新相的位相關(guān)系。

6-10.試正明倒易矢g與所對(duì)應(yīng)的（hkl）面指數(shù)關(guān)系為

g=ha*+kb*+lc*o

6-11.為什么說(shuō)從衍射觀點(diǎn)看有些倒易點(diǎn)陣也是衍射點(diǎn)陣，其倒易點(diǎn)不是幾何點(diǎn)？其形狀和所具有的強(qiáng)度

取決于哪些因素，在實(shí)際上有和重要意義？

6-12.為什么說(shuō)斑點(diǎn)花樣是相應(yīng)倒易而放大投影？繪出fcc（lll）*倒易面。

6-13.為什么TEM既能選區(qū)成象又能選區(qū)衍射？怎樣才能做到兩者所選區(qū)域的?致性。在實(shí)際應(yīng)用方面有

和重要意義？

6-14.在fee中，若季晶面（111），求攣晶（31-1）倒易陣點(diǎn)在基體倒易點(diǎn)陣中的位置。

6-15.試說(shuō)明菊池線測(cè)試樣取向關(guān)系比斑點(diǎn)花樣精確度為高的原因。

第七章

21、選擇題

1.將某?衍射斑點(diǎn)移到熒光屏中心并用物鏡光欄套住該衍射斑點(diǎn)成像，這是（）。

A.明場(chǎng)像；B.暗場(chǎng)像：C.中心暗場(chǎng)像；D.弱束暗場(chǎng)像。

2.當(dāng)t=5s/2時(shí)，衍射強(qiáng)度為（）。

A.Ig=0；B.Ig<0；C.Ig>0；D.Ig=Imaxo

3.已知一位錯(cuò)線在選擇操作反射gi=（110）和g2=（lll）時(shí)，位錯(cuò)不可見(jiàn)，那么它的布氏矢量是（）。

A.b=（0-10）；B.b=（1-10）；C.b=（0-11）；D.b=（010）,

4.當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)，此時(shí)的成像襯度是（）。

A.質(zhì)厚襯度；B.衍襯襯度；C.應(yīng)變場(chǎng)襯度；D.相位襯度。

5.當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)，此時(shí)所看到的粒子大?。ǎ?。

A.小于真實(shí)粒子大??；B.是應(yīng)變場(chǎng)大??；C.與真實(shí)粒子一樣大小；D.遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于真實(shí)粒子。

22、判斷題

1.實(shí)際電鏡樣品的厚度很小時(shí)，能近似滿足衍襯運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的條件，這時(shí)運(yùn)動(dòng)學(xué)理論能很好地解釋襯度像。

()

2.厚樣品中存在消光距離gg,薄樣品中則不存在消光距離gg。()

3.明場(chǎng)像是質(zhì)厚襯度，暗場(chǎng)像是衍襯襯度。()

4.晶體中只要有缺陷，用透射電鏡就可以觀察到這個(gè)缺陷。()

5.等厚消光條紋和等傾消光條紋通常是形貌觀察中的干擾，應(yīng)該通過(guò)更好的制樣來(lái)避免它們的出現(xiàn)。

()

23、填空題

21.運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的兩個(gè)基本假設(shè)是和。

22.對(duì)于理想晶體，當(dāng)或連續(xù)改變時(shí)襯度像中會(huì)出現(xiàn)

或。

23.對(duì)于缺陷晶體，缺陷襯度是由缺陷引起的導(dǎo)致衍射波振幅增加了一個(gè)，

但是若=231的整數(shù)倍時(shí)，缺陷也不產(chǎn)生襯度。

24.-?般情況下，李晶與層錯(cuò)的襯度像都是平行—，但李晶的平行線,而層錯(cuò)的平行線是

的。

25.實(shí)際的位錯(cuò)線在位錯(cuò)線像的,其寬度也大大小于位錯(cuò)線像的寬度，這是因?yàn)槲诲e(cuò)線像的寬度是

寬度。

24、名詞解釋

19.中心暗場(chǎng)像

20.消光距離；g

21.等厚消光條紋和等傾消光條紋

22.不可見(jiàn)性判據(jù)

23.應(yīng)變場(chǎng)襯度

習(xí)題

7-1.制備薄膜樣品的基本要求是什么？具體工藝如何？雙噴減薄與離子減薄各適用于制備什么樣品？

7-2.何謂襯度？TEM能產(chǎn)生哪幾種襯度象，是怎樣產(chǎn)生的，都有何用途

7-3.畫(huà)圖說(shuō)明衍襯成象原理，并說(shuō)明什么是明場(chǎng)象，喑場(chǎng)象和中心暗場(chǎng)象。

7-4.衍襯運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的最基本假設(shè)是什么？怎樣做才能滿足或接近基本假設(shè)？

7-5.用理想晶體衍襯運(yùn)動(dòng)學(xué)基本方程解釋等厚條紋與等傾條紋。

7-6.用缺陷晶體衍襯運(yùn)動(dòng)學(xué)基本方程解釋層錯(cuò)與位錯(cuò)的襯度形成原理。

7-7.要觀察鋼中基體和析出相的組織形態(tài)，同時(shí)要分析其晶體結(jié)構(gòu)和共格界面的位向關(guān)系，如何制備樣

品？以怎樣的電鏡操作方式和步驟來(lái)進(jìn)行具體分析？

7-8.什么是消光距離/影響消光距離的主要物性參數(shù)和外界條件是什么？

7-9.什么是雙束近似單束成像，為什么解釋衍襯象有時(shí)還要拍攝相應(yīng)衍射花樣？

7-10.用什么辦法、根據(jù)什么特征才能判斷出fee晶體中的層錯(cuò)是抽出型的還是插入型的？

7-11.怎樣確定球型沉淀是空位型還是間隙型的？

7-12.當(dāng)下述像相似時(shí)，寫(xiě)出區(qū)別它們的實(shí)驗(yàn)方法及區(qū)別根據(jù)。

1)球形共格沉淀與位錯(cuò)線垂直于試樣表面的位錯(cuò)。

2）垂直于試樣表面的晶界和交叉位錯(cuò)像。

3）片狀半共格沉淀和位錯(cuò)環(huán)。

4）不全位錯(cuò)和全位錯(cuò)。

7-11.層錯(cuò)和大角晶界均顯示條紋襯度，那么如何區(qū)分層錯(cuò)和晶界？

第八章

25、選擇題

1.僅僅反映固體樣品表面形貌信息的物理信號(hào)是（）。

A.背散射電子；B.二次電子；C.吸收電子；I）.透射電子。

2.在掃描電子顯微鏡中，下列二次電子像襯度最亮的區(qū)域是（）。

A.和電子束垂直的表面；B.和電子束成30"的表面：C.和電子束成45°的表面；D.和電子束成60°的表

面。

3.可以探測(cè)表面Inm層厚的樣品成分信息的物理信號(hào)是（）。

A.背散射電子；B.吸收電子；C.特征X射線；D.俄歇電子。

4.掃描電子顯微鏡配備的成分分析附件中最常見(jiàn)的儀器是（）。

A.波譜儀；B.能譜儀；C.俄歇電子譜儀；1）.特征電子能量損失譜。

5.波譜儀與能譜儀相比，能譜儀最大的優(yōu)點(diǎn)是（）。

A.快速高效；B.精度高；C.沒(méi)有機(jī)械傳動(dòng)部件；D.價(jià)格便宜。

26、判斷題

1.掃描電子顯微鏡中的物鏡與透射電子顯微鏡的物鏡一樣。（）

2.掃描電子顯微鏡的分辨率主要取決于物理信號(hào)而不是衍射效應(yīng)和球差。（）

3.掃描電子顯微鏡的襯度和透射電鏡一樣取決于質(zhì)厚襯度和衍射襯度。（）

4.掃描電子顯微鏡具有大的景深，所以它可以用來(lái)進(jìn)行斷口形貌的分析觀察。（）

5.波譜儀是逐?接收元素的特征波長(zhǎng)進(jìn)行成分分析；能譜儀是同時(shí)接收所有元素的特征X射線進(jìn)行成分分

析的。（）

27、填空題

26.電子束與固體樣品相互作用可以產(chǎn)生

、、、、、等物理信號(hào)。

27.掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)是的掃描寬度與的掃描寬度的比值。在襯度像上顆

粒、凸起的棱角是—襯度，而裂紋、凹坑則是—襯度。

28.分辨率最高的物理信號(hào)是為_(kāi)詢，分辨率最低的物理信號(hào)是為nm以上。

29.電子探針包括和兩種儀器。

30.掃描電子顯微鏡可以替代進(jìn)行材料觀察，也可以對(duì)—進(jìn)行分析觀察。

28、名詞解釋

24.背散射電子、吸收電子、特征X射線、俄歇電子、二次電子、透射電子。

25.電子探針、波譜儀、能譜儀。

習(xí)題

1.掃描電子顯微鏡有哪些特點(diǎn)？

2.電子束和固體樣品作用時(shí)會(huì)產(chǎn)生哪些信號(hào)？它們各具有什么特點(diǎn)？

3.掃描電子顯微鏡的分辨率和信號(hào)種類有關(guān)？試將各種信號(hào)的分辨率高低作一比較。

4.掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)是如何調(diào)節(jié)的？試和透射電子顯微鏡作一比較。

5.表面形貌襯度和原子序數(shù)襯度各有什么特點(diǎn)？

6.和波譜儀相比，能譜儀在分析微區(qū)化學(xué)成分時(shí)有哪些優(yōu)缺點(diǎn)？

部分習(xí)題解

1.X射線學(xué)有幾個(gè)分支？每個(gè)分支的研究對(duì)象是什么？

答：X射線學(xué)分為三大分支：X射線透射學(xué)、X射線衍射學(xué)、X射線光譜學(xué)。

X射線透射學(xué)的研究對(duì)象有人體,工件等，用它的強(qiáng)透射性為人體診斷傷病、用于探測(cè)工件內(nèi)部的缺

陷等。

X射線衍射學(xué)是根據(jù)衍射花樣,在波長(zhǎng)已知的情況下測(cè)定晶體結(jié)構(gòu)，研究與結(jié)構(gòu)和結(jié)構(gòu)變化的相關(guān)的

各種問(wèn)題。

X射線光譜學(xué)是根據(jù)衍射花樣,在分光晶體結(jié)構(gòu)已知的情況下，測(cè)定各種物質(zhì)發(fā)出的X射線的波長(zhǎng)和

強(qiáng)度，從而研究物質(zhì)的原子結(jié)構(gòu)和成分。

2.分析下列熒光輻射產(chǎn)生的可能性，為什么？

(1)用CuK.X射線激發(fā)CuK.熒光輻射；

(2)用CuK,X射線激發(fā)CuK.熒光輻射；

(3)用CuKX射線激發(fā)CuL熒光輻射。

答：根據(jù)經(jīng)典原子模型，原子內(nèi)的電子分布在一系列量子化的殼層上，在穩(wěn)定狀態(tài)下，每個(gè)殼層有一定數(shù)

量的電子，他們有一定的能量。最內(nèi)層能量最低，向外能量依次增加。

根據(jù)能量關(guān)系，M、K層之間的能量差大于L、K成之間的能量差，K、L層之間的能量差大于M、L層

能量差。由于釋放的特征譜線的能量等于殼層間的能量差，所以KB的能量大于Ka的能量，Ka能量大于La

的能量。

因此在不考慮能量損失的情況下：

(1)CuKa能激發(fā)CuKa熒光輻射；(能量相同)

(2)CuKB能激發(fā)CuKa熒光輻射；(KB>Ka)

(3)CuKa能激發(fā)CuLa熒光輻射；(Ka>la)

3.什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“熒光輻射”、“吸收限”、“俄歇效應(yīng)”？

答：

⑴當(dāng)x射線通過(guò)物質(zhì)時(shí)，物質(zhì)原子的電子在電磁場(chǎng)的作用下將產(chǎn)生受迫振動(dòng)，受迫振動(dòng)產(chǎn)生交變電磁

場(chǎng)，其頻率與入射線的頻率相同，這種由于散射