材料課件3-第三講-薄膜材料物理-第二章薄膜的力學(xué)性質(zhì)

第三講薄膜材料物理本講介紹薄膜材料物理，重點(diǎn)介紹薄膜的力學(xué)性質(zhì)。ffbyfsadswefadsgsa第二章薄膜的力學(xué)性質(zhì)薄膜材料的力學(xué)性質(zhì)是其在各種應(yīng)用中發(fā)揮作用的關(guān)鍵因素。薄膜的力學(xué)性質(zhì)包括應(yīng)力、應(yīng)變、彈性模量、硬度、強(qiáng)度等。本章將深入探討薄膜的力學(xué)性質(zhì)及其對薄膜材料性能的影響。2.1薄膜的應(yīng)力和應(yīng)變應(yīng)力和應(yīng)變是描述材料在受力變形時的兩個重要參數(shù)。應(yīng)力是指作用在材料截面積上的力，而應(yīng)變是指材料在受力變形后的形變大小。薄膜材料由于其尺寸小、結(jié)構(gòu)特殊，其應(yīng)力和應(yīng)變與塊狀材料相比有很大不同。1應(yīng)力作用在材料截面積上的力2應(yīng)變材料在受力變形后的形變大小3薄膜力學(xué)薄膜材料的應(yīng)力和應(yīng)變薄膜材料的應(yīng)力和應(yīng)變與其制備工藝、薄膜的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)、以及外部環(huán)境條件密切相關(guān)。2.1.1薄膜的應(yīng)力1應(yīng)力的定義應(yīng)力是指作用在物體上的外力引起的物體內(nèi)部的抵抗變形的能力。單位是帕斯卡(Pa)。2應(yīng)力類型薄膜應(yīng)力可以分為兩種類型：拉伸應(yīng)力(tensilestress)和壓縮應(yīng)力(compressivestress)。3應(yīng)力的影響薄膜的應(yīng)力會影響其機(jī)械性能、光學(xué)性能和電學(xué)性能，例如膜的脆性、光學(xué)透射率、電阻率等。2.1.2薄膜的應(yīng)變應(yīng)變的定義應(yīng)變是指材料在外力作用下發(fā)生的形變程度。薄膜的應(yīng)變通常用應(yīng)變率表示，它是材料長度變化與原長度的比值。應(yīng)變的類型薄膜的應(yīng)變可以分為彈性應(yīng)變和塑性應(yīng)變。彈性應(yīng)變是指材料在外力去除后能夠恢復(fù)到原狀的形變。塑性應(yīng)變是指材料在外力去除后無法恢復(fù)到原狀的形變。應(yīng)變的影響因素薄膜的應(yīng)變受多種因素影響，包括材料的性質(zhì)、外力的大小、加載方式以及溫度等。2.2薄膜的力學(xué)性能薄膜的力學(xué)性能是指薄膜在外力作用下抵抗變形和破壞的能力。薄膜的力學(xué)性能與其應(yīng)用密切相關(guān)，例如，在微電子器件中，薄膜的強(qiáng)度和硬度決定了器件的可靠性；在光學(xué)器件中，薄膜的彈性模量決定了器件的穩(wěn)定性。薄膜的力學(xué)性能與薄膜的材料、結(jié)構(gòu)、制備工藝等因素有關(guān)。1彈性模量薄膜抵抗彈性形變的能力。2硬度薄膜抵抗局部壓痕的能力。3抗拉強(qiáng)度薄膜抵抗拉伸斷裂的能力。4抗壓強(qiáng)度薄膜抵抗壓縮破壞的能力。薄膜的力學(xué)性能測試方法有很多，例如納米壓痕測試、拉伸測試、彎曲測試等。通過這些測試可以得到薄膜的彈性模量、硬度、抗拉強(qiáng)度、抗壓強(qiáng)度等力學(xué)參數(shù)，從而評估薄膜的力學(xué)性能。2.2.1彈性模量定義彈性模量是指材料在彈性變形范圍內(nèi)抵抗形變的能力，反映了材料的剛度。測試方法常見的測試方法包括納米壓痕法、微懸臂梁法和彎曲法，用于測量薄膜的彈性模量。影響因素彈性模量受薄膜的成分、結(jié)構(gòu)、晶粒尺寸、沉積工藝等因素影響。2.2.2硬度薄膜的硬度是指材料抵抗局部變形的能力。1壓痕法利用金剛石壓頭壓入薄膜表面，通過測量壓痕的尺寸和深度來計(jì)算硬度。2劃痕法利用鋒利的針尖劃過薄膜表面，通過測量劃痕的寬度和深度來計(jì)算硬度。3納米壓痕法利用納米壓頭壓入薄膜表面，通過測量壓痕的尺寸和深度來計(jì)算硬度。硬度測試方法根據(jù)壓頭形狀和加載方式不同而有所差異。硬度是薄膜的重要性能指標(biāo)，與薄膜的耐磨性、耐刮擦性、抗壓性等性能密切相關(guān)。2.2.3抗拉強(qiáng)度1定義抗拉強(qiáng)度是指材料在斷裂前所能承受的最大拉伸應(yīng)力。它反映了材料抵抗拉伸形變的能力。2測試方法通常采用萬能試驗(yàn)機(jī)進(jìn)行測試。將試樣夾緊，施加拉伸力，直至試樣斷裂，記錄斷裂時的力值和斷裂面積，計(jì)算得出抗拉強(qiáng)度。3影響因素材料的成分、結(jié)構(gòu)、溫度、應(yīng)變速率等因素都會影響抗拉強(qiáng)度。例如，晶粒尺寸越小，抗拉強(qiáng)度越高。2.2.4抗壓強(qiáng)度1定義材料在壓縮負(fù)荷作用下抵抗破壞的能力2測試方法使用壓痕儀進(jìn)行測量3影響因素薄膜厚度、材質(zhì)、沉積工藝抗壓強(qiáng)度是薄膜材料的重要力學(xué)性能指標(biāo)之一，反映了薄膜材料在受到壓縮應(yīng)力時的抵抗能力?？箟簭?qiáng)度越高，薄膜材料抵抗變形和破壞的能力越強(qiáng)。2.3薄膜的內(nèi)應(yīng)力內(nèi)應(yīng)力是指薄膜材料內(nèi)部存在的應(yīng)力，它是影響薄膜性能的重要因素之一。1內(nèi)應(yīng)力的產(chǎn)生薄膜生長過程中的熱膨脹系數(shù)差異、薄膜材料內(nèi)部的缺陷等因素都可能導(dǎo)致內(nèi)應(yīng)力的產(chǎn)生。2內(nèi)應(yīng)力的影響內(nèi)應(yīng)力會影響薄膜的機(jī)械強(qiáng)度、光學(xué)性能、電學(xué)性能等。3內(nèi)應(yīng)力的控制控制薄膜生長的溫度、速率、氣氛等參數(shù)可以有效地控制內(nèi)應(yīng)力。內(nèi)應(yīng)力是薄膜材料內(nèi)部的應(yīng)力狀態(tài)，會影響薄膜的穩(wěn)定性、機(jī)械性能和光電性能，在薄膜應(yīng)用中需要重視其控制和測量。2.3.1內(nèi)應(yīng)力的產(chǎn)生機(jī)理熱應(yīng)力薄膜材料的熱膨脹系數(shù)與基底材料不同，在溫度變化時會產(chǎn)生熱應(yīng)力。生長應(yīng)力薄膜生長過程中，原子在基底表面沉積排列，形成不均勻的晶格結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致生長應(yīng)力。相變應(yīng)力薄膜材料在不同的溫度或壓力下可能發(fā)生相變，導(dǎo)致晶格結(jié)構(gòu)變化，從而產(chǎn)生相變應(yīng)力。點(diǎn)缺陷應(yīng)力薄膜材料中存在點(diǎn)缺陷，如空位和間隙原子，會引起晶格畸變，產(chǎn)生點(diǎn)缺陷應(yīng)力。表面應(yīng)力薄膜表面存在表面能，會產(chǎn)生表面應(yīng)力。表面能的大小取決于薄膜材料的性質(zhì)和表面結(jié)構(gòu)。2.3.2內(nèi)應(yīng)力的測量方法內(nèi)應(yīng)力的測量方法是研究薄膜材料的重要手段。不同類型的內(nèi)應(yīng)力可以通過不同的方法進(jìn)行測量，例如，利用光學(xué)干涉法測量薄膜的彎曲程度，進(jìn)而推算內(nèi)應(yīng)力大小。1光學(xué)干涉法利用光波干涉原理測量薄膜的彎曲程度2X射線衍射法通過分析薄膜的晶格結(jié)構(gòu)變化，得到內(nèi)應(yīng)力信息3微懸臂梁法利用微懸臂梁的彎曲變形，計(jì)算薄膜的內(nèi)應(yīng)力此外，還可以使用拉曼光譜法、電子顯微鏡法等方法測量薄膜的內(nèi)應(yīng)力。2.3.3內(nèi)應(yīng)力的控制1薄膜生長條件控制控制生長溫度、沉積速率、氣體壓力等生長參數(shù)可以有效地調(diào)節(jié)薄膜的內(nèi)應(yīng)力。例如，降低生長溫度或提高沉積速率，可以減小薄膜的內(nèi)應(yīng)力。2薄膜結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)通過多層薄膜結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可以利用不同材料的內(nèi)應(yīng)力相互抵消，從而減小薄膜的整體內(nèi)應(yīng)力。3后處理工藝采用退火、離子注入等后處理工藝，可以對薄膜的內(nèi)應(yīng)力進(jìn)行調(diào)整，使其符合應(yīng)用需求。2.4薄膜的力學(xué)失效薄膜材料在實(shí)際應(yīng)用中會因各種因素而發(fā)生力學(xué)失效。力學(xué)失效是指薄膜材料在承受外力或內(nèi)應(yīng)力的作用下，其結(jié)構(gòu)發(fā)生破壞，導(dǎo)致其功能喪失。1斷裂薄膜材料因承受拉伸或彎曲應(yīng)力而斷裂。2剝離薄膜材料與基底之間發(fā)生分離，導(dǎo)致薄膜從基底上剝落。3應(yīng)力遷移薄膜材料中的應(yīng)力在薄膜內(nèi)部或薄膜與基底之間發(fā)生遷移，導(dǎo)致薄膜發(fā)生變形或失效。這些力學(xué)失效模式會影響薄膜材料的性能和壽命，因此在設(shè)計(jì)和制造薄膜材料時需要考慮這些因素，并采取措施來避免或延緩失效。2.4.1薄膜的斷裂斷裂類型薄膜的斷裂可分為脆性斷裂和韌性斷裂。脆性斷裂的特點(diǎn)是斷裂前沒有明顯的塑性變形，斷裂面平整。韌性斷裂則在斷裂前有明顯的塑性變形，斷裂面粗糙。影響因素薄膜的斷裂強(qiáng)度受多種因素影響，包括薄膜材料的性質(zhì)、薄膜的厚度、薄膜的表面狀態(tài)、環(huán)境溫度和應(yīng)力狀態(tài)等。失效機(jī)理薄膜的斷裂失效通常由微裂紋的擴(kuò)展導(dǎo)致。當(dāng)微裂紋擴(kuò)展到一定程度時，就會導(dǎo)致薄膜的斷裂。微裂紋的擴(kuò)展可以由應(yīng)力集中、材料缺陷和環(huán)境因素等引起。2.4.2薄膜的剝離1界面層界面層是薄膜和基底之間的結(jié)合層，其強(qiáng)度直接影響薄膜的剝離強(qiáng)度。2內(nèi)應(yīng)力薄膜的內(nèi)應(yīng)力可以導(dǎo)致薄膜翹曲或變形，從而降低薄膜的剝離強(qiáng)度。3外界因素環(huán)境溫度、濕度和機(jī)械應(yīng)力等因素會影響薄膜的剝離強(qiáng)度，甚至導(dǎo)致薄膜剝離。2.4.3薄膜的應(yīng)力遷移1應(yīng)力集中薄膜表面存在缺陷或不均勻性2應(yīng)力梯度薄膜內(nèi)部存在應(yīng)力差異3材料流動應(yīng)力從高應(yīng)力區(qū)域向低應(yīng)力區(qū)域遷移4結(jié)構(gòu)變化薄膜的形貌和力學(xué)性能發(fā)生變化應(yīng)力遷移是薄膜中一種常見的現(xiàn)象，它會對薄膜的力學(xué)性能產(chǎn)生顯著的影響。應(yīng)力遷移通常發(fā)生在薄膜內(nèi)部存在應(yīng)力集中或應(yīng)力梯度的情況下，材料會從高應(yīng)力區(qū)域向低應(yīng)力區(qū)域流動，導(dǎo)致薄膜的結(jié)構(gòu)發(fā)生變化，最終影響薄膜的力學(xué)性能。2.5薄膜的力學(xué)性能表征1薄膜的力學(xué)性能測試測量薄膜的力學(xué)性質(zhì)2薄膜的力學(xué)性能分析分析測試結(jié)果，了解薄膜的力學(xué)特性3薄膜的力學(xué)性能優(yōu)化根據(jù)分析結(jié)果，改進(jìn)薄膜的力學(xué)性能薄膜的力學(xué)性能表征是研究和開發(fā)薄膜材料的重要環(huán)節(jié)，它包括測試、分析和優(yōu)化三個步驟。測試階段主要通過各種儀器和方法，測量薄膜的力學(xué)性質(zhì)，例如彈性模量、硬度、抗拉強(qiáng)度等。分析階段則利用測試數(shù)據(jù)，對薄膜的力學(xué)特性進(jìn)行分析，揭示薄膜內(nèi)部的結(jié)構(gòu)、成分和缺陷對力學(xué)性能的影響。最后，優(yōu)化階段則是根據(jù)分析結(jié)果，通過改變薄膜的制備工藝、材料成分或結(jié)構(gòu)等手段，來改進(jìn)薄膜的力學(xué)性能，使其滿足應(yīng)用需求。2.5.1薄膜的力學(xué)性能測試1拉伸測試?yán)鞙y試是一種常用的力學(xué)性能測試方法，通過施加拉力測量薄膜的抗拉強(qiáng)度、彈性模量等參數(shù)。測試設(shè)備通常包括萬能材料試驗(yàn)機(jī)、夾具和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。2壓痕測試壓痕測試通過壓頭壓入薄膜表面，測量壓痕深度、壓痕面積等參數(shù)，可以評估薄膜的硬度、彈性模量等力學(xué)性質(zhì)。常見的壓痕測試方法包括維氏硬度測試、納米壓痕測試等。3彎曲測試彎曲測試通過施加彎曲力或彎曲力矩，測量薄膜的彎曲強(qiáng)度、彎曲模量等力學(xué)性質(zhì)。彎曲測試可以評估薄膜的抗彎性能，以及薄膜在彎曲應(yīng)力下的變形情況。2.5.2薄膜的力學(xué)性能分析數(shù)據(jù)處理通過測試獲得的原始數(shù)據(jù)需要進(jìn)行處理，以提取薄膜的力學(xué)性能指標(biāo)。包括數(shù)據(jù)校正、曲線擬合、誤差分析等。模型分析利用力學(xué)模型對薄膜的力學(xué)行為進(jìn)行分析，例如有限元分析、分子動力學(xué)模擬等。這些模型可以幫助我們理解薄膜的力學(xué)響應(yīng)機(jī)制。結(jié)果解釋對分析結(jié)果進(jìn)行解釋，并與理論預(yù)期進(jìn)行比較，以驗(yàn)證模型的準(zhǔn)確性和解釋薄膜的力學(xué)性能。需要考慮薄膜材料、結(jié)構(gòu)、制備工藝等因素對力學(xué)性能的影響。2.5.3薄膜的力學(xué)性能優(yōu)化1材料選擇選擇合適的材料，例如高強(qiáng)度、高硬度、高韌性的材料。2工藝控制控制薄膜的制備工藝參數(shù)，例如沉積溫度、濺射功率、氣體流量等。3結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)合理的薄膜結(jié)構(gòu)，例如多層薄膜、梯度薄膜等。4表面處理對薄膜表面進(jìn)行處理，例如表面涂層、表面改性等。薄膜的力學(xué)性能優(yōu)化是一個綜合性的過程，需要從材料選擇、工藝控制、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和表面處理等多個方面入手，以提高薄膜的強(qiáng)度、硬度、韌性等力學(xué)性能。2.6薄膜力學(xué)性能的應(yīng)用1微電子集成電路2光電子光學(xué)器件3MEMS/NEMS微納傳感器薄膜的力學(xué)性能在現(xiàn)代科技領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用，例如微電子、光電子和MEMS/NEMS領(lǐng)域。薄膜的力學(xué)性能直接影響器件的可靠性和穩(wěn)定性，因此薄膜的力學(xué)性能研究對材料科學(xué)和工程技術(shù)發(fā)展至關(guān)重要。2.6.1薄膜力學(xué)性能在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用1集成電路薄膜材料在集成電路制造中起著至關(guān)重要的作用，例如作為絕緣層、導(dǎo)電層和保護(hù)層。薄膜的力學(xué)性能直接影響器件的可靠性和性能，如抗壓強(qiáng)度決定了器件的抗沖擊能力，彈性模量影響器件的機(jī)械穩(wěn)定性。2晶體管薄膜力學(xué)性能對晶體管的性能影響很大。例如，薄膜的內(nèi)應(yīng)力會導(dǎo)致晶體管的應(yīng)力變形，從而影響其電學(xué)特性。此外，薄膜的硬度影響晶體管的可靠性，高的硬度可以有效地防止晶體管在封裝和使用過程中受到損壞。3微處理器在微處理器制造中，薄膜的力學(xué)性能對器件的可靠性和性能至關(guān)重要。薄膜的應(yīng)力會影響微處理器芯片的機(jī)械強(qiáng)度和熱穩(wěn)定性。薄膜的硬度會影響微處理器芯片的耐磨性和抗劃傷性能。2.6.2薄膜力學(xué)性能在光電子領(lǐng)域的應(yīng)用薄膜的力學(xué)性能在光電子領(lǐng)域扮演著至關(guān)重要的角色，影響著光電子器件的性能和可靠性。薄膜的機(jī)械強(qiáng)度、硬度、抗彎強(qiáng)度和抗拉強(qiáng)度等力學(xué)參數(shù)直接影響器件的光學(xué)特性、穩(wěn)定性和壽命。1光學(xué)器件光學(xué)薄膜可以增強(qiáng)光學(xué)器件的透射率或反射率，實(shí)現(xiàn)光學(xué)特性調(diào)控。2光纖薄膜涂層可以提高光纖的抗拉強(qiáng)度，減少光纖斷裂。3光電探測器薄膜材料的機(jī)械性能影響光電探測器的靈敏度和響應(yīng)速度。例如，光學(xué)薄膜可以用于提高光學(xué)器件的透射率或反射率，實(shí)現(xiàn)光學(xué)特性調(diào)控。在光纖領(lǐng)域，薄膜涂層可以提高光纖的抗拉強(qiáng)度，減少光纖斷裂。此外，薄膜材料的機(jī)械性能也影響著光電探測器的靈敏度和響應(yīng)速度。2.6.3薄膜力學(xué)性能在MEMS/NEMS領(lǐng)域的應(yīng)用微型傳感器MEMS/NEMS器件通常由薄膜材料構(gòu)成，薄膜的力學(xué)性能決定了器件的靈敏度、響應(yīng)速度和可靠性。例如，薄膜的彈性模量和硬度影響著傳感器的敏感程度和抗壓能力，而薄膜的內(nèi)