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電性能參數(shù)對于運營現(xiàn)場人員來說,就如同人們到醫(yī)院體檢的檢查結(jié)果一樣,可以反映出制程過程中的各種問題,通過各種參數(shù)的對比分析、跟蹤,來判斷問題是否得到真正解決,今天"光伏技術(shù)”將介紹電性能異常分析方法,期待與您共同進(jìn)步。1.電性能偏低原因分析1.1開路電壓UOC偏低a.燒結(jié)燒穿;b.未擴散片;c.濕刻放反片;d.PE放反片;e.來料“黑心片”;f.污染片(工序衛(wèi)生沒搞好);g.合金不共融片;h.來料氧含量超標(biāo);i.微晶片。1.2短路電流ISC偏低a.燒結(jié)沒燒透(接觸電阻大);b.燒結(jié)燒穿;c.未擴散片;d.來料“黑心片”;e.PE放反片;f.背面絨面拋光效果差;g.正面絨面效果不理想;h.擴散方阻??;i.來料氧含量超標(biāo);j.絲印效果差(高寬比異常、斷柵多、虛印嚴(yán)重);k.濕刻放反片;l.微晶片。1.3串聯(lián)電阻RS偏大a.燒結(jié)沒燒透;b.擴散方阻偏大;c.濕刻放反片;d.濕刻方阻上升過大;e.死層去除不夠干凈;f.測試探針接觸不良;g.漿料過于干燥;h.絲印效果差(高寬比異常、柵線粗細(xì)不均、虛印嚴(yán)重);i.微晶片。1.4并聯(lián)電阻Rsh偏小a.燒結(jié)燒穿;b.漏漿;c.濕刻邊緣沒完全干凈;d.擴散污染;e.來料污染;f.濕刻過刻;g.PE放反片;h.微晶片。1.5暗電流Irev偏大a.燒結(jié)燒穿;b.漏漿;c.擴散污染;d.來料污染;e.濕刻邊緣沒完全干凈;f.濕刻放反片;g.PE放反片;h.絲印返工片;i.濕刻過刻;j.微晶片。2.異常原因分析2.1燒結(jié)燒穿測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低、短路電流偏低、并聯(lián)電阻偏小、暗電流偏大;2.2PE放反片測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低、短路電流偏低、并聯(lián)電阻偏小、暗電流偏大;2.3來料“黑心片”測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低、短路電流偏低、并聯(lián)電阻偏小、暗電流偏大;2.4擴散污染片測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低、短路電流偏低、并聯(lián)電阻偏小、暗電流偏大;2.5正銀漿料污染片測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低、短路電流偏低、并聯(lián)電阻偏小、暗電流偏大;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變化相對小,異常是指指標(biāo)變化相對大。b.使用檢測設(shè)備:四探針測試儀和EL-C。c.分析判斷方法:1.首先用四探針測試電池片背面沒有印上漿料的地方,看其方阻是否正常,當(dāng)方阻在50左右時,可以判斷為PE放反;2.如果方阻正常,則用EL進(jìn)行正偏和反偏測試,根據(jù)圖案形狀來做判斷,如果圖像是以電池片中心,出現(xiàn)橢圓或近圓狀暗色圖形的,一般可判為來料“黑心”片;3.如果顯示暗色的出現(xiàn)在印刷柵線重合地方,可認(rèn)為是燒結(jié)燒穿或者是正銀漿料污染;4.如果出現(xiàn)雜亂的,或者出現(xiàn)點狀暗淡的圖形或者在晶界邊緣,一般可認(rèn)為是擴散污染片。2.6
未擴散片測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低、短路電流偏低;2.7氧含量超標(biāo)測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低、短路電流偏低;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變化相對小,異常是指指標(biāo)變化相對大。b.使用檢測設(shè)備:用EL-C;c.分析判斷方法:1.直接用EL-C測試電池片,如果正反偏圖象顯示為全黑的,可認(rèn)為是未擴散片;2.如果圖象均勻跟正常片沒什么區(qū)別,只是顏色偏淡,一般認(rèn)為是光譜響應(yīng)不夠,也可以用D8儀來測試其反射率;3.對于氧含量超標(biāo)用專門檢測設(shè)備來判定,不過由于缺乏設(shè)備,我們可以按上面的順序來排查確定;2.8濕刻放反片測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低、短路電流偏低、串聯(lián)電阻偏大、暗電流偏大;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變化相對小,異常是指指標(biāo)變化相對大。b.使用檢測設(shè)備:用EL-C;c.分析判斷方法:用EL-C正偏測試,如果圖象顯示的是中間偏暗,而片子四周顯示的偏亮,反片圖象均勻,偏暗;(這是因為放反的片子四周有PN結(jié),而中間沒有)所以可判定為放反片;2.9合金不共融片測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低、短路電流偏低、串聯(lián)電阻偏大;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變化相對小,異常是指指標(biāo)變化相對大。b.使用檢測設(shè)備:用EL-C;c.分析判斷方法:使用破壞測試,先沿著柵線處斷開,然后用EL-C測試柵線與氮化硅膜接觸面,利用圖象來分析判斷,如果柵線內(nèi)部結(jié)合不緊湊有空洞,接觸面能明顯分離,沒有緊密接觸,可認(rèn)為是燒結(jié)不透;2.10微晶片測試指標(biāo)表現(xiàn)為:開路電壓偏低;串聯(lián)電阻偏大、并聯(lián)電阻偏小、暗電流偏大;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變化相對小,異常是指指標(biāo)變化相對大。b.使用檢測設(shè)備:WT-2000、EL-C;c.分析判斷方法:用EL-C測試電池片,其圖像一般都是在某個局部有一塊地方出現(xiàn)偏暗的,(跟漏電圖像大體相似)但仔細(xì)觀察,里面分布不一樣,如果是微晶片,其圖像四周有一部分出現(xiàn)密集的星點分布狀,而偏暗內(nèi)部就幾乎不出現(xiàn)星點出現(xiàn)。(漏電的則有稀疏的星點);2.11背面絨面拋光效果差測試指標(biāo)表現(xiàn)為:短路電流偏低;2.12正面絨面效果不理想測試指標(biāo)表現(xiàn)為:短路電流偏低;2.13擴散方阻小測試指標(biāo)表現(xiàn)為:短路電流偏低;2.14絲印效果差(高寬比異常、柵線粗細(xì)不均、虛印嚴(yán)重)測試指標(biāo)表現(xiàn)為:短路電流偏低;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變化相對小,異常是指指標(biāo)變化相對大。b.使用檢測設(shè)備:用EL-Cc.分析判斷方法:用EL-C進(jìn)行測試,可以根據(jù)圖像來判定其類型,如果背面圖像的絨面刻粒過大可劃為拋光效果差;如果正面圖像的絨面大小,均勻性等不在我們工藝控制要求內(nèi)的可作為效果不理想;如果看柵線圖像可以判斷印刷質(zhì)量,就可以判斷其絲印效果;對于方阻小的就要進(jìn)行破壞測試,先去除氮化硅膜,然后測試方阻來確定;2.15濕刻過刻測試指標(biāo)表現(xiàn)為:短路電流偏小、串聯(lián)電阻偏大、并聯(lián)電阻偏小、暗電流偏大;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變化相對小,異常是指指標(biāo)變化相對大。b.使用檢測設(shè)備:用EL-C;c.分析判斷方法:用EL-C測試電池片,其正偏圖像剛好跟放反片相反,中間偏亮,而四周偏暗(一般偏暗距離邊緣的尺寸大于2mm);2.16死層去除不干凈測試指標(biāo)表現(xiàn)為:串聯(lián)電阻偏大、短路電流偏低;2.17測試探針接觸不良測試指標(biāo)表現(xiàn)為:串聯(lián)電阻偏大;短路電流偏低;2.18漿料過于干燥測試指標(biāo)表現(xiàn)為:串聯(lián)電阻偏大;短路電流偏低;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變化相對小,異常是指指標(biāo)變化相對大。b.使用檢測設(shè)備:其他設(shè)備(暫時沒有)c.分析判斷方法:根據(jù)我們工藝參數(shù)來測算我們的網(wǎng)版設(shè)計,和現(xiàn)場檢查操作控制有無異常來做判斷;2.19漏漿測試指標(biāo)表現(xiàn)為:并聯(lián)電阻偏小、暗電流偏大;2.20濕刻邊緣沒完全干凈測試指標(biāo)表現(xiàn)為:并聯(lián)電阻偏小、暗電流偏大;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變化相對小,異常是指指標(biāo)變化相對大。b.使用檢測設(shè)備:用冷熱探針或者萬用表c.分析判斷方法:先觀察片子四周有無明顯的漏漿現(xiàn)象,二是用冷熱探針或者萬用表來測試片子四周邊緣,看其是否有異常來判斷;2.21絲印返工片測試指標(biāo)表現(xiàn)為:暗電流偏大;a.備注說明:正常是指指標(biāo)變
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