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文檔簡介

ICS25.220

CCS點(diǎn)擊此處添加CCS號(hào)

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/TXXXXX—XXXX

`

航天功能鍍覆層消雜光鍍層

Spacefunctionalcoatings–Antistraylightplating

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XXXX-XX-XX發(fā)布XXXX-XX-XX實(shí)施

GB/TXXXXX—XXXX

目次

前言..........................................................................III

1范圍................................................................................4

2規(guī)范性引用文件.......................................................................4

3術(shù)語和定義...........................................................................4

4鍍層要求.............................................................................4

4.1外觀.............................................................................4

4.2厚度.............................................................................5

4.3附著強(qiáng)度.........................................................................5

4.4太陽吸收比.......................................................................5

4.5半球反射率.......................................................................5

4.6熱循環(huán)穩(wěn)定性.....................................................................5

4.7熱真空穩(wěn)定性.....................................................................5

4.8真空-紫外輻照....................................................................6

4.9原子氧穩(wěn)定性.....................................................................6

4.10空間粒子輻照....................................................................6

4.11真空揮發(fā)性......................................................................6

5試驗(yàn)方法.............................................................................6

5.1外觀.............................................................................6

5.2厚度.............................................................................6

5.3附著強(qiáng)度.........................................................................6

5.4太陽吸收比.......................................................................6

5.5半球反射率.......................................................................6

5.6熱循環(huán)穩(wěn)定性.....................................................................6

5.7熱真空穩(wěn)定性.....................................................................6

5.8真空-紫外輻照....................................................................6

5.9原子氧穩(wěn)定性.....................................................................6

5.10空間粒子輻照....................................................................7

5.11真空揮發(fā)性......................................................................7

6檢驗(yàn)規(guī)則.............................................................................7

6.1檢驗(yàn)分類.........................................................................7

6.2檢驗(yàn)環(huán)境條件.....................................................................7

6.3檢驗(yàn)儀器及設(shè)備要求...............................................................7

6.4檢驗(yàn)項(xiàng)目.........................................................................7

6.5鑒定檢驗(yàn)........................................................................8

6.6交收檢驗(yàn)........................................................................8

7標(biāo)識(shí)和隨行文件.......................................................................8

7.1標(biāo)識(shí).............................................................................8

7.2隨行文件.........................................................................9

I

GB/TXXXXX—XXXX

8包裝、運(yùn)輸和貯存.....................................................................9

9說明事項(xiàng).............................................................................9

附錄A(規(guī)范性)真空-紫外輻照試驗(yàn)...............................................10

附錄B(規(guī)范性)原子氧試驗(yàn)......................................................11

附錄C(規(guī)范性)空間粒子輻照試驗(yàn)................................................12

II

GB/TXXXXX—XXXX

航天功能鍍覆層消雜光鍍層

1范圍

本文件規(guī)定了航天產(chǎn)品表面消雜光鍍層的基體材料、鍍層性能要求、質(zhì)量控制、檢驗(yàn)、包裝轉(zhuǎn)運(yùn)等

要求。

本文件適用于航天產(chǎn)品上的消雜光鍍層,其他消雜光鍍層可參照?qǐng)?zhí)行。適用的基體材料包括鋁合金、

鎂合金、鈦合金、鋼鐵、銅合金等金屬材料以及鋁基碳化硅等復(fù)合材料。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,

僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本

文件。

GB/T3138金屬鍍覆和化學(xué)處理與有關(guān)過程術(shù)語

GB/T5270-2005金屬基體上的金屬覆蓋層電沉積和化學(xué)沉積層附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法評(píng)述

GB/T6462金屬和氧化物覆蓋層厚度測量顯微鏡法

GB/T10988光學(xué)系統(tǒng)雜(散)光測量方法

GB/T12609電沉積金屬覆蓋層和相關(guān)精飾計(jì)數(shù)檢驗(yàn)抽樣程序

GB/T25968分光光度計(jì)測量材料的太陽透射比和吸收比試驗(yàn)方法

GB/T34517航天器用非金屬材料真空出氣評(píng)價(jià)方法

GB/T34522航天器熱真空試驗(yàn)方法

3術(shù)語和定義

GB/T3138界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。

3.1

消雜光鍍層Antistraylightplating

以電鍍或化學(xué)鍍、真空鍍的方式在金屬、非金屬或復(fù)合基材上鍍覆的具有消雜光功能的黑色鍍層。

3.2

半球反射率Hemispherereflectance

物體在太陽輻射的影響下,反射輻射通量與入射輻射通量的比值。計(jì)算時(shí)等于雙向反射分布函數(shù)

(BRDF)在空間上所有可查看方向上的積分,用以體現(xiàn)消雜光材料在空間分布上的雜散光吸收能力。

4鍍層要求

4.1外觀

4.1.1顏色

鍍層呈黑色,連續(xù)均勻。

4

GB/TXXXXX—XXXX

4.1.2允許缺陷

鍍層允許缺陷為:

a)表面粗糙度、材料及其狀態(tài)等不同,有不同的色澤。

b)非重要面上輕微的夾具接觸痕跡。

c)由材料缺陷及加工方法引起的鍍層缺陷。

d)邊角與深凹處鍍層顏色有差異。

e)直徑小于或等于6mm,其深度大于1倍孔徑的盲孔內(nèi)表面無鍍層、深度大于或等于2倍孔徑

的通孔(槽)內(nèi)表面無鍍層。

f)有局部鍍的情況下,允許鍍覆邊界向非鍍覆區(qū)域偏移≤2mm。

4.1.3不允許缺陷

鍍層不允許缺陷為:

a)重要面上局部無鍍層。

b)嚴(yán)重水跡。

c)鍍層有燒傷及裂紋。

d)基體過腐蝕。

4.2厚度

鍍層厚度要求見表1。

表1消雜光鍍層厚度

序號(hào)工況厚度備注

1全光譜一般光學(xué)環(huán)境2~5μm

2全光譜特定光學(xué)環(huán)境7~15μm

4.3附著強(qiáng)度

經(jīng)附著強(qiáng)度試驗(yàn)后,鍍層不起泡、脫落。

4.4太陽吸收比

鍍層的太陽吸收比要求見表2。

表2消雜光鍍層厚度

序號(hào)工況吸收比備注

1全光譜一般光學(xué)環(huán)境太陽吸收比αs≥0.90

2全光譜特定光學(xué)環(huán)境太陽吸收比αs>0.95

4.5半球反射率

鍍層的半球反射率≤0.10。

4.6熱循環(huán)穩(wěn)定性

經(jīng)過熱循環(huán)試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.7熱真空穩(wěn)定性

5

GB/TXXXXX—XXXX

經(jīng)過熱真空試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.8真空-紫外輻照

經(jīng)過真空-紫外輻照試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.9原子氧穩(wěn)定性

經(jīng)過原子氧試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.10空間粒子輻照

經(jīng)過空間粒子輻照試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.11真空揮發(fā)性

總質(zhì)量損失(TML)≤0.1%,可凝揮發(fā)物(CVCM)≤0.05%。

5試驗(yàn)方法

5.1外觀

用目視法進(jìn)行檢查,在照度不小于300lx條件下,工件與眼睛的距離約為350mm,必要時(shí)可使用5-10

倍的放大鏡檢驗(yàn)。

5.2厚度

按GB/T6462的規(guī)定,對(duì)隨槽試片在顯微鏡下進(jìn)行厚度檢測。

5.3附著強(qiáng)度

按GB/T5270中的劃格法或熱震法進(jìn)行。

5.4太陽吸收比

按GB/T25968的規(guī)定進(jìn)行。

5.5半球反射率

按GB/T10988的規(guī)定進(jìn)行。

5.6熱循環(huán)穩(wěn)定性

在-196℃±5℃~+100℃±5℃的100次熱循環(huán)試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。其中-196℃±5℃

采用液氮,+100℃±5℃采用鼓風(fēng)干燥箱。高溫和低溫的保溫時(shí)間不少于2min。

5.7熱真空穩(wěn)定性

在GB/T34522真空熱循環(huán)試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

5.8真空-紫外輻照

按照附錄A進(jìn)行真空-紫外輻照試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

5.9原子氧穩(wěn)定性

6

GB/TXXXXX—XXXX

按照附錄B進(jìn)行原子氧試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

5.10空間粒子輻照

按照附錄C進(jìn)行真空-電子、真空質(zhì)子輻照試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

5.11真空揮發(fā)性

按照GB/T34517進(jìn)行真空揮發(fā)性試驗(yàn)后,并計(jì)算總質(zhì)量損失(TML)和可凝揮發(fā)物(CVCM)。

6檢驗(yàn)規(guī)則

6.1檢驗(yàn)分類

本規(guī)范規(guī)定的檢驗(yàn)為鑒定檢驗(yàn)和交收檢驗(yàn)。

6.2檢驗(yàn)環(huán)境條件

a)各檢驗(yàn)應(yīng)在下列環(huán)境條件下進(jìn)行:

b)溫度:15℃~35℃。

c)相對(duì)濕度:不大于90%。

d)氣壓:在當(dāng)?shù)貙?shí)驗(yàn)室大氣壓。

e)照度:≥300lx。

6.3檢驗(yàn)儀器及設(shè)備要求

檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備應(yīng)滿足如下要求:

a)檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備應(yīng)經(jīng)計(jì)量部門檢驗(yàn)合格,并在有效期內(nèi)。

b)檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備的量程和精度應(yīng)滿足產(chǎn)品檢驗(yàn)要求。

6.4檢驗(yàn)項(xiàng)目

檢驗(yàn)項(xiàng)目應(yīng)符合表3的規(guī)定,檢驗(yàn)的要求和檢驗(yàn)方法符合對(duì)應(yīng)的章條號(hào)。

表3檢驗(yàn)項(xiàng)目表

序號(hào)檢驗(yàn)項(xiàng)目鑒定檢驗(yàn)交收檢驗(yàn)要求檢驗(yàn)方法

1外觀●●4.15.1

2厚度●○4.25.2

3附著強(qiáng)度●-4.35.3

4太陽吸收比●●4.45.4

5半球反射率●○4.55.5

6熱循環(huán)穩(wěn)定性●-4.65.6

7熱真空穩(wěn)定性●-4.75.7

8真空-紫外輻照●-4.85.8

9原子氧穩(wěn)定性●-4.95.9

7

GB/TXXXXX—XXXX

10空間粒子輻照●-4.105.10

11真空揮發(fā)性●-4.115.11

注:●為必檢項(xiàng)目;○為可選項(xiàng)目(供需雙方協(xié)商);-為不檢項(xiàng)目。

6.5鑒定檢驗(yàn)

6.5.1檢驗(yàn)時(shí)機(jī)

有下列情況之一時(shí),應(yīng)進(jìn)行鑒定檢驗(yàn):

a)新研工藝或新建生產(chǎn)線初次使用前;

b)原材料、溶液配方或工藝流程發(fā)生重大改變時(shí);

c)產(chǎn)品應(yīng)用環(huán)境有重大改變時(shí);

d)停產(chǎn)超過兩年再重新生產(chǎn)時(shí)。

6.5.2檢驗(yàn)數(shù)量

鑒定檢驗(yàn)受檢樣品數(shù)應(yīng)不少于5件,其中外觀采用工件模擬件檢驗(yàn),其余項(xiàng)目采用試片檢驗(yàn)。試片

的尺寸為40mm×40mm×(1~2)mm。

6.5.3合格判據(jù)

檢驗(yàn)項(xiàng)目全部符合要求,則判定鑒定檢驗(yàn)合格。

檢驗(yàn)項(xiàng)目不符合要求,則判定該項(xiàng)目鑒定檢驗(yàn)不合格。

6.6交收檢驗(yàn)

6.6.1檢驗(yàn)時(shí)機(jī)

產(chǎn)品交付時(shí),應(yīng)進(jìn)行交收檢驗(yàn)。

6.6.2檢驗(yàn)數(shù)量

取樣要求如下:

a)工件應(yīng)100%進(jìn)行外觀檢驗(yàn);

b)太陽吸收比、厚度、半球反射率采用同槽試片檢驗(yàn),數(shù)量應(yīng)為5件,尺寸為40mm×40mm×(1~

2)mm。

c)其余檢測項(xiàng)目的取樣方案按GB/T12609中的規(guī)定選取。

6.6.3合格判據(jù)

合格判據(jù)如下:

a)檢驗(yàn)項(xiàng)目全部符合要求,則判定該批工件合格;

b)檢驗(yàn)項(xiàng)目中若外觀不符合要求,則判定該件工件不合格;

c)檢驗(yàn)項(xiàng)目中若厚度、太陽吸收比、半球反射率不符合要求,則判定該槽工件不合格。

7標(biāo)識(shí)和隨行文件

7.1標(biāo)識(shí)

工件接收有標(biāo)識(shí)且要求恢復(fù)標(biāo)識(shí)的,在完成鍍覆后恢復(fù)產(chǎn)品標(biāo)識(shí),同時(shí)注意避免標(biāo)識(shí)對(duì)鍍層造成劃

8

GB/TXXXXX—XXXX

傷、磕傷等。

7.2隨行文件

每批產(chǎn)品應(yīng)附有隨行文件,主要包括:

a)合格證。

b)裝箱單。

c)試驗(yàn)報(bào)告。

d)其他隨行文件。

8包裝、運(yùn)輸和貯存

8.1包裝

鍍覆后,工件采用干凈、無污染綿紙進(jìn)行包裝,必要時(shí)采用氣墊膜進(jìn)行二次包裝,然后放入包裝箱

中。

8.2運(yùn)輸

在工件轉(zhuǎn)運(yùn)時(shí),應(yīng)避免工件發(fā)生碰傷、劃傷和受潮,保證包裝箱無破損。

8.3貯存

鍍覆后的工件禁止裸露在大氣中,包裝好的工件應(yīng)貯存在清潔、干燥的容器中(如玻璃皿),放置鍍后

工件的庫房應(yīng)遠(yuǎn)離含腐蝕性介質(zhì)的大氣環(huán)境。避免將工件放置在具有粉塵等顆粒物的環(huán)境中。

9說明事項(xiàng)

后續(xù)使用過程中,應(yīng)避免將工件放置在具有粉塵等顆粒物的環(huán)境中,避免將帶有鍍層的工件放入劇

烈的超聲波環(huán)境中振蕩,避免用尖銳的金屬制品刺、劃工件表面,以免損傷鍍層。

9

GB/TXXXXX—XXXX

附錄A

(規(guī)范性)

真空-紫外輻照試驗(yàn)

A.1儀器設(shè)備

A.1.1空間粒子輻照試驗(yàn)設(shè)備應(yīng)有真空室,能達(dá)到的真空度不高于1.3×10-3Pa。

A.1.2真空室無油污污染。

A.1.3原子氧通量密度偏差不超過±10%。

A.2試驗(yàn)條件

A.2.1試驗(yàn)時(shí)真空室壓力應(yīng)不高于1.3×10-3Pa。

A.2.2近紫外波長范圍為200nm~400nm,加速因子一般不大于5,輻照度為118W/m2~590W/m2,輻照不均

勻度不超過±15%。

A.2.3遠(yuǎn)紫外波長范圍為10nm~200nm,加速因子一般不大于100,輻照度為0.1W/m2~10W/m2,輻照不均

勻度不超過±20%。

A.2.4總輻照劑量一般應(yīng)≥5000ESH等效太陽時(shí)。

A.3試驗(yàn)程序

A.3.1檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

A.3.2將試片放入試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)部。

A.3.3當(dāng)達(dá)到規(guī)定的輻照劑量后,取出試片。

A.3.4檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

10

GB/TXXXXX—XXXX

附錄B

(規(guī)范性)

原子氧試驗(yàn)

B.1儀器設(shè)備

B.1.1空間粒子輻照試驗(yàn)設(shè)備應(yīng)有真空室,能達(dá)到的真空度不高于1.3×10-3Pa。

B.1.2真空室無油污污染。

B.1.3原子氧通量密度偏差不超過±10%。

B.2試驗(yàn)條件

B.2.1試驗(yàn)時(shí)真空室壓力應(yīng)不高于1.3×10-3Pa。

B.2.2原子氧通量密度一般≥1×1014Atoms/(cm2s)。

B.2.3試驗(yàn)時(shí)原子氧動(dòng)能為5eV±0.75eV。

B.2.4總劑量一般≥1×1020Atoms/cm2。

B.3試驗(yàn)程序

B.3.1檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

B.3.2將試片放入試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)部。

B.3.3當(dāng)達(dá)到規(guī)定的劑量后,取出試片。

B.3.4檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

11

GB/TXXXXX—XXXX

附錄C

(規(guī)范性)

空間粒子輻照試驗(yàn)

C.1儀器設(shè)備

C.1.1空間粒子輻照試驗(yàn)設(shè)備應(yīng)有真空室,能達(dá)到的真空度不高于1.3×10-3Pa。

C.1.2空間粒子輻照試驗(yàn)設(shè)備的輻照電子能量涵蓋試驗(yàn)條件。

C.1.3空間粒子輻照偏差不超過±10%。

C.2試驗(yàn)條件

C.2.1試驗(yàn)時(shí)真空室壓力應(yīng)不高于1.3×10-3Pa。

C.2.2真空-電子輻照:總劑量一般≥1×1015e/cm2。電子能量根據(jù)鍍層特性選取10keV~60keV、

60keV~180keV、180keV~1MeV這三種中的一種。加速因子一般不超過500。

C.2.3真空-質(zhì)子輻照:總劑量一般≥1×1014p/cm2。質(zhì)子能量根據(jù)鍍層特性選取10keV~60keV、

60keV~180keV、180keV~6.8MeV這三種中的一種。加速因子一般不超過500。

C.3試驗(yàn)程序

C.3.1檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

C.3.2將試片放入試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)部。

C.3.3當(dāng)達(dá)到規(guī)定的輻照劑量后,取出試片。

C.3.4檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

12

GB/TXXXXX—XXXX

前言

本文件附錄A、B、C為規(guī)范性附錄。

本文件按照GB/T1.1-2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)

定起草。

本文件由全國宇航技術(shù)及其應(yīng)用標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC425)提出并歸口。

本文件起草單位:北京衛(wèi)星制造廠有限公司、中國航天標(biāo)準(zhǔn)化研究所、北京空間機(jī)電研究所、上海

航天控制技術(shù)研究所、上海航天設(shè)備制造總廠有限公司、中科院硅酸鹽研究所、航天材料與工藝研究所、

西安航天發(fā)動(dòng)機(jī)廠、中科院長春光機(jī)所、北京星馳恒動(dòng)科技發(fā)展有限公司。

本文件主要起草人:XXX。

III

GB/TXXXXX—XXXX

航天功能鍍覆層消雜光鍍層

1范圍

本文件規(guī)定了航天產(chǎn)品表面消雜光鍍層的基體材料、鍍層性能要求、質(zhì)量控制、檢驗(yàn)、包裝轉(zhuǎn)運(yùn)等

要求。

本文件適用于航天產(chǎn)品上的消雜光鍍層,其他消雜光鍍層可參照?qǐng)?zhí)行。適用的基體材料包括鋁合金、

鎂合金、鈦合金、鋼鐵、銅合金等金屬材料以及鋁基碳化硅等復(fù)合材料。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,

僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本

文件。

GB/T3138金屬鍍覆和化學(xué)處理與有關(guān)過程術(shù)語

GB/T5270-2005金屬基體上的金屬覆蓋層電沉積和化學(xué)沉積層附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法評(píng)述

GB/T6462金屬和氧化物覆蓋層厚度測量顯微鏡法

GB/T10988光學(xué)系統(tǒng)雜(散)光測量方法

GB/T12609電沉積金屬覆蓋層和相關(guān)精飾計(jì)數(shù)檢驗(yàn)抽樣程序

GB/T25968分光光度計(jì)測量材料的太陽透射比和吸收比試驗(yàn)方法

GB/T34517航天器用非金屬材料真空出氣評(píng)價(jià)方法

GB/T34522航天器熱真空試驗(yàn)方法

3術(shù)語和定義

GB/T3138界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。

3.1

消雜光鍍層Antistraylightplating

以電鍍或化學(xué)鍍、真空鍍的方式在金屬、非金屬或復(fù)合基材上鍍覆的具有消雜光功能的黑色鍍層。

3.2

半球反射率Hemispherereflectance

物體在太陽輻射的影響下,反射輻射通量與入射輻射通量的比值。計(jì)算時(shí)等于雙向反射分布函數(shù)

(BRDF)在空間上所有可查看方向上的積分,用以體現(xiàn)消雜光材料在空間分布上的雜散光吸收能力。

4鍍層要求

4.1外觀

4.1.1顏色

鍍層呈黑色,連續(xù)均勻。

4

GB/TXXXXX—XXXX

4.1.2允許缺陷

鍍層允許缺陷為:

a)表面粗糙度、材料及其狀態(tài)等不同,有不同的色澤。

b)非重要面上輕微的夾具接觸痕跡。

c)由材料缺陷及加工方法引起的鍍層缺陷。

d)邊角與深凹處鍍層顏色有差異。

e)直徑小于或等于6mm,其深度大于1倍孔徑的盲孔內(nèi)表面無鍍層、深度大于或等于2倍孔徑

的通孔(槽)內(nèi)表面無鍍層。

f)有局部鍍的情況下,允許鍍覆邊界向非鍍覆區(qū)域偏移≤2mm。

4.1.3不允許缺陷

鍍層不允許缺陷為:

a)重要面上局部無鍍層。

b)嚴(yán)重水跡。

c)鍍層有燒傷及裂紋。

d)基體過腐蝕。

4.2厚度

鍍層厚度要求見表1。

表1消雜光鍍層厚度

序號(hào)工況厚度備注

1全光譜一般光學(xué)環(huán)境2~5μm

2全光譜特定光學(xué)環(huán)境7~15μm

4.3附著強(qiáng)度

經(jīng)附著強(qiáng)度試驗(yàn)后,鍍層不起泡、脫落。

4.4太陽吸收比

鍍層的太陽吸收比要求見表2。

表2消雜光鍍層厚度

序號(hào)工況吸收比備注

1全光譜一般光學(xué)環(huán)境太陽吸收比αs≥0.90

2全光譜特定光學(xué)環(huán)境太陽吸收比αs>0.95

4.5半球反射率

鍍層的半球反射率≤0.10。

4.6熱循環(huán)穩(wěn)定性

經(jīng)過熱循環(huán)試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.7熱真空穩(wěn)定性

5

GB/TXXXXX—XXXX

經(jīng)過熱真空試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.8真空-紫外輻照

經(jīng)過真空-紫外輻照試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.9原子氧穩(wěn)定性

經(jīng)過原子氧試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.10空間粒子輻照

經(jīng)過空間粒子輻照試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。

4.11真空揮發(fā)性

總質(zhì)量損失(TML)≤0.1%,可凝揮發(fā)物(CVCM)≤0.05%。

5試驗(yàn)方法

5.1外觀

用目視法進(jìn)行檢查,在照度不小于300lx條件下,工件與眼睛的距離約為350mm,必要時(shí)可使用5-10

倍的放大鏡檢驗(yàn)。

5.2厚度

按GB/T6462的規(guī)定,對(duì)隨槽試片在顯微鏡下進(jìn)行厚度檢測。

5.3附著強(qiáng)度

按GB/T5270中的劃格法或熱震法進(jìn)行。

5.4太陽吸收比

按GB/T25968的規(guī)定進(jìn)行。

5.5半球反射率

按GB/T10988的規(guī)定進(jìn)行。

5.6熱循環(huán)穩(wěn)定性

在-196℃±5℃~+100℃±5℃的100次熱循環(huán)試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。其中-196℃±5℃

采用液氮,+100℃±5℃采用鼓風(fēng)干燥箱。高溫和低溫的保溫時(shí)間不少于2min。

5.7熱真空穩(wěn)定性

在GB/T34522真空熱循環(huán)試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

5.8真空-紫外輻照

按照附錄A進(jìn)行真空-紫外輻照試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

5.9原子氧穩(wěn)定性

6

GB/TXXXXX—XXXX

按照附錄B進(jìn)行原子氧試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

5.10空間粒子輻照

按照附錄C進(jìn)行真空-電子、真空質(zhì)子輻照試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。

5.11真空揮發(fā)性

按照GB/T34517進(jìn)行真空揮發(fā)性試驗(yàn)后,并計(jì)算總質(zhì)量損失(TML)和可凝揮發(fā)物(CVCM)。

6檢驗(yàn)規(guī)則

6.1檢驗(yàn)分類

本規(guī)范規(guī)定的檢驗(yàn)為鑒定檢驗(yàn)和交收檢驗(yàn)。

6.2檢驗(yàn)環(huán)境條件

a)各檢驗(yàn)應(yīng)在下列環(huán)境條件下進(jìn)行:

b)溫度:15℃~35℃。

c)相對(duì)濕度:不大于90%。

d)氣壓:在當(dāng)?shù)貙?shí)驗(yàn)室大氣壓。

e)照度:≥300lx。

6.3檢驗(yàn)儀器及設(shè)備要求

檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備應(yīng)滿足如下要求:

a)檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備應(yīng)經(jīng)計(jì)量部門檢驗(yàn)合格,并在有效期內(nèi)。

b)檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備的量程和精度應(yīng)滿足產(chǎn)品檢驗(yàn)要求。

6.4檢驗(yàn)項(xiàng)目

檢驗(yàn)項(xiàng)目應(yīng)符合表3的規(guī)定,檢驗(yàn)的要求和檢驗(yàn)方法符合

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