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ICS25.220
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中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
GB/TXXXXX—XXXX
`
航天功能鍍覆層消雜光鍍層
Spacefunctionalcoatings–Antistraylightplating
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XXXX-XX-XX發(fā)布XXXX-XX-XX實(shí)施
GB/TXXXXX—XXXX
目次
前言..........................................................................III
1范圍................................................................................4
2規(guī)范性引用文件.......................................................................4
3術(shù)語和定義...........................................................................4
4鍍層要求.............................................................................4
4.1外觀.............................................................................4
4.2厚度.............................................................................5
4.3附著強(qiáng)度.........................................................................5
4.4太陽吸收比.......................................................................5
4.5半球反射率.......................................................................5
4.6熱循環(huán)穩(wěn)定性.....................................................................5
4.7熱真空穩(wěn)定性.....................................................................5
4.8真空-紫外輻照....................................................................6
4.9原子氧穩(wěn)定性.....................................................................6
4.10空間粒子輻照....................................................................6
4.11真空揮發(fā)性......................................................................6
5試驗(yàn)方法.............................................................................6
5.1外觀.............................................................................6
5.2厚度.............................................................................6
5.3附著強(qiáng)度.........................................................................6
5.4太陽吸收比.......................................................................6
5.5半球反射率.......................................................................6
5.6熱循環(huán)穩(wěn)定性.....................................................................6
5.7熱真空穩(wěn)定性.....................................................................6
5.8真空-紫外輻照....................................................................6
5.9原子氧穩(wěn)定性.....................................................................6
5.10空間粒子輻照....................................................................7
5.11真空揮發(fā)性......................................................................7
6檢驗(yàn)規(guī)則.............................................................................7
6.1檢驗(yàn)分類.........................................................................7
6.2檢驗(yàn)環(huán)境條件.....................................................................7
6.3檢驗(yàn)儀器及設(shè)備要求...............................................................7
6.4檢驗(yàn)項(xiàng)目.........................................................................7
6.5鑒定檢驗(yàn)........................................................................8
6.6交收檢驗(yàn)........................................................................8
7標(biāo)識(shí)和隨行文件.......................................................................8
7.1標(biāo)識(shí).............................................................................8
7.2隨行文件.........................................................................9
I
GB/TXXXXX—XXXX
8包裝、運(yùn)輸和貯存.....................................................................9
9說明事項(xiàng).............................................................................9
附錄A(規(guī)范性)真空-紫外輻照試驗(yàn)...............................................10
附錄B(規(guī)范性)原子氧試驗(yàn)......................................................11
附錄C(規(guī)范性)空間粒子輻照試驗(yàn)................................................12
II
GB/TXXXXX—XXXX
航天功能鍍覆層消雜光鍍層
1范圍
本文件規(guī)定了航天產(chǎn)品表面消雜光鍍層的基體材料、鍍層性能要求、質(zhì)量控制、檢驗(yàn)、包裝轉(zhuǎn)運(yùn)等
要求。
本文件適用于航天產(chǎn)品上的消雜光鍍層,其他消雜光鍍層可參照?qǐng)?zhí)行。適用的基體材料包括鋁合金、
鎂合金、鈦合金、鋼鐵、銅合金等金屬材料以及鋁基碳化硅等復(fù)合材料。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,
僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本
文件。
GB/T3138金屬鍍覆和化學(xué)處理與有關(guān)過程術(shù)語
GB/T5270-2005金屬基體上的金屬覆蓋層電沉積和化學(xué)沉積層附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法評(píng)述
GB/T6462金屬和氧化物覆蓋層厚度測量顯微鏡法
GB/T10988光學(xué)系統(tǒng)雜(散)光測量方法
GB/T12609電沉積金屬覆蓋層和相關(guān)精飾計(jì)數(shù)檢驗(yàn)抽樣程序
GB/T25968分光光度計(jì)測量材料的太陽透射比和吸收比試驗(yàn)方法
GB/T34517航天器用非金屬材料真空出氣評(píng)價(jià)方法
GB/T34522航天器熱真空試驗(yàn)方法
3術(shù)語和定義
GB/T3138界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。
3.1
消雜光鍍層Antistraylightplating
以電鍍或化學(xué)鍍、真空鍍的方式在金屬、非金屬或復(fù)合基材上鍍覆的具有消雜光功能的黑色鍍層。
3.2
半球反射率Hemispherereflectance
物體在太陽輻射的影響下,反射輻射通量與入射輻射通量的比值。計(jì)算時(shí)等于雙向反射分布函數(shù)
(BRDF)在空間上所有可查看方向上的積分,用以體現(xiàn)消雜光材料在空間分布上的雜散光吸收能力。
4鍍層要求
4.1外觀
4.1.1顏色
鍍層呈黑色,連續(xù)均勻。
4
GB/TXXXXX—XXXX
4.1.2允許缺陷
鍍層允許缺陷為:
a)表面粗糙度、材料及其狀態(tài)等不同,有不同的色澤。
b)非重要面上輕微的夾具接觸痕跡。
c)由材料缺陷及加工方法引起的鍍層缺陷。
d)邊角與深凹處鍍層顏色有差異。
e)直徑小于或等于6mm,其深度大于1倍孔徑的盲孔內(nèi)表面無鍍層、深度大于或等于2倍孔徑
的通孔(槽)內(nèi)表面無鍍層。
f)有局部鍍的情況下,允許鍍覆邊界向非鍍覆區(qū)域偏移≤2mm。
4.1.3不允許缺陷
鍍層不允許缺陷為:
a)重要面上局部無鍍層。
b)嚴(yán)重水跡。
c)鍍層有燒傷及裂紋。
d)基體過腐蝕。
4.2厚度
鍍層厚度要求見表1。
表1消雜光鍍層厚度
序號(hào)工況厚度備注
1全光譜一般光學(xué)環(huán)境2~5μm
2全光譜特定光學(xué)環(huán)境7~15μm
4.3附著強(qiáng)度
經(jīng)附著強(qiáng)度試驗(yàn)后,鍍層不起泡、脫落。
4.4太陽吸收比
鍍層的太陽吸收比要求見表2。
表2消雜光鍍層厚度
序號(hào)工況吸收比備注
1全光譜一般光學(xué)環(huán)境太陽吸收比αs≥0.90
2全光譜特定光學(xué)環(huán)境太陽吸收比αs>0.95
4.5半球反射率
鍍層的半球反射率≤0.10。
4.6熱循環(huán)穩(wěn)定性
經(jīng)過熱循環(huán)試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.7熱真空穩(wěn)定性
5
GB/TXXXXX—XXXX
經(jīng)過熱真空試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.8真空-紫外輻照
經(jīng)過真空-紫外輻照試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.9原子氧穩(wěn)定性
經(jīng)過原子氧試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.10空間粒子輻照
經(jīng)過空間粒子輻照試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.11真空揮發(fā)性
總質(zhì)量損失(TML)≤0.1%,可凝揮發(fā)物(CVCM)≤0.05%。
5試驗(yàn)方法
5.1外觀
用目視法進(jìn)行檢查,在照度不小于300lx條件下,工件與眼睛的距離約為350mm,必要時(shí)可使用5-10
倍的放大鏡檢驗(yàn)。
5.2厚度
按GB/T6462的規(guī)定,對(duì)隨槽試片在顯微鏡下進(jìn)行厚度檢測。
5.3附著強(qiáng)度
按GB/T5270中的劃格法或熱震法進(jìn)行。
5.4太陽吸收比
按GB/T25968的規(guī)定進(jìn)行。
5.5半球反射率
按GB/T10988的規(guī)定進(jìn)行。
5.6熱循環(huán)穩(wěn)定性
在-196℃±5℃~+100℃±5℃的100次熱循環(huán)試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。其中-196℃±5℃
采用液氮,+100℃±5℃采用鼓風(fēng)干燥箱。高溫和低溫的保溫時(shí)間不少于2min。
5.7熱真空穩(wěn)定性
在GB/T34522真空熱循環(huán)試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
5.8真空-紫外輻照
按照附錄A進(jìn)行真空-紫外輻照試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
5.9原子氧穩(wěn)定性
6
GB/TXXXXX—XXXX
按照附錄B進(jìn)行原子氧試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
5.10空間粒子輻照
按照附錄C進(jìn)行真空-電子、真空質(zhì)子輻照試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
5.11真空揮發(fā)性
按照GB/T34517進(jìn)行真空揮發(fā)性試驗(yàn)后,并計(jì)算總質(zhì)量損失(TML)和可凝揮發(fā)物(CVCM)。
6檢驗(yàn)規(guī)則
6.1檢驗(yàn)分類
本規(guī)范規(guī)定的檢驗(yàn)為鑒定檢驗(yàn)和交收檢驗(yàn)。
6.2檢驗(yàn)環(huán)境條件
a)各檢驗(yàn)應(yīng)在下列環(huán)境條件下進(jìn)行:
b)溫度:15℃~35℃。
c)相對(duì)濕度:不大于90%。
d)氣壓:在當(dāng)?shù)貙?shí)驗(yàn)室大氣壓。
e)照度:≥300lx。
6.3檢驗(yàn)儀器及設(shè)備要求
檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備應(yīng)滿足如下要求:
a)檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備應(yīng)經(jīng)計(jì)量部門檢驗(yàn)合格,并在有效期內(nèi)。
b)檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備的量程和精度應(yīng)滿足產(chǎn)品檢驗(yàn)要求。
6.4檢驗(yàn)項(xiàng)目
檢驗(yàn)項(xiàng)目應(yīng)符合表3的規(guī)定,檢驗(yàn)的要求和檢驗(yàn)方法符合對(duì)應(yīng)的章條號(hào)。
表3檢驗(yàn)項(xiàng)目表
序號(hào)檢驗(yàn)項(xiàng)目鑒定檢驗(yàn)交收檢驗(yàn)要求檢驗(yàn)方法
1外觀●●4.15.1
2厚度●○4.25.2
3附著強(qiáng)度●-4.35.3
4太陽吸收比●●4.45.4
5半球反射率●○4.55.5
6熱循環(huán)穩(wěn)定性●-4.65.6
7熱真空穩(wěn)定性●-4.75.7
8真空-紫外輻照●-4.85.8
9原子氧穩(wěn)定性●-4.95.9
7
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10空間粒子輻照●-4.105.10
11真空揮發(fā)性●-4.115.11
注:●為必檢項(xiàng)目;○為可選項(xiàng)目(供需雙方協(xié)商);-為不檢項(xiàng)目。
6.5鑒定檢驗(yàn)
6.5.1檢驗(yàn)時(shí)機(jī)
有下列情況之一時(shí),應(yīng)進(jìn)行鑒定檢驗(yàn):
a)新研工藝或新建生產(chǎn)線初次使用前;
b)原材料、溶液配方或工藝流程發(fā)生重大改變時(shí);
c)產(chǎn)品應(yīng)用環(huán)境有重大改變時(shí);
d)停產(chǎn)超過兩年再重新生產(chǎn)時(shí)。
6.5.2檢驗(yàn)數(shù)量
鑒定檢驗(yàn)受檢樣品數(shù)應(yīng)不少于5件,其中外觀采用工件模擬件檢驗(yàn),其余項(xiàng)目采用試片檢驗(yàn)。試片
的尺寸為40mm×40mm×(1~2)mm。
6.5.3合格判據(jù)
檢驗(yàn)項(xiàng)目全部符合要求,則判定鑒定檢驗(yàn)合格。
檢驗(yàn)項(xiàng)目不符合要求,則判定該項(xiàng)目鑒定檢驗(yàn)不合格。
6.6交收檢驗(yàn)
6.6.1檢驗(yàn)時(shí)機(jī)
產(chǎn)品交付時(shí),應(yīng)進(jìn)行交收檢驗(yàn)。
6.6.2檢驗(yàn)數(shù)量
取樣要求如下:
a)工件應(yīng)100%進(jìn)行外觀檢驗(yàn);
b)太陽吸收比、厚度、半球反射率采用同槽試片檢驗(yàn),數(shù)量應(yīng)為5件,尺寸為40mm×40mm×(1~
2)mm。
c)其余檢測項(xiàng)目的取樣方案按GB/T12609中的規(guī)定選取。
6.6.3合格判據(jù)
合格判據(jù)如下:
a)檢驗(yàn)項(xiàng)目全部符合要求,則判定該批工件合格;
b)檢驗(yàn)項(xiàng)目中若外觀不符合要求,則判定該件工件不合格;
c)檢驗(yàn)項(xiàng)目中若厚度、太陽吸收比、半球反射率不符合要求,則判定該槽工件不合格。
7標(biāo)識(shí)和隨行文件
7.1標(biāo)識(shí)
工件接收有標(biāo)識(shí)且要求恢復(fù)標(biāo)識(shí)的,在完成鍍覆后恢復(fù)產(chǎn)品標(biāo)識(shí),同時(shí)注意避免標(biāo)識(shí)對(duì)鍍層造成劃
8
GB/TXXXXX—XXXX
傷、磕傷等。
7.2隨行文件
每批產(chǎn)品應(yīng)附有隨行文件,主要包括:
a)合格證。
b)裝箱單。
c)試驗(yàn)報(bào)告。
d)其他隨行文件。
8包裝、運(yùn)輸和貯存
8.1包裝
鍍覆后,工件采用干凈、無污染綿紙進(jìn)行包裝,必要時(shí)采用氣墊膜進(jìn)行二次包裝,然后放入包裝箱
中。
8.2運(yùn)輸
在工件轉(zhuǎn)運(yùn)時(shí),應(yīng)避免工件發(fā)生碰傷、劃傷和受潮,保證包裝箱無破損。
8.3貯存
鍍覆后的工件禁止裸露在大氣中,包裝好的工件應(yīng)貯存在清潔、干燥的容器中(如玻璃皿),放置鍍后
工件的庫房應(yīng)遠(yuǎn)離含腐蝕性介質(zhì)的大氣環(huán)境。避免將工件放置在具有粉塵等顆粒物的環(huán)境中。
9說明事項(xiàng)
后續(xù)使用過程中,應(yīng)避免將工件放置在具有粉塵等顆粒物的環(huán)境中,避免將帶有鍍層的工件放入劇
烈的超聲波環(huán)境中振蕩,避免用尖銳的金屬制品刺、劃工件表面,以免損傷鍍層。
9
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附錄A
(規(guī)范性)
真空-紫外輻照試驗(yàn)
A.1儀器設(shè)備
A.1.1空間粒子輻照試驗(yàn)設(shè)備應(yīng)有真空室,能達(dá)到的真空度不高于1.3×10-3Pa。
A.1.2真空室無油污污染。
A.1.3原子氧通量密度偏差不超過±10%。
A.2試驗(yàn)條件
A.2.1試驗(yàn)時(shí)真空室壓力應(yīng)不高于1.3×10-3Pa。
A.2.2近紫外波長范圍為200nm~400nm,加速因子一般不大于5,輻照度為118W/m2~590W/m2,輻照不均
勻度不超過±15%。
A.2.3遠(yuǎn)紫外波長范圍為10nm~200nm,加速因子一般不大于100,輻照度為0.1W/m2~10W/m2,輻照不均
勻度不超過±20%。
A.2.4總輻照劑量一般應(yīng)≥5000ESH等效太陽時(shí)。
A.3試驗(yàn)程序
A.3.1檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
A.3.2將試片放入試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)部。
A.3.3當(dāng)達(dá)到規(guī)定的輻照劑量后,取出試片。
A.3.4檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
10
GB/TXXXXX—XXXX
附錄B
(規(guī)范性)
原子氧試驗(yàn)
B.1儀器設(shè)備
B.1.1空間粒子輻照試驗(yàn)設(shè)備應(yīng)有真空室,能達(dá)到的真空度不高于1.3×10-3Pa。
B.1.2真空室無油污污染。
B.1.3原子氧通量密度偏差不超過±10%。
B.2試驗(yàn)條件
B.2.1試驗(yàn)時(shí)真空室壓力應(yīng)不高于1.3×10-3Pa。
B.2.2原子氧通量密度一般≥1×1014Atoms/(cm2s)。
B.2.3試驗(yàn)時(shí)原子氧動(dòng)能為5eV±0.75eV。
B.2.4總劑量一般≥1×1020Atoms/cm2。
B.3試驗(yàn)程序
B.3.1檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
B.3.2將試片放入試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)部。
B.3.3當(dāng)達(dá)到規(guī)定的劑量后,取出試片。
B.3.4檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
11
GB/TXXXXX—XXXX
附錄C
(規(guī)范性)
空間粒子輻照試驗(yàn)
C.1儀器設(shè)備
C.1.1空間粒子輻照試驗(yàn)設(shè)備應(yīng)有真空室,能達(dá)到的真空度不高于1.3×10-3Pa。
C.1.2空間粒子輻照試驗(yàn)設(shè)備的輻照電子能量涵蓋試驗(yàn)條件。
C.1.3空間粒子輻照偏差不超過±10%。
C.2試驗(yàn)條件
C.2.1試驗(yàn)時(shí)真空室壓力應(yīng)不高于1.3×10-3Pa。
C.2.2真空-電子輻照:總劑量一般≥1×1015e/cm2。電子能量根據(jù)鍍層特性選取10keV~60keV、
60keV~180keV、180keV~1MeV這三種中的一種。加速因子一般不超過500。
C.2.3真空-質(zhì)子輻照:總劑量一般≥1×1014p/cm2。質(zhì)子能量根據(jù)鍍層特性選取10keV~60keV、
60keV~180keV、180keV~6.8MeV這三種中的一種。加速因子一般不超過500。
C.3試驗(yàn)程序
C.3.1檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
C.3.2將試片放入試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)部。
C.3.3當(dāng)達(dá)到規(guī)定的輻照劑量后,取出試片。
C.3.4檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
12
GB/TXXXXX—XXXX
前言
本文件附錄A、B、C為規(guī)范性附錄。
本文件按照GB/T1.1-2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)
定起草。
本文件由全國宇航技術(shù)及其應(yīng)用標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC425)提出并歸口。
本文件起草單位:北京衛(wèi)星制造廠有限公司、中國航天標(biāo)準(zhǔn)化研究所、北京空間機(jī)電研究所、上海
航天控制技術(shù)研究所、上海航天設(shè)備制造總廠有限公司、中科院硅酸鹽研究所、航天材料與工藝研究所、
西安航天發(fā)動(dòng)機(jī)廠、中科院長春光機(jī)所、北京星馳恒動(dòng)科技發(fā)展有限公司。
本文件主要起草人:XXX。
III
GB/TXXXXX—XXXX
航天功能鍍覆層消雜光鍍層
1范圍
本文件規(guī)定了航天產(chǎn)品表面消雜光鍍層的基體材料、鍍層性能要求、質(zhì)量控制、檢驗(yàn)、包裝轉(zhuǎn)運(yùn)等
要求。
本文件適用于航天產(chǎn)品上的消雜光鍍層,其他消雜光鍍層可參照?qǐng)?zhí)行。適用的基體材料包括鋁合金、
鎂合金、鈦合金、鋼鐵、銅合金等金屬材料以及鋁基碳化硅等復(fù)合材料。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,
僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本
文件。
GB/T3138金屬鍍覆和化學(xué)處理與有關(guān)過程術(shù)語
GB/T5270-2005金屬基體上的金屬覆蓋層電沉積和化學(xué)沉積層附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法評(píng)述
GB/T6462金屬和氧化物覆蓋層厚度測量顯微鏡法
GB/T10988光學(xué)系統(tǒng)雜(散)光測量方法
GB/T12609電沉積金屬覆蓋層和相關(guān)精飾計(jì)數(shù)檢驗(yàn)抽樣程序
GB/T25968分光光度計(jì)測量材料的太陽透射比和吸收比試驗(yàn)方法
GB/T34517航天器用非金屬材料真空出氣評(píng)價(jià)方法
GB/T34522航天器熱真空試驗(yàn)方法
3術(shù)語和定義
GB/T3138界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。
3.1
消雜光鍍層Antistraylightplating
以電鍍或化學(xué)鍍、真空鍍的方式在金屬、非金屬或復(fù)合基材上鍍覆的具有消雜光功能的黑色鍍層。
3.2
半球反射率Hemispherereflectance
物體在太陽輻射的影響下,反射輻射通量與入射輻射通量的比值。計(jì)算時(shí)等于雙向反射分布函數(shù)
(BRDF)在空間上所有可查看方向上的積分,用以體現(xiàn)消雜光材料在空間分布上的雜散光吸收能力。
4鍍層要求
4.1外觀
4.1.1顏色
鍍層呈黑色,連續(xù)均勻。
4
GB/TXXXXX—XXXX
4.1.2允許缺陷
鍍層允許缺陷為:
a)表面粗糙度、材料及其狀態(tài)等不同,有不同的色澤。
b)非重要面上輕微的夾具接觸痕跡。
c)由材料缺陷及加工方法引起的鍍層缺陷。
d)邊角與深凹處鍍層顏色有差異。
e)直徑小于或等于6mm,其深度大于1倍孔徑的盲孔內(nèi)表面無鍍層、深度大于或等于2倍孔徑
的通孔(槽)內(nèi)表面無鍍層。
f)有局部鍍的情況下,允許鍍覆邊界向非鍍覆區(qū)域偏移≤2mm。
4.1.3不允許缺陷
鍍層不允許缺陷為:
a)重要面上局部無鍍層。
b)嚴(yán)重水跡。
c)鍍層有燒傷及裂紋。
d)基體過腐蝕。
4.2厚度
鍍層厚度要求見表1。
表1消雜光鍍層厚度
序號(hào)工況厚度備注
1全光譜一般光學(xué)環(huán)境2~5μm
2全光譜特定光學(xué)環(huán)境7~15μm
4.3附著強(qiáng)度
經(jīng)附著強(qiáng)度試驗(yàn)后,鍍層不起泡、脫落。
4.4太陽吸收比
鍍層的太陽吸收比要求見表2。
表2消雜光鍍層厚度
序號(hào)工況吸收比備注
1全光譜一般光學(xué)環(huán)境太陽吸收比αs≥0.90
2全光譜特定光學(xué)環(huán)境太陽吸收比αs>0.95
4.5半球反射率
鍍層的半球反射率≤0.10。
4.6熱循環(huán)穩(wěn)定性
經(jīng)過熱循環(huán)試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.7熱真空穩(wěn)定性
5
GB/TXXXXX—XXXX
經(jīng)過熱真空試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.8真空-紫外輻照
經(jīng)過真空-紫外輻照試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.9原子氧穩(wěn)定性
經(jīng)過原子氧試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.10空間粒子輻照
經(jīng)過空間粒子輻照試驗(yàn)后,鍍層外觀完好,不起皮、不起泡、不開裂、不脫落,太陽吸收比變化≤0.02。
4.11真空揮發(fā)性
總質(zhì)量損失(TML)≤0.1%,可凝揮發(fā)物(CVCM)≤0.05%。
5試驗(yàn)方法
5.1外觀
用目視法進(jìn)行檢查,在照度不小于300lx條件下,工件與眼睛的距離約為350mm,必要時(shí)可使用5-10
倍的放大鏡檢驗(yàn)。
5.2厚度
按GB/T6462的規(guī)定,對(duì)隨槽試片在顯微鏡下進(jìn)行厚度檢測。
5.3附著強(qiáng)度
按GB/T5270中的劃格法或熱震法進(jìn)行。
5.4太陽吸收比
按GB/T25968的規(guī)定進(jìn)行。
5.5半球反射率
按GB/T10988的規(guī)定進(jìn)行。
5.6熱循環(huán)穩(wěn)定性
在-196℃±5℃~+100℃±5℃的100次熱循環(huán)試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。其中-196℃±5℃
采用液氮,+100℃±5℃采用鼓風(fēng)干燥箱。高溫和低溫的保溫時(shí)間不少于2min。
5.7熱真空穩(wěn)定性
在GB/T34522真空熱循環(huán)試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
5.8真空-紫外輻照
按照附錄A進(jìn)行真空-紫外輻照試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
5.9原子氧穩(wěn)定性
6
GB/TXXXXX—XXXX
按照附錄B進(jìn)行原子氧試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
5.10空間粒子輻照
按照附錄C進(jìn)行真空-電子、真空質(zhì)子輻照試驗(yàn),在試驗(yàn)前后,檢查鍍層外觀及太陽吸收比。
5.11真空揮發(fā)性
按照GB/T34517進(jìn)行真空揮發(fā)性試驗(yàn)后,并計(jì)算總質(zhì)量損失(TML)和可凝揮發(fā)物(CVCM)。
6檢驗(yàn)規(guī)則
6.1檢驗(yàn)分類
本規(guī)范規(guī)定的檢驗(yàn)為鑒定檢驗(yàn)和交收檢驗(yàn)。
6.2檢驗(yàn)環(huán)境條件
a)各檢驗(yàn)應(yīng)在下列環(huán)境條件下進(jìn)行:
b)溫度:15℃~35℃。
c)相對(duì)濕度:不大于90%。
d)氣壓:在當(dāng)?shù)貙?shí)驗(yàn)室大氣壓。
e)照度:≥300lx。
6.3檢驗(yàn)儀器及設(shè)備要求
檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備應(yīng)滿足如下要求:
a)檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備應(yīng)經(jīng)計(jì)量部門檢驗(yàn)合格,并在有效期內(nèi)。
b)檢驗(yàn)用儀器及設(shè)備的量程和精度應(yīng)滿足產(chǎn)品檢驗(yàn)要求。
6.4檢驗(yàn)項(xiàng)目
檢驗(yàn)項(xiàng)目應(yīng)符合表3的規(guī)定,檢驗(yàn)的要求和檢驗(yàn)方法符合
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