光學(xué)和光子學(xué) 微透鏡陣列 第4部分：幾何特性測(cè)試方法-編制說(shuō)明

光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方法

編制說(shuō)明

1工作概況

1.1任務(wù)來(lái)源

根據(jù)國(guó)標(biāo)委《國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)委關(guān)于下達(dá)2022年第三批國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)制修訂計(jì)劃的通知》（國(guó)標(biāo)委

[2022]39號(hào)），由中國(guó)兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所、xxxx及相關(guān)單位完成《光學(xué)和光子學(xué)微透

鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方法》的編制工作，制定計(jì)劃號(hào)為20220921-T-604。

1.2編制單位

本標(biāo)準(zhǔn)編制單位為中國(guó)兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所XXXX、XXXXX、XXXX、XXXXX。

本部分起草單位及承擔(dān)工作見表1。

表1編制單位及承擔(dān)工作

編制單位承擔(dān)任務(wù)

XXXX組織協(xié)調(diào)標(biāo)準(zhǔn)編制工作；主要起草，承擔(dān)標(biāo)準(zhǔn)主要起草任務(wù)

XXXX主要起草，從技術(shù)角度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)草案進(jìn)行校核補(bǔ)充

XXXX主要起草，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)中的術(shù)語(yǔ)適用性進(jìn)行校核補(bǔ)充

XXXX主要起草，從標(biāo)準(zhǔn)化角度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)草案進(jìn)行校核、完善

XXXX主要起草，從技術(shù)角度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)草案進(jìn)行校核補(bǔ)充

1.3主要工作過(guò)程

2022年12月，由中國(guó)兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所組織、中國(guó)科學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究

院、XXXX等單位牽頭，成立了《光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方

法》編制組，開展了如下工作：

1）2022年12月～2023年2月，成立編制組

2022年12月13日，國(guó)標(biāo)委下達(dá)了《國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)關(guān)于下達(dá)2022年第三批推

薦性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)劃及相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)外文版計(jì)劃的通知》（國(guó)標(biāo)委發(fā)【2022】39號(hào)），中國(guó)兵器工

業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所組織、中國(guó)科學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究院牽頭，XXX等單位成立了《光學(xué)

和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方法》編制組。

2）2023年3月～5月，編制標(biāo)準(zhǔn)草案及編制說(shuō)明（草案）

編制組根據(jù)ISO14880-4的英文版進(jìn)行了翻譯，并對(duì)翻譯稿進(jìn)行了校對(duì)。按照GB/T

1.1-2020將翻譯稿形成了標(biāo)準(zhǔn)草案，并編制了編制說(shuō)明（草案）。

3）2023年5月18日～19日，召開征求意見稿討論會(huì)，形成標(biāo)準(zhǔn)征求意見稿及編制說(shuō)

明

2

組織編制組成員邀請(qǐng)相關(guān)專家召開標(biāo)準(zhǔn)討論會(huì)，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)草案稿逐條逐句進(jìn)行了研討，經(jīng)

過(guò)討論形成修改意見，根據(jù)討論意見補(bǔ)充完善草案。由兵器標(biāo)準(zhǔn)化研究所組織，聯(lián)合中國(guó)科

學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究院及其他參編單位對(duì)本部分編寫的規(guī)范性、詞語(yǔ)翻譯的準(zhǔn)確性進(jìn)

行了充分探討，形成了征求意見稿。

4）2023年6月初，向標(biāo)技委委員及社會(huì)公開征求意見。共發(fā)送征求意見單位30家，

回函X家，回函且有意見x家，未回函X家，形成《標(biāo)準(zhǔn)意見匯總處理表》（征求意見稿），

編制組對(duì)收集到的意見進(jìn)行匯總整理，形成標(biāo)準(zhǔn)送審稿。。

2.編制原則和主要內(nèi)容

2.1編制依據(jù)

本標(biāo)準(zhǔn)以ISO14880-4:2019（E）為基礎(chǔ)，與其一致性程度為“修改采用”；采用國(guó)際標(biāo)

準(zhǔn)按GB/T20000.2－2009《標(biāo)準(zhǔn)化工作指南第2部分：采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)》的規(guī)定；編寫規(guī)

則按GB/T1.1－2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)和編寫》的規(guī)定。

2.2編制原則

統(tǒng)一性——標(biāo)準(zhǔn)各部分的文體和術(shù)語(yǔ)應(yīng)保持一致，相同條款使用相同措辭表述。

協(xié)調(diào)性——標(biāo)準(zhǔn)各部分的內(nèi)容相輔相成，自成體系。

適用性——標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容便于實(shí)施，具有可操作性。

一致性——本標(biāo)準(zhǔn)為國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的轉(zhuǎn)換，起草時(shí)盡可能與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)保持一致。

規(guī)范性——本標(biāo)準(zhǔn)的編寫規(guī)則遵循GB/T1.1－2020和GB/T20000.2－2009的規(guī)定。

2.3主要技術(shù)內(nèi)容

2.3.1概述

ISO14880系列標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的微透鏡陣列產(chǎn)品，指的是由在公共基片的一個(gè)或多個(gè)表面內(nèi)

或表面上形成的非常小的透鏡陣列，其主要應(yīng)用于三維顯示器、陣列光輻射源和光電探測(cè)器

相關(guān)聯(lián)的耦合光學(xué)器件、用于液晶顯示器的增強(qiáng)型光學(xué)器件及光學(xué)并行處理元器件。ISO

14880-1這一部分標(biāo)準(zhǔn)的編制目的是在第一批微透鏡產(chǎn)品進(jìn)入市場(chǎng)之際，明確微透鏡陣列這

一相對(duì)較新領(lǐng)域的術(shù)語(yǔ)。其他三個(gè)部分為：第2部分：波前像差測(cè)試方法；第3部分：除波

前像差外的光學(xué)特性測(cè)試方法和第4部分幾何特性測(cè)試方法。本部分的規(guī)定的微透鏡陣列的

幾何特性測(cè)試方法。微透鏡陣列市場(chǎng)迫切需要就微透鏡陣列本身的幾何特性測(cè)試方法達(dá)成一

致。幾何特性的測(cè)試方法統(tǒng)一，既有利于促進(jìn)微透鏡陣列產(chǎn)品的制造驗(yàn)收，還有助于微透鏡

產(chǎn)品的研發(fā)制造。

目前，國(guó)內(nèi)在微透鏡陣列方面無(wú)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。

2.3.2與ISO14880-4：2006（E）的對(duì)比情況

本標(biāo)準(zhǔn)是根據(jù)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO14880-4:2006《光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何

特性測(cè)試方法》而制定的，在技術(shù)內(nèi)容上與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO14880-4：2006（E）有技術(shù)性差異，

所以在申報(bào)項(xiàng)目時(shí)一致性程度為“修改采用（MOD）”。

3

本標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)與ISO14880-4：2006（E）相比改動(dòng)如下：

a)編輯性修改；

1）中英文表達(dá)方式有很大不同。如果完全等同翻譯，會(huì)影響讀者對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的閱讀理

解，不利于標(biāo)準(zhǔn)的推廣應(yīng)用。編制組在不改變ISO標(biāo)準(zhǔn)原文技術(shù)內(nèi)容的前提下，

按照中文表達(dá)習(xí)慣進(jìn)行了修改；

2）中英文標(biāo)準(zhǔn)的編制規(guī)則不同，編制組在不改變ISO標(biāo)準(zhǔn)原文技術(shù)內(nèi)容的前提下，

按GB/T1.1-2020的相關(guān)規(guī)定對(duì)本部分的格式進(jìn)行了編輯性修改；

b)結(jié)構(gòu)性修改：

結(jié)構(gòu)性調(diào)整見下表。

表結(jié)構(gòu)性調(diào)整內(nèi)容

ISO14880-4:2006GB/T41869.4—XXXX原因

5測(cè)量方法-該段落無(wú)實(shí)質(zhì)內(nèi)容

5.1測(cè)量間距與表面浮5間距與表面浮雕深度測(cè)各幾何測(cè)試指標(biāo)均有完整的測(cè)量方法

雕深度測(cè)量量介紹，因此作為獨(dú)立章節(jié)

5.1．1使用接觸式輪廓5.1使用接觸式輪廓儀測(cè)聯(lián)動(dòng)修改

儀測(cè)量量

5.1.2使用共焦顯微鏡

5.2使用共焦顯微鏡測(cè)量

測(cè)量

參考國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，物理厚度指標(biāo)的測(cè)量有

6.2物理厚度測(cè)量6物理厚度測(cè)量

完整程序介紹，因此作為獨(dú)立章節(jié)

參考國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，物理厚度指標(biāo)的測(cè)量有

6.3曲率半徑測(cè)量7曲率半徑測(cè)量

完整程序介紹，因此作為獨(dú)立章節(jié)

7結(jié)果與不確定度12結(jié)果與不確定度增加了第8章面型精度測(cè)量，第9章表面

粗糙度測(cè)量，第10章填充因子測(cè)量，第

8測(cè)試報(bào)告13測(cè)試報(bào)告11章微透鏡測(cè)量準(zhǔn)備等內(nèi)容，后續(xù)章節(jié)

聯(lián)動(dòng)修改

c)技術(shù)性修改；

技術(shù)性修改內(nèi)容見下表。

表技術(shù)性修改內(nèi)容

ISO

GB/T41869.4—XXXX原因

14880-4:2006

4坐標(biāo)系刪除該圖在第1部分已有解釋

增加測(cè)試項(xiàng)目的描述，根據(jù)國(guó)標(biāo)1.1-2020測(cè)

無(wú)增加4

試方法的編制要求，明確測(cè)試的項(xiàng)目。

4

增加面形精度的測(cè)量，因?yàn)槊嫘途仁潜硎?/p>

微透鏡三維幾何輪廓實(shí)際加工值與設(shè)計(jì)值

無(wú)增加8之間的偏離情況，決定微透鏡產(chǎn)品對(duì)光場(chǎng)聚

焦、成像、準(zhǔn)直等性能，是需要控制得重要

技術(shù)指標(biāo)之一

增加表面粗糙度的測(cè)量，因?yàn)楸砻娲植诙缺?/p>

示微透鏡表面輪廓光滑程度，影響微透鏡對(duì)

增加9

光的散射作用，也是需要控制的重要技術(shù)指

標(biāo)之一

增加填充因子的測(cè)量，因?yàn)樘畛湟蜃邮潜硎?/p>

微透鏡的有效區(qū)域所占比例，直接影響光耦

無(wú)增加10

合效率及雜散光像差等性能，是需要控制的

重要指標(biāo)

微透鏡的質(zhì)量直接影響測(cè)量結(jié)果，因此微透

增加11

鏡陣列測(cè)量前的準(zhǔn)備工作需專門說(shuō)明。

2.3.3本標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)

本標(biāo)準(zhǔn)中的微透鏡陣列指的是在同一基片的內(nèi)部或表面微透鏡陣列系統(tǒng)。

第1-2章分別規(guī)定了本標(biāo)準(zhǔn)的范圍、規(guī)范性引用文件；

第3章術(shù)語(yǔ)中，規(guī)定了微透鏡及微透鏡陣列的術(shù)語(yǔ)。將所有術(shù)語(yǔ)分為通用術(shù)語(yǔ)，包括：

間距、表面浮雕深度、微透鏡陣列厚度、曲率半徑、填充因子。

第4章測(cè)試項(xiàng)目，規(guī)定了幾何特性的測(cè)試項(xiàng)目包括以下幾項(xiàng)：間距和表面浮雕深度（矢

高）、物理厚度、曲率半徑、面形精度、表面粗糙度和填充因子。

第5章間距和表面和調(diào)制深度的測(cè)試，包括探針?lè)ā⒐步癸@微鏡測(cè)量法，測(cè)量設(shè)備、測(cè)

量程序等內(nèi)容。

第6章物理厚度的測(cè)試，包括測(cè)試概述、測(cè)試設(shè)備及測(cè)試程序；

第7章曲率半徑的測(cè)試，包括測(cè)試概述、測(cè)試設(shè)備及測(cè)試程序；

第8章面形精度的測(cè)試，包括測(cè)試概述、測(cè)試設(shè)備及測(cè)試程序；

第9章表面粗糙度的測(cè)試，包括測(cè)試概述、測(cè)試設(shè)備及測(cè)試程序

第10章填充因子的測(cè)試，包括測(cè)試概述、測(cè)試設(shè)備及測(cè)試程序；

第11章用于測(cè)量的微透鏡陣列的表面制備，

第12章結(jié)果和不確定性，

第13章，測(cè)試報(bào)告。

附錄A表述了使用斐索干涉儀系統(tǒng)的測(cè)量，包括測(cè)試設(shè)備、測(cè)試過(guò)程及曲率半徑的測(cè)

量。

附錄B表述了微透鏡陣列間距的一致性，包括原理、陣列幾何參數(shù)的一致性、測(cè)試設(shè)

備和步驟。

3主要試驗(yàn)（或驗(yàn)證）情況分析

針對(duì)微透鏡陣列的周期、矢高、曲率半徑等指標(biāo)，編制組按標(biāo)準(zhǔn)中的方法開展了實(shí)際測(cè)

5

量實(shí)驗(yàn)，驗(yàn)證該標(biāo)準(zhǔn)的可操作性。采用臺(tái)階儀為主要設(shè)備的接觸式輪廓儀測(cè)量微透鏡的口徑、

周期及矢高，具有較強(qiáng)可行性，該類方法更適用于微透鏡二維表面輪廓曲線的測(cè)量，測(cè)量去

想額外注意需要通過(guò)微透鏡的頂點(diǎn)。利用激光共聚焦顯微鏡測(cè)量微透鏡陣列，得出微透鏡的

口徑、周期、矢高和曲率半徑值，可以獲得較大數(shù)值孔徑微透鏡的3D形貌數(shù)據(jù)，利用白光

干涉儀測(cè)量微透鏡的矢高、周期、口徑、表面粗糙度、面形精度，可以獲得納米級(jí)3D形貌

幾何參數(shù)測(cè)量精度。經(jīng)過(guò)實(shí)驗(yàn)，驗(yàn)證該標(biāo)準(zhǔn)可以用于微透鏡陣列幾何特性測(cè)量。

4與國(guó)外同類標(biāo)準(zhǔn)水平的對(duì)比情況

本標(biāo)準(zhǔn)修改采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO14880-4：2006（E）《光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部

分：幾何特性測(cè)試方法》（英文版）。與《光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)

試方法》》的最新國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)處于一致水平。ISO14880是2006年出版實(shí)施的微透鏡陣列關(guān)于

幾何特性測(cè)試方法的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，適用于由在公共基片的一個(gè)或多個(gè)表面內(nèi)或表面上形成的非

常小的透鏡陣列組成的微透鏡陣列。

5與有關(guān)的現(xiàn)行法律、法規(guī)和強(qiáng)制性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的關(guān)系

本部分的編寫符合GB/T1.1－2020和GB/T20000.2－2009的編寫規(guī)定和國(guó)內(nèi)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)

的規(guī)定。作為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，在與現(xiàn)行法規(guī)、國(guó)際、國(guó)內(nèi)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)中內(nèi)容協(xié)調(diào)一致的基礎(chǔ)上，充

分體現(xiàn)了技術(shù)上的先進(jìn)性。

本標(biāo)準(zhǔn)為推薦性標(biāo)準(zhǔn)，與強(qiáng)制性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)無(wú)沖突。

6重大分歧意見和處理經(jīng)過(guò)和依據(jù)

無(wú)。

7標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)的建議

本標(biāo)準(zhǔn)中不涉及安全、環(huán)保等，建議作為推薦性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行出版發(fā)行。

8貫徹國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的要求和措施建議

建議盡快將本標(biāo)準(zhǔn)批準(zhǔn)、頒布實(shí)施，在國(guó)內(nèi)微透鏡陣列領(lǐng)域推廣應(yīng)用。

9廢止現(xiàn)行有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的建議

無(wú)。

10其他應(yīng)予說(shuō)明的事項(xiàng)

無(wú)。

11參考資料清單

GB/T1.1－2020標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)和編寫規(guī)則

6

光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方法

編制說(shuō)明

（征求意見稿）

《光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方法》編

寫組

2023年5月

光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方法

編制說(shuō)明

1工作概況

1.1任務(wù)來(lái)源

根據(jù)國(guó)標(biāo)委《國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)委關(guān)于下達(dá)2022年第三批國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)制修訂計(jì)劃的通知》（國(guó)標(biāo)委

[2022]39號(hào)），由中國(guó)兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所、xxxx及相關(guān)單位完成《光學(xué)和光子學(xué)微透

鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方法》的編制工作，制定計(jì)劃號(hào)為20220921-T-604。

1.2編制單位

本標(biāo)準(zhǔn)編制單位為中國(guó)兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所XXXX、XXXXX、XXXX、XXXXX。

本部分起草單位及承擔(dān)工作見表1。

表1編制單位及承擔(dān)工作

編制單位承擔(dān)任務(wù)

XXXX組織協(xié)調(diào)標(biāo)準(zhǔn)編制工作；主要起草，承擔(dān)標(biāo)準(zhǔn)主要起草任務(wù)

XXXX主要起草，從技術(shù)角度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)草案進(jìn)行校核補(bǔ)充

XXXX主要起草，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)中的術(shù)語(yǔ)適用性進(jìn)行校核補(bǔ)充

XXXX主要起草，從標(biāo)準(zhǔn)化角度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)草案進(jìn)行校核、完善

XXXX主要起草，從技術(shù)角度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)草案進(jìn)行校核補(bǔ)充

1.3主要工作過(guò)程

2022年12月，由中國(guó)兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所組織、中國(guó)科學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究

院、XXXX等單位牽頭，成立了《光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方

法》編制組，開展了如下工作：

1）2022年12月～2023年2月，成立編制組

2022年12月13日，國(guó)標(biāo)委下達(dá)了《國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)關(guān)于下達(dá)2022年第三批推

薦性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)劃及相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)外文版計(jì)劃的通知》（國(guó)標(biāo)委發(fā)【2022】39號(hào)），中國(guó)兵器工

業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所組織、中國(guó)科學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究院牽頭，XXX等單位成立了《光學(xué)

和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方法》編制組。

2）2023年3月～5月，編制標(biāo)準(zhǔn)草案及編制說(shuō)明（草案）

編制組根據(jù)ISO14880-4的英文版進(jìn)行了翻譯，并對(duì)翻譯稿進(jìn)行了校對(duì)。按照GB/T

1.1-2020將翻譯稿形成了標(biāo)準(zhǔn)草案，并編制了編制說(shuō)明（草案）。

3）2023年5月18日～19日，召開征求意見稿討論會(huì)，形成標(biāo)準(zhǔn)征求意見稿及編制說(shuō)

明

2

組織編制組成員邀請(qǐng)相關(guān)專家召開標(biāo)準(zhǔn)討論會(huì)，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)草案稿逐條逐句進(jìn)行了研討，經(jīng)

過(guò)討論形成修改意見，根據(jù)討論意見補(bǔ)充完善草案。由兵器標(biāo)準(zhǔn)化研究所組織，聯(lián)合中國(guó)科

學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究院及其他參編單位對(duì)本部分編寫的規(guī)范性、詞語(yǔ)翻譯的準(zhǔn)確性進(jìn)

行了充分探討，形成了征求意見稿。

4）2023年6月初，向標(biāo)技委委員及社會(huì)公開征求意見。共發(fā)送征求意見單位30家，

回函X家，回函且有意見x家，未回函X家，形成《標(biāo)準(zhǔn)意見匯總處理表》（征求意見稿），

編制組對(duì)收集到的意見進(jìn)行匯總整理，形成標(biāo)準(zhǔn)送審稿。。

2.編制原則和主要內(nèi)容

2.1編制依據(jù)

本標(biāo)準(zhǔn)以ISO14880-4:2019（E）為基礎(chǔ)，與其一致性程度為“修改采用”；采用國(guó)際標(biāo)

準(zhǔn)按GB/T20000.2－2009《標(biāo)準(zhǔn)化工作指南第2部分：采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)》的規(guī)定；編寫規(guī)

則按GB/T1.1－2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)和編寫》的規(guī)定。

2.2編制原則

統(tǒng)一性——標(biāo)準(zhǔn)各部分的文體和術(shù)語(yǔ)應(yīng)保持一致，相同條款使用相同措辭表述。

協(xié)調(diào)性——標(biāo)準(zhǔn)各部分的內(nèi)容相輔相成，自成體系。

適用性——標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容便于實(shí)施，具有可操作性。

一致性——本標(biāo)準(zhǔn)為國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的轉(zhuǎn)換，起草時(shí)盡可能與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)保持一致。

規(guī)范性——本標(biāo)準(zhǔn)的編寫規(guī)則遵循GB/T1.1－2020和GB/T20000.2－2009的規(guī)定。

2.3主要技術(shù)內(nèi)容

2.3.1概述

ISO14880系列標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的微透鏡陣列產(chǎn)品，指的是由在公共基片的一個(gè)或多個(gè)表面內(nèi)

或表面上形成的非常小的透鏡陣列，其主要應(yīng)用于三維顯示器、陣列光輻射源和光電探測(cè)器

相關(guān)聯(lián)的耦合光學(xué)器件、用于液晶顯示器的增強(qiáng)型光學(xué)器件及光學(xué)并行處理元器件。ISO

14880-1這一部分標(biāo)準(zhǔn)的編制目的是在第一批微透鏡產(chǎn)品進(jìn)入市場(chǎng)之際，明確微透鏡陣列這

一相對(duì)較新領(lǐng)域的術(shù)語(yǔ)。其他三個(gè)部分為：第2部分：波前像差測(cè)試方法；第3部分：除波

前像差外的光學(xué)特性測(cè)試方法和第4部分幾何特性測(cè)試方法。本部分的規(guī)定的微透鏡陣列的

幾何特性測(cè)試方法。微透鏡陣列市場(chǎng)迫切需要就微透鏡陣列本身的幾何特性測(cè)試方法達(dá)成一

致。幾何特性的測(cè)試方法統(tǒng)一，既有利于促進(jìn)微透鏡陣列產(chǎn)品的制造驗(yàn)收，還有助于微透鏡

產(chǎn)品的研發(fā)制造。

目前，國(guó)內(nèi)在微透鏡陣列方面無(wú)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。

2.3.2與ISO14880-4：2006（E）的對(duì)比情況

本標(biāo)準(zhǔn)是根據(jù)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO14880-4:2006《光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何

特性測(cè)試方法》而制定的，在技術(shù)內(nèi)容上與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO14880-4：2006（E）有技術(shù)性差異，

所以在申報(bào)項(xiàng)目時(shí)一致性程度為“修改采用（MOD）”。

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本標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)與ISO14880-4：2006（E）相比改動(dòng)如下：

a)編輯性修改；

1）中英文表達(dá)方式有很大不同。如果完全等同翻譯，會(huì)影響讀者對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的閱讀理

解，不利于標(biāo)準(zhǔn)的推廣應(yīng)用。編制組在不改變ISO標(biāo)準(zhǔn)原文技術(shù)內(nèi)容的前提下，

按照中文表達(dá)習(xí)慣進(jìn)行了修改；

2）中英文標(biāo)準(zhǔn)的編制規(guī)則不同，編制組在不改變ISO標(biāo)準(zhǔn)原文技術(shù)內(nèi)容的前提下，

按GB/T1.1-2020的相關(guān)規(guī)定對(duì)本部分的格式進(jìn)行了編輯性修改；

b)結(jié)構(gòu)性修改：

結(jié)構(gòu)性調(diào)整見下表。

表結(jié)構(gòu)性調(diào)整內(nèi)容

ISO14880-4:2006GB/T41869.4—XXXX原因

5測(cè)量方法