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文檔簡介

簡并半導(dǎo)體2024/5/172簡并半導(dǎo)體1.簡并的出現(xiàn)以摻某種n型雜質(zhì)為例,在室溫下,處于強(qiáng)電離區(qū)此時(shí),當(dāng)玻爾茲曼統(tǒng)計(jì)不再適用~1必須考慮泡里不相容原理,采用費(fèi)米統(tǒng)計(jì)分布——載流子的簡并化簡并半導(dǎo)體2024/5/173簡并半導(dǎo)體并半導(dǎo)體的載流子濃度仍以摻某種n型雜質(zhì)為例費(fèi)米積分!!!2024/5/174簡并半導(dǎo)體簡并化條件非簡并與簡并情況下的相對誤差則,相對誤差非簡并簡并弱簡并2024/5/175簡并半導(dǎo)體簡并化條件n型p型2024/5/176簡并半導(dǎo)體簡并臨界濃度的估算2024/5/177簡并半導(dǎo)體一般來說,半導(dǎo)體發(fā)生簡并時(shí),摻雜濃度接近或大于導(dǎo)帶底有效狀態(tài)密度Nc(價(jià)帶頂有效狀態(tài)密度Nv)。對于雜質(zhì)電離能小的雜質(zhì)(容易電離),則雜質(zhì)濃度較小時(shí)就會(huì)發(fā)生簡并(容易簡并化)。對于不同種類的半導(dǎo)體,因?qū)У子行顟B(tài)密度和價(jià)帶頂有效密度各不相同。一般規(guī)律是有效狀態(tài)密度小的材料,其發(fā)生簡并的雜質(zhì)濃度較小。2024/5/178簡并半導(dǎo)體簡并濃度的正式計(jì)算強(qiáng)簡并條件注意:Nc與溫度有關(guān)2024/5/179簡并半導(dǎo)體簡并時(shí)雜質(zhì)的電離情況非簡并時(shí),室溫下,通常EF<ED,nD+≈ND簡并時(shí),EF≥EC,則nD+<ND簡并時(shí),雜質(zhì)不能充分電離簡并半導(dǎo)體電子濃度較高,費(fèi)米能級遠(yuǎn)在施主能級之上,使施主能級上填滿電子,使雜質(zhì)電離程度降低2024/5/1710簡并半導(dǎo)體簡并半導(dǎo)體中的雜質(zhì)能級非簡并半導(dǎo)體:雜質(zhì)濃度不大,雜質(zhì)間距比較遠(yuǎn),相互作用可忽略,在禁帶中形成孤立的能級。重?fù)诫s的簡并半導(dǎo)體:雜質(zhì)濃度很高,雜質(zhì)互相靠近,電子波函數(shù)顯著重疊,使雜質(zhì)電子能在雜質(zhì)原子之間產(chǎn)生共有化運(yùn)動(dòng),從而使孤立的能級擴(kuò)展為能帶,通常稱為雜質(zhì)能帶(簡并能帶)。雜質(zhì)能帶中的雜質(zhì)電子,可以通過雜質(zhì)原子之間的共有化運(yùn)動(dòng)參加導(dǎo)電的現(xiàn)象稱為雜質(zhì)帶導(dǎo)電。2024/5/1711簡并半導(dǎo)體導(dǎo)帶Eg施主能級價(jià)帶施主能帶本征導(dǎo)帶簡并導(dǎo)帶能帶邊沿尾部EgE′g價(jià)帶2024/5/1712簡并半導(dǎo)體例題求室溫下?lián)戒R的n型硅,使EF=(EC+ED)/2時(shí)銻的濃度。已知銻的電離能為0.039V。2024/5/1713簡并半導(dǎo)體例題

用外延生長和雜質(zhì)高溫?cái)U(kuò)散工藝制作一個(gè)二極管?;琻型Si的濃度是均勻的。外延生長的濃度ND2也是均勻的。硼擴(kuò)散的濃度表面高,里面低。如圖分布。在xj處NA=ND2,B點(diǎn)的濃度為NAB,具體數(shù)值如圖。已知室溫NC=2.8×1013cm-3,NV=1.1×1019cm-3;500K時(shí),Eg=1.0eV。請回答下列問題。1)求300K時(shí)擴(kuò)硼前n區(qū)(外延層)費(fèi)米能級EF的位置及電子和空穴的濃度。2)試求室溫時(shí)B點(diǎn)的EF的位置及電子和空穴的濃度。3)在500K時(shí)B點(diǎn)處的電子和空穴濃度。4)如在n+區(qū)摻入的是銻,電離能為0.039eV,若300K時(shí)EF在EC下0.026eV,試求n+區(qū)的電子濃度。2024/5/1714簡并半導(dǎo)體基片外延硼擴(kuò)n+n+n+n+nnnppxNND1NABND2ND1=4×1019cm-3NAB=5.2×1015cm-3ND2=4.6×1015cm-3xjB點(diǎn)2024/5/1715一般情況下的載流子統(tǒng)計(jì)分布多種施主、受主并存基本要求1)掌握半導(dǎo)體同時(shí)含有施主雜質(zhì)和受主雜質(zhì)情況下電中性方程的一般表達(dá)式。2)能較熟練地分析和計(jì)算補(bǔ)償型半導(dǎo)體的載流子濃度和費(fèi)米能級(強(qiáng)電離區(qū))2024/5/1716一般情況下

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