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輕質(zhì)合金表面組織調(diào)控與性能檢測建設(shè)序號設(shè)備名稱性能指標參數(shù)數(shù)量單位1多功能物理氣相沉積系統(tǒng)一、涂層制備系統(tǒng)(一)技術(shù)指標:1.1、極限真空度不低于9×10-5Pa.;1.2、抽速:從大氣抽至8.0×10-3Pa,≤20分鐘(空爐、冷態(tài));從大氣抽至3.0×10-3Pa,≤60分鐘(空爐、冷態(tài));1.3壓升率:≤0.3Pa/小時;系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤6.0×10-7Pa·L/s;1.4鍍膜有效區(qū)不小于550(H)×650,爐內(nèi)可加熱,最高加熱溫度不低于450度;1.5電氣控制系統(tǒng):PLC全自動控制,可運行多種工藝設(shè)置。(二)配置要求:1、該系統(tǒng)主要由多弧沉積真空室、多弧源、旋轉(zhuǎn)基片臺、加熱系統(tǒng)、高能脈沖偏壓電源、多弧電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量、水冷卻及告警系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。2、爐體能夠?qū)崿F(xiàn)電弧源、加熱器等安裝,靈活方便,并可為后期功能擴展提供可能。3、真空室內(nèi)外表面采用電解拋光,可長久保持外觀效果,易于清潔。鍍膜室設(shè)置加熱系統(tǒng)、抽真空、觀察口、離子源安裝,充氣系統(tǒng)接口、饋入電極等接口,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封。4、采用掛裝式雙層襯板,拆卸方便,可保證長時間高溫下工作不變形,采用SUS304不銹鋼,表面噴沙,防止脫膜,爐體支架、氣管、水管、電線、電纜橋架一體完成,表面噴塑防腐處理。5、工件架公自轉(zhuǎn)系統(tǒng):工件架能實現(xiàn)公轉(zhuǎn)及自轉(zhuǎn),工件也可以在任意位置實現(xiàn)定位自轉(zhuǎn)及擺動自轉(zhuǎn),自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)數(shù)可單獨調(diào)節(jié);主軸承重不低于400KG(含轉(zhuǎn)盤本體重量),轉(zhuǎn)架部分滿足不低于1600V電壓下絕緣工藝需求。6、離子源清洗裝置:鍍膜前利用荷能粒子對工件進行轟擊處理,可以激活工件表面,提高薄膜與工件的結(jié)合,配陰、陽極、屏蔽罩板及刻蝕電源等部件。7、真空獲得系統(tǒng):鍍膜室主泵配置由分子泵、羅茨泵、機械泵等泵組組成。其中分子泵名義抽速不低于1600L/s;羅茨泵名義抽速不低于120L/s。泵組系統(tǒng)抽真空時可實現(xiàn)長時間連續(xù)穩(wěn)定運行,具備低噪音、低振動、高壽命等特點。同時,配置氣動擋板閥、氣動插板閥等密封部件,放氣閥設(shè)置空氣過濾功能,保證工件不受污染,加消聲器。8、電氣控制系統(tǒng):①采用PLC為核心的自動化控制系統(tǒng),使用工控機,全自動工藝,可選擇工藝步驟,設(shè)定工藝參數(shù),一鍵式運行。界面可顯示烘烤溫度,鍍膜真空度,工藝氣體類型,工藝氣體流量,靶位選擇,陰極預(yù)濺射電壓/電流,預(yù)濺射時間,陰極電壓/電流,鍍膜時間,離子源電壓/電流,離子源轟擊時間,工件架升降變速控制及公自轉(zhuǎn)速率等。界面可實現(xiàn)實時曲線和數(shù)據(jù)記錄等功能。②工控機應(yīng)具備千兆網(wǎng)口、USB接口不少于6個、16G運行內(nèi)存、1T硬盤、windows10操作系統(tǒng)、不小于19英寸的液晶顯示器、不小于AIMB-705VG的主板和I56500的CPU等功能??蓪崿F(xiàn)手機遠程監(jiān)控及操作。A:主控單元可設(shè)置參數(shù)及工作點,并根據(jù)預(yù)設(shè)置工藝流程,實現(xiàn)對整機全自動、半自動、及手動控制;B:可設(shè)置并存儲多種工藝,用戶可根據(jù)不同產(chǎn)品需求選擇調(diào)用,帶管理員密碼,可防止其他人員誤操作;C:帶實時曲線、歷史曲線查詢功能;D:控制系統(tǒng)可監(jiān)控各泵、閥門工作狀態(tài),水溫、水管路、真空度、氣體流量等工作參量,在任何故障發(fā)生時告警,并做出相應(yīng)處理。9、多弧電源系統(tǒng):爐體至少設(shè)置6支電弧蒸發(fā)源,弧電源輸出功率不低于功率5KW,配置水流及水溫傳感器,其中含有高能脈沖電源,可實現(xiàn)脈沖濺射與直流濺射兼容。10、靶材純度不低于99%。11、偏壓電源:選用雙極非對稱脈沖電源,0~100kHz可調(diào),功率0~20kW可調(diào)。12、真空測量裝置:選用復(fù)合真空計(不小于測試范圍1.0×105~1.0×10-5Pa)、配備電離規(guī)、金屬熱偶規(guī)(不小于測試范圍1×105~1×10-1Pa)、薄膜規(guī)(不小于1×10-1~5Pa)等。13、配有加熱及溫控測量系統(tǒng),可采用工控機控制。14、充氣系統(tǒng):至少5套氣體質(zhì)量流量計進行控制,可滿足氮氣、氧氣、乙炔、氬氣等氣體的定量使用以及腔室混合氣體氣壓的測定。15、水冷系統(tǒng):所有主管道及配件材質(zhì)均為SUS304不銹鋼材料,并配有水流量傳感器和水溫傳感器,水冷系統(tǒng)適宜水溫應(yīng)為20~25℃。16、氣動控制系統(tǒng):主要由氣動控制閥島、先導(dǎo)式4通換向閥、壓力傳感器、氣動三聯(lián)件、PU管等組成。17、緊急制動系統(tǒng):設(shè)備配有急停按鈕,可應(yīng)對緊急情況下設(shè)備的停機處理。18其他輔助系統(tǒng):1)冷水機:不少于8匹冷水機1臺,含不銹鋼保溫水箱1個,帶增壓泵及冷水塔各1臺;其中冷水機、增壓泵選用國內(nèi)知名品牌。2)空壓機:壓力不小于0.8MPa,流量不小于1.1m3/min,相應(yīng)配套冷凍干燥機1臺,容量1m3儲氣罐1個,精密過濾器3件。3)噴砂機:可滿足金剛砂、玻璃砂等砂型的使用,具有出砂量可調(diào)、出砂方向可變、廢砂可單獨收集等功能,性能參數(shù)可滿足批量生產(chǎn)要求。4)純水機:1臺,每小時純水制造量不低于0.25T,可生產(chǎn)一級水、二級水功能,并含有儲水罐。5)超聲波清洗機:手動清洗機1套。6)其他:上述設(shè)備至少配置維修工具1套,工具箱1套,電動工具1套,內(nèi)六角工具1套,與設(shè)備配套的密封墊圈及管路等若干,內(nèi)襯板至少2套。(三)要求說明:1、提供整套鍍膜系統(tǒng)(含清洗、噴砂、冷卻、純水、鍍膜等制備系統(tǒng)及腐蝕、高溫損傷等評估系統(tǒng))。2.免費提供PPR熱熔管,接頭閥門、氣瓶柜等以及純水機、清洗機、冷水機、冷水塔、保溫水箱、增壓泵、鍍膜機等設(shè)備的管路連接和所需電纜,并安裝在設(shè)備上,保證設(shè)備的正常運行。3、提供熱電偶、熱電阻及氣路、水冷系統(tǒng)中所用壓力表等計量器具第三方檢定合格證書(省級檢測機構(gòu)或以上)。(四)其他要求:1、提供多種鍍膜工藝,至少提供10種可靠的氮化物、碳化物等涂層工藝,涂層質(zhì)量要求硬度不低于2000HV,結(jié)合力不低于50N或HF2級。2、免費提供學(xué)員現(xiàn)場實習(xí)服務(wù)。3、除偏壓電源、薄膜規(guī)、質(zhì)量流量計等按廠家標準進行質(zhì)保外,其余部件質(zhì)保期5年。4、質(zhì)保期內(nèi),任何由制造商選材和制造不當引起的質(zhì)量問題,廠商負責(zé)免費維修或更換。質(zhì)保期自驗收完成后簽字之日起計算,無論設(shè)備是否在保修期內(nèi),乙方在接到甲方維修需求時,乙方應(yīng)在一周內(nèi)到達甲方現(xiàn)場處理。5、簽訂合同后,100天內(nèi)完成設(shè)備安裝、調(diào)試、測試等工作。6、設(shè)備可實現(xiàn)電弧源、加熱器等部件的靈活更換,并可為后期功能擴展提供方便。二、涂層測試系統(tǒng)(一)涂層高溫損傷評價主要用于涂層及材料在高溫環(huán)境下的損傷機理評價。1.加載方式:砝碼加載,載荷量程:100~5000g。2.摩擦力量程:0~50N,0~25N各1個。3.摩擦力測量精度:0.05%F.S。4.額定溫度:室溫~1000℃,測試溫度:室溫~900℃。5.旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速:1~3000r/min,旋轉(zhuǎn)半徑可調(diào)。6.配置不少于3種尺寸的摩擦副工裝,摩擦副材質(zhì)可調(diào)。7.可生成Excel數(shù)據(jù)庫、Word實驗報告、Jpeg圖片等。8.可通環(huán)境氣氛:N2、CO2、He、Ar等惰性氣體。9.配置控制箱,液晶顯示器、主機、維修工具、備份文件等。(二)涂層腐蝕損傷評價主要用于涂層及材料在腐蝕環(huán)境下的損傷機理評價。1.雙恒電位儀。2.電流范圍(兩通道電流之和)為±250mA。3.可實現(xiàn)雙通道同步掃描,最高掃速不低于9,000V/s,掃描時的電位增量:0.1mV
(當掃速
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