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文檔簡介

第1章電子光學基礎(chǔ)§1.1電子顯微鏡概述§1.2電子顯微鏡的誕生過程§1.3電子光學基礎(chǔ)

1、分辨率

2、電子波的波長

3、電磁透鏡§1.4電子顯微鏡的類型及用途1電子光學基礎(chǔ)

電子顯微鏡是以電子束為照明源,通過電子流對樣品的透射或反射及電磁透鏡的多級放大后在熒光屏上成像的大型儀器。

§1.1電子顯微鏡概述2電子光學基礎(chǔ)

電子顯微鏡由電子流代替可見光,由磁場代替透鏡,讓電子的運動代替光子。comparison

光學顯微鏡則是利用可見光照明,將微小物體形成放大影像的光學儀器?!皵?shù)碼顯微鏡”

:光學顯微鏡3電子光學基礎(chǔ)HistoryofMicroscope

大約在400年前(1590年),由荷蘭科學家楊森和后來的博物學家列文虎克發(fā)明和完善的顯微鏡,向人們揭示了一個陌生的微觀世界,他們是開辟人類顯微分析的始祖。列文虎克19世紀4電子光學基礎(chǔ)

現(xiàn)在,最好的光學顯微鏡可以達到2000倍的放大倍數(shù)?,F(xiàn)代的光學顯微鏡5電子光學基礎(chǔ)不管如何完善光學顯微鏡的透鏡和結(jié)構(gòu),其放大倍數(shù)和分辨率總是被限定在1000多倍和幾百納米的水平,不可能再有新的突破??梢姽獾牟ㄩL在390納米到760納米之間,所以光學顯微鏡的理論極限分辨本領(lǐng)也就在200納米左右。6電子光學基礎(chǔ)1924年,法國學者德布羅意(De.Brgliel)指出,任何一種接近光速的運動粒子都具有波動性,電子既有波動性又有粒子性。§1.2電子顯微鏡的誕生過程1926-1927年,人們從晶體對電子產(chǎn)生的衍射現(xiàn)象,驗證了電子的波動性,并具有比X光還要短的波長。從實驗中證明,電子的波長隨著加速電壓而改變,加速電壓為100KV時,其波長僅為0.037?,大約比可見光波長短10萬倍。7電子光學基礎(chǔ)1926年,德過物理學家布施(Busch)指出具有軸對稱性的磁場對電子束來說,起著透鏡的作用,這為制造電子顯微鏡提供了理論依據(jù)。1932年,世界上第一臺透射電子顯微鏡在德國柏林產(chǎn)生,由柏林工科大學Knoll和Ruska研制的。放大倍數(shù)僅為12-17倍,分辨率很低。1934年,他們把透射電子顯微鏡的分辨率提高到500?。8電子光學基礎(chǔ)1938年,Ruska和其同事在德國西門子公司研制分辨率為100?的透射電子顯微鏡,1939年作為商品提供給用戶。50年代,英、法、荷、日、美、蘇等國透射電子顯微鏡已批量生產(chǎn)。50年代中期,英國劍橋大學凱文第什實驗室的Hirsch和Howie等人為代表,建立了一套直接觀察薄晶體的缺陷和結(jié)構(gòu)的實驗技術(shù)及電子衍射襯度理論。由此,晶體缺陷理論得到了證實。9電子光學基礎(chǔ)60年代,透射電子顯微鏡分辨率達到了5?左右。70年代末至80年代,隨著電子顯微儀器分辨率的提高,電子顯微學科誕生了,它可以了解從結(jié)構(gòu)的信息到原子點陣的排列。10電子光學基礎(chǔ)1935年,德國學者Knoll首次提出掃描電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)及原理。1938年,德國Von.Ardenne提出在透射電鏡的兩個靜電透鏡之間加一掃描線圈,相當于一臺掃描透射電子顯微鏡,分辨率約為500-1000?。1942:劍橋大學的馬倫首次制成世界第一臺掃描電鏡。1965年,英國劍橋儀器公司生產(chǎn)出了第一臺商品掃描電子顯微鏡,分辨率可達250?.11電子光學基礎(chǔ)

我國第一臺電子顯微鏡的研制是在1958年,由中國科學院長春光機所制造,比國外晚了20多年,但發(fā)展迅速。

1975年開始,我國自行設(shè)計制造掃描電子顯微鏡。80年代初,中國科學院科學儀器廠制造的DX-5型掃描電子顯微鏡,其分辨率為60?,放大倍數(shù)10萬倍。1985年,該廠生產(chǎn)的KYKY-AMRAY1000B型掃面電子顯微鏡分辨率為60?,放大倍數(shù)25萬倍。其它廠家也都已批量生產(chǎn)。12電子光學基礎(chǔ)

1、分辨率簡單地說,分辨率就是能夠把兩個點分辨開的最小距離。人眼睛的分辨率大約為0.1個毫米。所以,要想看清比0.1個毫米還小的東西,就要借助于放大鏡和顯微鏡。即利用顯微鏡把所要觀察的物體至少放大到0.1個毫米以上,才能看清它。§1.3電子光學基礎(chǔ)13電子光學基礎(chǔ)r0:兩物點的間距;

λ:光線的波長;

n:透鏡周圍介質(zhì)的折射率;

α:孔徑角,即物點發(fā)出能進入透鏡成像的光線錐的錐頂角的半角;

nsinα稱為數(shù)值孔徑;根據(jù)光學原理,兩個發(fā)光點的分辨距離為:當波長λ一定時,分辨率取決于數(shù)值孔徑的大小。數(shù)值孔徑越大則能分辨的結(jié)構(gòu)越細,即分辨率越高。14電子光學基礎(chǔ)

將玻璃透鏡的一般參數(shù)代入上式,即最大孔徑半角α=70-75

,在介質(zhì)為油的情況下,n=1.5,其數(shù)值孔徑nsinα=1.25-1.35,上式可化簡為:這說明,顯微鏡的分辨率取決于可見光的波長,波長越短,分辨率越大。只有比光線波長一半還大的物體才會產(chǎn)生反射光而被放大看到。所以,用最好的光學顯微鏡,其分辨率也只能是可見光波長的一半。15電子光學基礎(chǔ)不同波長光源分辨本領(lǐng)的比較16電子光學基礎(chǔ)

可見光的波長范圍為390–760nm(1nm=10?),因此光學顯微鏡的分辨率的極限是200nm。紫外線(<400nm)作光源,分辨率可提高一倍。現(xiàn)代紫外光顯微鏡的分辨率可達到100nm。要制造更高分辨率的顯微鏡,必須采用波長更短的波作為成像媒介。如何得到短波長?17電子光學基礎(chǔ)2、電子波的波長已知電子束具有波動性,對于運動速度為v,質(zhì)量為m的電子波的波長為:

=h/mvh-普朗克常數(shù);m-電子的質(zhì)量;V-電子的速度。

電子的速度v和加速電壓U之間:eU=1/2mv2e-電子所帶的電荷。即v=(2eU/m)1/2

18電子光學基礎(chǔ)由此得

=h/(2emU)1/2代入h=6.62×10-34J.S,m=9.11×10-31kg,e=1.60×10-19c

=12.25/U1/2U的單位用伏特,

的單位為?。19電子光學基礎(chǔ)

前面計算的過程中,電子的質(zhì)量采用的是靜止時的質(zhì)量,但根據(jù)相對論理論,在高速運動的情況下,其質(zhì)量有變化:

m=m0/[1-(v/c)2]1/2

v為電子運動的速度,c為光速。波長與電壓的計算公式應校正為:

=12.25/[U(1+0.9788×10-6U)]1/220電子光學基礎(chǔ)0.008710000.0698300.01425000.0859200.02512000.122100.03701000.17350.0418800.19440.0487600.22430.0536500.27420.0601400.3881電子波波長/?加速電壓/KV電子波波長/?加速電壓/KV

不同加速電壓下電子波的波長(經(jīng)相對論校正)21電子光學基礎(chǔ)可見光的波長在3900-7600?之間,在常用的100-200KV加速電壓下,電子波的波長要比可見光小5個數(shù)量級只要能使加速電壓提高到一定值就可得到很短的電子波。用高壓加速電子就成為近代電鏡的最重要特點,用這樣的電子波作為照明源就可顯著提高顯微鏡的分辨率。那么能不能制造出使電子波聚焦成像的透鏡?22電子光學基礎(chǔ)3、電磁透鏡

電子是帶負電的粒子,在靜電場中會受到電場力的作用,使運動方向發(fā)生偏轉(zhuǎn),設(shè)計靜電場的大小和形狀可實現(xiàn)電子的聚焦和發(fā)散。

由靜電場制成的透鏡稱為靜電透鏡,在電子顯微鏡中,發(fā)射電子的電子槍就是利用靜電透鏡。靜電透鏡23電子光學基礎(chǔ)運動的電子在磁場中也會受磁場力的作用發(fā)生偏折,從而達到會聚和發(fā)散,由磁場制成的透鏡稱為磁透鏡。用通電線圈產(chǎn)生的磁場來使電子波聚焦成像的裝置叫電磁透鏡。電磁透鏡24電子光學基礎(chǔ)由于靜電透鏡從性能上不如電磁透鏡,所以在目前研制的電子顯微鏡中大都采用電磁透鏡。

電磁透鏡靜電透鏡1.改變線圈中的電流強度可很方便的控制焦距和放大倍率1.需改變加速電壓才可改變焦距和放大率2.無擊穿,供給電磁透鏡線圈的電壓低2.靜電透鏡需數(shù)萬伏電壓,常會引起擊穿3.像差小3.像差較大Comparison25電子光學基礎(chǔ)(1)電磁透鏡的聚焦原理

電子在磁場中的運動:電子磁力線26電子光學基礎(chǔ)運動電子在磁場中受到Lorentz力作用,其表達式:式中:e-運動電子電荷;

v-電子運動速度矢量;

B-磁感應強度矢量;

F-洛侖茲力。顯然,F(xiàn)的方向垂直于矢量v和B所決定的平面,力的方向可由左手法則確定。27電子光學基礎(chǔ)(1)v∥B,則F=0,電子不受磁場力作用,其運動速度的大小及方向不變;(2)若v⊥B,即只改變運動方向,不改變運動速度,從而使電子在垂直于磁力線方向的平面上做勻速圓周運動。(3)若v與B既不垂直也不平行,而成一定夾角,則其運動軌跡為螺旋線。28電子光學基礎(chǔ)如何使運動的電子在磁場中會聚?軸對稱的磁場29電子光學基礎(chǔ)電磁透鏡聚焦原理示意圖1ab30電子光學基礎(chǔ)電磁透鏡聚焦原理示意圖2c31電子光學基礎(chǔ)玻璃凸透鏡聚焦電磁透鏡聚焦原理示意圖3d32電子光學基礎(chǔ)

與光學透鏡相似,電磁透鏡的物距、像距和焦距三者之間的關(guān)系式及放大倍數(shù)為:

1/f=1/L1+1/L2M=L2/L1M=f/(L1-f)f-焦距;L1-物距;L2-像距;M-放大倍數(shù)

33電子光學基礎(chǔ)電磁透鏡的焦距可由下式近似計算

f=K[Ur/(IN)2] K-常數(shù);

Ur-經(jīng)相對論校正的電子的加速電壓; (IN)-電磁透鏡激磁安匝數(shù)(勵磁強度,為電流強度I和線圈匝數(shù)N之積)。34電子光學基礎(chǔ)無論激磁方向如何,激磁焦距總是正的。改變激磁電流,電磁透鏡的焦距和放大倍數(shù)將發(fā)生相應改變。電磁透鏡是一種變焦距或變倍率的會聚透鏡,這是它有別于光學玻璃凸透鏡的一個特點。35電子光學基礎(chǔ)帶有軟磁殼的電磁透鏡示意圖極靴組件分解磁感應強度分布圖實際應用中的電磁透鏡示意圖36電子光學基礎(chǔ)(2)電磁透鏡的缺陷電子波波長很短,在100KV的加速電壓下,電子波波長為0.037?,用這樣短波長的電子波做顯微鏡的照明源,根據(jù)Δr0=1/2λ

顯微鏡的最小分辨率可達0.02?左右。 然而到目前為止,電鏡的最佳分辨率仍停留在1-2?的水平。Why?37電子光學基礎(chǔ)像差分成兩類,即幾何像差和色差。幾何像差是因為透鏡磁場幾何形狀上的缺陷而造成的,幾何像差主要指球差和像散色差是由于電子波的波長或能量發(fā)生一定幅度的改變而造成的。原因:電磁透鏡存在像差38電子光學基礎(chǔ)a、球差(球面像差)

球差是由于電磁透鏡中心區(qū)域和邊緣區(qū)域磁場強度的差異,從而造成對電子會聚能力不同而造成的。遠軸電子通過透鏡時被折射得比近軸電子要厲害得多,因而由同一物點散射的電子經(jīng)過透鏡后不交在一點上,而是在透鏡像平面上變成了一個漫射圓斑。最小散焦斑39電子光學基礎(chǔ)b.像散像散是由于透鏡的磁場軸向不對稱所引起的一種像差。磁場不同方向?qū)﹄娮拥恼凵淠芰Σ灰粯?,電子?jīng)透鏡后形成界面為橢圓狀的光束,使圓形物點的像變成了一個漫射圓斑。40電子光學基礎(chǔ)C、色差色差是由于成像電子的能量或波長不同而引起的一種像差。能量大的電子在距透鏡中心比較遠的地點聚焦,而能量較低的電子在距透鏡中心比較近的地點聚焦。結(jié)果使得由同一物點散射的具有不同能量的電子經(jīng)透鏡后不再會聚于一點,而是在像面上形成一漫射圓斑。41電子光學基礎(chǔ)由于上述像差的存在,雖然電子波長只有光波長的十萬分之一左右,但尚不能使電磁透鏡的分辨率提高十萬倍。42電子光學基礎(chǔ)(3)電磁透鏡的景深和焦長a.景深

透鏡的景深是指在保持像清晰的前提下,試樣在物平面上下沿鏡軸可移動的距離(或者說試樣超越物平面所允許的厚度)。 換言之,在景深范圍內(nèi),樣品位置的變化并不影響物像的清晰度。43電子光學基礎(chǔ)

從原理上講,當透鏡的焦距一定時,物距和像距的值是確定的,這時只有一層樣品平面與透鏡的理想物平面相重合。

為什么還存在景深?44電子光學基礎(chǔ)

偏離理想物平面的特點都存在一定程度的失焦,它們在透鏡的像平面上將產(chǎn)生一個具有一定尺寸的失焦圓斑。如果失焦圓斑的尺寸不超過由衍射效應和像差引起的散焦斑,則不會影響電鏡的分辨率。

因為衍射和像差的存在45電子光學基礎(chǔ)

如果把透鏡物平面允許的軸向偏差定義為透鏡的景深,用Df表示。則景深大小Df與物鏡的分辨率Δr0、孔徑半角α用下式表示:

Df=2Δr0/α

上式表明,電磁透鏡的孔徑半角越小,景深越大;分辨率越大,景深越大。46電子光學基礎(chǔ)

一般電磁透鏡的α=10-2-10-3rad,因此

Df=(2002000)Δr0

若Δr0=1nm, 則Df=200—2000nm

即電子顯微鏡對于高度相差在200nm的物體,可以同時聚焦在成像平面上。47電子光學基礎(chǔ)b.焦長 焦深(或焦長)是指在保持像清晰的前提下,像平面沿鏡軸可移動的距離,或者說觀察屏或照相底版沿鏡軸所允許的移動距離。48電子光學基礎(chǔ)

同樣,當透鏡焦距和物距一定時,像平面沿軸向一定距離內(nèi)移動,也會引起失焦。但如果所引起的失焦尺寸不大于其他原因所引起的散焦斑大小,則對透鏡的分辨率沒有影響。

DL=2Δr0M2/α=Df·M249電子光學基礎(chǔ)一般的電鏡焦長都超過10-20cm。因此,只要圖象在顯示屏上是清晰的,那么在屏的上下10cm范圍放置膠片,得到的圖象依然是清晰的。50電子光學基礎(chǔ)偏光、反光、錐光…電子衍射裝置、特征X射線波譜儀、特征X射線能譜儀、俄歇電子譜儀主要附件光學透射、反射、干涉像透射電子像、二次電子像、背散射電子像、吸收電子像、X射線面掃描像、X射線線掃描像主要圖象彩色或黑白黑白灰度圖象特點機械聚焦電子聚焦、計算機控制聚焦原理1000倍時0.1um1000倍時30um景深10-2000換鏡頭10-1百萬,連續(xù)可調(diào)放大倍數(shù)可見光區(qū)2000?紫外光區(qū)1000?10?分辨率光學透鏡(玻璃透鏡)電子透鏡(電磁鐵)透鏡大氣真空10-4-10-8托媒介可見光4000-7500?電子束波長<0.037?光源光學透鏡電磁透鏡4電磁透鏡與光學顯微鏡的比較51電子光學基礎(chǔ)包括以下三種類型的儀器: 掃描電子顯微鏡ScanningElectronMicroscopy(SEM) 透射電子顯微鏡TransparentElectronMicroscopy(TEM) 電子探針ElectronProbeMicroscopicanalyzer(EPMA)四、電子顯微鏡的類型及用途52電子光學基礎(chǔ)掃面電子顯微鏡(JSM-35CF)環(huán)境掃描電子顯微鏡(QUANTA2000)

日本電子公司飛利普公司

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