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文檔簡介
半導(dǎo)體物理習(xí)題解答
1-1.(P32)設(shè)晶格常數(shù)為a的一維晶格,導(dǎo)帶極小值附近能量Ec(k)和價帶極大值附近能量民(k)分別
為:
h2k2/("ZD
E&k)=-------+---------------
6加0mo
曲為電子慣性質(zhì)量,ki=l/2a;a=0.314nm?試求:
①禁帶寬度;
②導(dǎo)帶底電子有效質(zhì)量;
③價帶頂電子有效質(zhì)量;
④價帶頂電子躍遷到導(dǎo)帶底時準動量的變化。
[解]①禁帶寬度Eg
根據(jù)空出2=2hk+2”(kkJ=0;可求出對應(yīng)導(dǎo)帶能量極小值E,”“的在值:
dk3m。
3
k111n=—kt,
41
為
由題中艮式可得:EBin=Ec(K)|k=k.in=----k;
4mo
由題中E、式可看出,對應(yīng)價帶能量極大值Emax的k值為:人=0;
并且E?in=EY(k)Ik=kw=%";/.Eg=Emin—£^=h2k^_h2
6mo12mo48叫。2
___________(6.62xIQ-27)2
=0.64eV
48x9.1xl0-28x(3.14xl0-8)2xl.6xl0-11
②導(dǎo)帶底電子有效質(zhì)量m.
2
d2E_2h22h防2m產(chǎn)-噌=%。
c------1------=------;
dk28°
dk3mom03m0
③價帶頂電子有效質(zhì)量巾'
輯=_紇牛」
22
dkm()dk6
④準動量的改變量
33/z
hAk=h(knin-kmax)~—/zAj=--------
48a
[畢]
1-2.(P33)晶格常數(shù)為0.25nm的一維晶格,當(dāng)外加l()2v/m,I0,V/m的電場時,試分別計算電子自能帶底
運動到能帶頂所需的時間。
dkh
[解]設(shè)電場強度為E,???F=h——二qE(取絕對值)Adt=——dk
dtqE
f'Jhh1
,t=dt=\2a—dk=-----代入數(shù)據(jù)得:
JoJoqEqE2a
________6.62xIO"__________8,3xIQ-6
2xl.6xlO-|9x2.5xlO-1°xE'E~
當(dāng)E=l()2v/m時,t=8.3Xl()-8(s).E=I(rv/m時,t=8.3Xl()r3(s)。[畢]
3-7.(Pw)①在室溫下,錯的有效狀態(tài)密度Nc=L05X10%ms,Nv=5.7X10'W3,試求錯的載流子有效
質(zhì)量rn;和mp*。計算77k時的Nc和Nv。己知300k時,Eg=0.67eV。77k時Eg=O.76eV。求這兩個溫度時褚
的本征載流子濃度。②77k,褚的電子濃度為10“cmT,假定濃度為零,而Ec-ED=0.01eV,求錯中施主濃度N”
為多少?
[解]①室溫下,T=300k(27℃),ko=1.38OXlO_23J/K,h=6.625X10-34J?S,
對于錯:Nc=1.05X1019cm-3,Nv=5.7X10IBcm-3:
#求300k時的Nc和Nv:
根據(jù)(3—18)式:
342105x109
力2(竺戶(6.625x1O-)(-,)3
2(2萬.成人。
nm=——2_=-----------------2------=5.0968x10-31.根據(jù)
下'2萬?島T2x3.14xl.38xl0-23x300
(3—23)式:
32z^Vv|s-34,2/5.7xl0”:
2(2〃.〃溫TP*力(2(6625x10)()
------2一n機“=——2—=----------------1=3.39173xIO-31Kg#求77k
3p
hIn-k0T2x3.14x1.38x10-23x300----------------°
時的Nc和Nv:
同理:
#求300k時的ni:
求77k時的rii:
八久??八T9
19l8:X-7
n,.=(NcNvVexp(——^-)=(1.05xl0x5.7xl0)exp(——~23——)=1.094xl0②
2女0T2x1.38x10x77
77k時,由(3-46)式得到:
Ec-Eu=0.OleV=0.01X1.6X1015;T=77k;k0=1.38X10依;必=10";Nc=1.365X10%m";
』(EC_ED2cr,N7/0.01x1.6x10-19
L[nNoe*()]x2[10xexp(------------)]x2
N--------翌----=-----*2xl.38x%——=6.6x101%
Nc1.365x1019
[畢]
3-8.(P82)利用題7所給的Nc和Nv數(shù)值及Eg=0.67eV,求溫度為300k和500k時,含施主濃度ND=5
,53
X10cm-.受主濃度NA=2X109cm-3的錯中電子及空穴濃度為多少?
1533
[解Jl)T=300k時,對于錯:ND=5X10cm-,NA=2X109cm:
%=(NcNvYexp(-毫;)=1.96x1013cm3;
〃o=ND-NA5X10I5-2X109?5X1015;
n0?n,.;
n;_(1.96x1()13)2
Po?7.7xlOlo
%一5xl015;
2)T=300k時:
Eg(500)=Eg(0)-=0.7437--74x10xSOCT“Q58132eV
6T+/3500+235
查圖3-7(PR可得:%?2.2xl016,屬于過渡區(qū),
(N“-3)+[(7%-凹)2+4〃門2
=2.464x10,%
2
p0="=1.964x10"
?o
(此題中,也可以用另外的方法得到
N;=(M、)*x5002;N;=(M>)啜一x5002.%=(NCNV/exp(—^-)求得n。
300230022%裹
[畢1
3-11.(P?2)若楮中雜質(zhì)電離能△氏=0.01eV,施主雜質(zhì)濃度分別為N“=10"cmT及1017cm-3,計算(1)99%電
離,(2)90%電離,(3)50%電離時溫度各為多少?
[解]未電離雜質(zhì)占的百分比為:
\E^DNC
D小也=>D
Nck0Tk/2ND
求得:
\E0.01
Dxl.6xl0-19=116;
Ij7-1.38x1023
3
116,DNc,/DX2X10,5XT21015-
’——=In—=—=ln()=ln(0/2)
T2NDND
:1
(1)ND=10"cm,99%電離,即D=l-99%=0.01
即:—=-lnr-2.3
T2
將ND=1OI7CHT3,D_=0.01代入得:
1163,T
即:----=—In7-9.2
T2
⑵90%時,D_=0.1
1163,.
即:----=—InT
T2
11z:o
ND=10%nr3得:——=—lnT-31nlO
T2
即:—--lnT-6.9;
T2
(3)50%電離不能再用上式
.._+_ND
即:NDND
】+3xP(號)】+2exP"號)
£d£f££f
...exp(~)=4exp(-°~)
k°Tk*
即:EF=ED-k^\n2
取對數(shù)后得:
整理得下式:
kJ2NckJNc
AE,Nc
即:一生D=ln——
k°T必
當(dāng)ND=10W時,
得江="7+3
T2
當(dāng)N,.=1017cm3時L^=」lnT—3.9
T2
此對數(shù)方程可用圖解法或迭代法解出。
[畢1
3-14.(P82)計算含有施主雜質(zhì)濃度ND=9XlO/m-3及受主雜質(zhì)濃度為IJX1016cm-3的硅在300k時的電子
和空穴濃度以及費米能級的位置。
l531633
[解]對于硅材料:ND=9X10cm-;NA=l.lX10cm-;T=300k時ni=1.5XlO'W:
p0=NA-ND=2X105-3;
Po=S—N"且Po=Nv?exp(J
K()/
NA~N口(Ev-EF
N-N02x1()16
E=EV-kTIn」——左=Ev-0.026In------(eV)=Ev-0.224eV
「F°nNvl.lxlO19
闡
3-18.(P82)摻磷的n型硅,已知磷的電離能為0.04eV,求室溫下雜質(zhì)一般甩離時費米能級的位置和磷的
濃度。
[解]n型硅,△Ec>=0.044eV,依題意得:
ND
=0.5N。
£
l+2exp(-^~75-)
.*.1+2e*(--——)=2=>exp(--~~—)=—
kaT物kJ2
ED-E卜.=—In—=&0TIn2E口——E卜,~In2
???AED=EC-ED=0.044
一即
EF=ECTin2—0.044=>-£c=-A:0Tln2-0.044=0.062eV
[畢]
3-19.(P82)求室溫下?lián)巾膎型硅,使EF=(EC+ED)/2時的睇的濃度。己知睇的電離能為0.039eV。
[解]由=絲土殳可知,EF>ED,VEF標志電子的填充水平,故ED上幾乎全被電子占據(jù),又...在室溫
2
下,故此n型Si應(yīng)為高摻雜,而且己經(jīng)簡并了。
???\ED=EC-ED=0.039eV
即0<%一辱<2;故此n型Si應(yīng)為弱簡并情況。
+ND心
…。=--------^7=----------AET
l+2exp(F蘆)i+2exp(京)
2NcEc—EnEP—Er
ND忑口+2expy產(chǎn)x?虧)
半[1+2exp」;/)exp)]xF,(辱/)
V冗k/2k/
2Ng,.00195、/0.039、].-0.0195,
1+2exp(----------)exp(-------)xF,(-----------)
4TT0.0260.026:0.026
2x2.8x10'-[1+2exp(0-0195)]xF,(~°,0195)?6.6X1019(C//Z-3)
品0.02610,026
其中工(一0.75)=0.4
2
闡
3-20.(P82)制造晶體管一般是在高雜質(zhì)濃度的n型襯底上外延一層n型的外延層,再在外延層中擴散硼、
磷而成。①設(shè)n型硅單晶襯底是摻睇的,睇的電離能為0.039eV,300k時的EF位于導(dǎo)帶底下面0.026eV處,
計算睇的濃度和導(dǎo)帶中電子濃度。
[解]①根據(jù)第19題討論,此時Ti為高摻雜,未完全電離:
OvEc—Ep=0.026<0.052=2kaT,即此時為弱簡并
l+2exp(^^)
k/
其中"(-1)=0.3
2
闡
4-1.(P1l3)300K時,Ge的本征電阻率為47Q?cm,如電子和空穴遷移率分別為3900cm2/V?S和
1900cm2/V?S,試求本征Ge的載流子濃度。
22
[解]T=300K,P=47Q?cm,u?=3900cm/V?S,uP=1900cm/V?S
p—-------------nn;=-------------=----------------------T-:--------------------2.29x10l3c/??3[畢]
〃/(〃“+/)'的(〃“+/)47x1.602x10-|9(3900+1900)
4-2.(P“3)試計算本征Si在室溫時的電導(dǎo)率,設(shè)電子和空穴遷移率分別為1350cm2/V?S和500cm2/V?S。
當(dāng)摻入百萬分之一的As后,設(shè)雜質(zhì)全部電離,試計算其電導(dǎo)率。比本征Si的電導(dǎo)率增大了多少倍?
[解]T=300K,,u?=1350cm2/V?S,u?=500cm2/V?S
摻入As濃度為ND=5.00X1022X1O$=5.OOX1016cm3
雜質(zhì)全部電離,N,>>>n;,查P89頁,圖4—14可查此時u“=900cm2/V?S
闡
4-13.(Pll4)摻有1.1X101653硼原子和9X10”cm。磷原子的Si樣品,試計算室溫時多數(shù)載流子和少數(shù)
載流子濃度及樣品的電阻率。
[解]NA=1.1X10'6cm3,ND=9X1015cm3
可查圖4—15得到夕=7Q?cm
(根據(jù)N.+N。=2xl()i6cmT,查圖4—14得p,然后計算可得。)
[畢]
4-15.(Ptl4)施主濃度分別為1013和10"cm-3的兩個Si樣品,設(shè)雜質(zhì)全部電離,分別計算:①室溫時的電
導(dǎo)率。
[解]ni=10”cm-3,T=300K,
n2=10"cm-3時,查圖可得〃“=800Q-cm
[畢]
5-5.(P%)n型硅中,摻雜濃度ND=10/nr3,光注入的非平衡載流子濃度An=△p=10%m'計算無光
照和有光照時的電導(dǎo)率。
[解]
l63
n-Si,ND=10cm-,An=Ap=10'W\查表4-14得到:?1200,//p=40():
無光照:=冊〃/“=1()I6XL602X10T9X1200?1.92(S/c/n)
An=Ap?ND.為小注入:
有光照:
[畢]
5-7.(Pu4)摻施主雜質(zhì)的ND=10/nr3n型硅,由于光的照射產(chǎn)生了非平衡載流子An=Ap=10“cm3。試
計算這種情況下準費米能級的位置,并和原來的費米能級做比較。
[解]
n-Si,ND=10l5cm-3,An=Ap=10"cm'\
光
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