高新技術(shù)企業(yè)管理規(guī)章制度

高新技術(shù)企業(yè)管理規(guī)章制度第一章總則第一條為扶持和激勵(lì)高新技術(shù)企業(yè)發(fā)展,依照<中華人民共和國(guó)企業(yè)所得稅法>(以下稱(chēng)<企業(yè)所得稅法>)、<中華人民共和國(guó)企業(yè)所得稅法實(shí)施條例>(以下稱(chēng)<實(shí)施條例>)關(guān)于要求,特制訂本方法。第二條本方法所稱(chēng)高新技術(shù)企業(yè)是指:在<國(guó)家重點(diǎn)支持高新技術(shù)領(lǐng)域>(見(jiàn)附件)內(nèi),連續(xù)進(jìn)行研究開(kāi)發(fā)與技術(shù)結(jié)果轉(zhuǎn)化,形成企業(yè)關(guān)鍵自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),并以此為基礎(chǔ)開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng),在中國(guó)境內(nèi)(不包含港、澳、臺(tái)地域)注冊(cè)一年以上居民企業(yè)。第三條高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作應(yīng)突出企業(yè)主體、激勵(lì)技術(shù)創(chuàng)新、實(shí)施動(dòng)態(tài)管理、堅(jiān)持公平公正標(biāo)準(zhǔn)。第四條依據(jù)本方法認(rèn)定高新技術(shù)企業(yè),可依照<企業(yè)所得稅法>及其<實(shí)施條例>、<中華人民共和國(guó)稅收征收管理法>(以下稱(chēng)<稅收征管法>)及<中華人民共和國(guó)稅收征收管理法實(shí)施細(xì)則>(以下稱(chēng)<實(shí)施細(xì)則>)等關(guān)于要求,申請(qǐng)享受稅收優(yōu)惠政策。第五條科技部、財(cái)政部、稅務(wù)總局負(fù)責(zé)指導(dǎo)、管理和監(jiān)督全國(guó)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定工作。第二章組織與實(shí)施第六條科技部、財(cái)政部、稅務(wù)總局組成全國(guó)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作領(lǐng)導(dǎo)小組(以下稱(chēng)”領(lǐng)導(dǎo)小組”),其主要職責(zé)為:(一)確定全國(guó)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作方向,審議高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作匯報(bào);(二)協(xié)調(diào)、處理認(rèn)定及相關(guān)政策落實(shí)中重大問(wèn)題;(三)裁決高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定事項(xiàng)中重大爭(zhēng)議,監(jiān)督、檢驗(yàn)各地域認(rèn)定工作;(四)對(duì)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定工作出現(xiàn)重大問(wèn)題地域,提出整改意見(jiàn)。第七條領(lǐng)導(dǎo)小組下設(shè)辦公室。辦公室設(shè)在科技部,其主要職責(zé)為:(一)提交高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作匯報(bào);(二)組織實(shí)施對(duì)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作檢驗(yàn);(三)負(fù)責(zé)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定工作教授資格立案管理;(四)建立并管理”高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作網(wǎng)”;(五)領(lǐng)導(dǎo)小組交辦其它工作。第八條各省、自治區(qū)、直轄市、計(jì)劃單列市科技行政管理部門(mén)同本級(jí)財(cái)政、稅務(wù)部門(mén)組成當(dāng)?shù)赜蚋咝录夹g(shù)企業(yè)認(rèn)定管理機(jī)構(gòu)(以下稱(chēng)”認(rèn)定機(jī)構(gòu)”),依照本方法開(kāi)展以下工作:(一)負(fù)責(zé)本行政區(qū)域內(nèi)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定工作;(二)接收企業(yè)提出高新技術(shù)企業(yè)資格復(fù)審;(三)負(fù)責(zé)對(duì)已認(rèn)定企業(yè)進(jìn)行監(jiān)督檢驗(yàn),受理、核實(shí)并處理關(guān)于舉報(bào);(四)選擇參加高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定工作教授并報(bào)領(lǐng)導(dǎo)小組辦公室立案。第九條企業(yè)取得高新技術(shù)企業(yè)資格后,應(yīng)依照本方法第四條要求到主管稅務(wù)機(jī)關(guān)辦理減稅、免稅手續(xù)。享受減稅、免稅優(yōu)惠高新技術(shù)企業(yè),減稅、免稅條件發(fā)生改變,應(yīng)該自發(fā)生改變之日起15日內(nèi)向主管稅務(wù)機(jī)關(guān)匯報(bào);不再符合減稅、免稅條件,應(yīng)該依法推行納稅義務(wù);未依法納稅,主管稅務(wù)機(jī)關(guān)應(yīng)該給予追繳。同時(shí),主管稅務(wù)機(jī)關(guān)在執(zhí)行稅收優(yōu)惠政策過(guò)程中,發(fā)覺(jué)企業(yè)不具備高新技術(shù)企業(yè)資格,應(yīng)提請(qǐng)認(rèn)定機(jī)構(gòu)復(fù)核。復(fù)核期間,可暫停企業(yè)享受減免稅優(yōu)惠。第三章條件與程序第十條高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定須同時(shí)滿(mǎn)足以下條件:(一)在中國(guó)境內(nèi)(不含港、澳、臺(tái)地域)注冊(cè)企業(yè),近三年內(nèi)經(jīng)過(guò)自主研發(fā)、受讓、受贈(zèng)、并購(gòu)等方式,或經(jīng)過(guò)5年以上獨(dú)占許可方式,對(duì)其主要產(chǎn)品(服務(wù))關(guān)鍵技術(shù)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán);(二)產(chǎn)品(服務(wù))屬于<國(guó)家重點(diǎn)支持高新技術(shù)領(lǐng)域>要求范圍;(三)具備大學(xué)專(zhuān)科以上學(xué)歷科技人員占企業(yè)當(dāng)年職員總數(shù)30%以上,其中研發(fā)人員占企業(yè)當(dāng)年職員總數(shù)10%以上;(四)企業(yè)為取得科學(xué)技術(shù)(不包含人文、社會(huì)科學(xué))新知識(shí),創(chuàng)造性利用科學(xué)技術(shù)新知識(shí),或?qū)嵸|(zhì)性改進(jìn)技術(shù)、產(chǎn)品(服務(wù))而連續(xù)進(jìn)行了研究開(kāi)發(fā)活動(dòng),且近三個(gè)會(huì)計(jì)年度研究開(kāi)發(fā)費(fèi)用總額占銷(xiāo)售收入總額百分比符合以下要求:1.最近一年銷(xiāo)售收入小于5,000萬(wàn)元企業(yè),百分比不低于6%;2.最近一年銷(xiāo)售收入在5,000萬(wàn)元至20,000萬(wàn)元企業(yè),百分比不低于4%;3.最近一年銷(xiāo)售收入在20,000萬(wàn)元以上企業(yè),百分比不低于3%。其中,企業(yè)在中國(guó)境內(nèi)發(fā)生研究開(kāi)發(fā)費(fèi)用總額占全部研究開(kāi)發(fā)費(fèi)用總額百分比不低于60%。企業(yè)注冊(cè)成立時(shí)間不足三年,按實(shí)際經(jīng)營(yíng)年限計(jì)算;(五)高新技術(shù)產(chǎn)品(服務(wù))收入占企業(yè)當(dāng)年總收入60%以上;(六)企業(yè)研究開(kāi)發(fā)組織管理水平、科技結(jié)果轉(zhuǎn)化能力、自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)數(shù)量、銷(xiāo)售與總資產(chǎn)成長(zhǎng)性等指標(biāo)符合<高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作指導(dǎo)>(另行制訂)要求。第十一條高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定程序以下:(一)企業(yè)自我評(píng)價(jià)及申請(qǐng)企業(yè)登錄”高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作網(wǎng)”,對(duì)照本方法第十條要求條件,進(jìn)行自我評(píng)價(jià)。認(rèn)為符合認(rèn)定條件,企業(yè)可向認(rèn)定機(jī)構(gòu)提出認(rèn)定申請(qǐng)。(二)提交以下申請(qǐng)材料1.高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定申請(qǐng)書(shū);2.企業(yè)營(yíng)業(yè)執(zhí)照副本、稅務(wù)登記證(復(fù)印件);3.知識(shí)產(chǎn)權(quán)證書(shū)(獨(dú)占許可協(xié)議)、生產(chǎn)批文,新產(chǎn)品或新技術(shù)證實(shí)(查新)材料、產(chǎn)品質(zhì)量檢驗(yàn)匯報(bào)、省級(jí)以上科技計(jì)劃立項(xiàng)證實(shí),以及其它相關(guān)證實(shí)材料;4.企業(yè)職員人數(shù)、學(xué)歷結(jié)構(gòu)以及研發(fā)人員占企業(yè)職員百分比說(shuō)明;5.經(jīng)具備資質(zhì)中介機(jī)構(gòu)鑒證企業(yè)近三個(gè)會(huì)計(jì)年度研究開(kāi)發(fā)費(fèi)用情況表(實(shí)際年限不足三年按實(shí)際經(jīng)營(yíng)年限),并附研究開(kāi)發(fā)活動(dòng)說(shuō)明材料;6.經(jīng)具備資質(zhì)中介機(jī)構(gòu)鑒證企業(yè)近三個(gè)會(huì)計(jì)年度財(cái)務(wù)報(bào)表(含資產(chǎn)負(fù)債表、損益表、現(xiàn)金流量表,實(shí)際年限不足三年按實(shí)際經(jīng)營(yíng)年限)以及技術(shù)性收入情況表。(三)合規(guī)性審查認(rèn)定機(jī)構(gòu)應(yīng)建立高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定評(píng)審教授庫(kù);依據(jù)企業(yè)申請(qǐng)材料,抽取教授庫(kù)內(nèi)教授對(duì)申報(bào)企業(yè)進(jìn)行審查,提出認(rèn)定意見(jiàn)。(四)認(rèn)定、公告與立案認(rèn)定機(jī)構(gòu)對(duì)企業(yè)進(jìn)行認(rèn)定。經(jīng)認(rèn)定高新技術(shù)企業(yè)在”高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作網(wǎng)”上公告15個(gè)工作日,沒(méi)有異議,報(bào)送領(lǐng)導(dǎo)小組辦公室立案,在”高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作網(wǎng)”上公告認(rèn)定結(jié)果,并向企業(yè)頒發(fā)統(tǒng)一印制”高新技術(shù)企業(yè)證書(shū)”。第十二條高新技術(shù)企業(yè)資格自頒發(fā)證書(shū)之日起使用期為三年。企業(yè)應(yīng)在期滿(mǎn)前三個(gè)月內(nèi)提出復(fù)審申請(qǐng),不提出復(fù)審申請(qǐng)或復(fù)審不合格,其高新技術(shù)企業(yè)資格到期自動(dòng)失效。第十三條高新技術(shù)企業(yè)復(fù)審須提交近三年開(kāi)展研究開(kāi)發(fā)等技術(shù)創(chuàng)新活動(dòng)匯報(bào)。復(fù)審時(shí)應(yīng)重點(diǎn)審查第十條(四)款,對(duì)符合條件,按照第十一條(四)款進(jìn)行公告與立案。經(jīng)過(guò)復(fù)審高新技術(shù)企業(yè)資格使用期為三年。期滿(mǎn)后,企業(yè)再次提出認(rèn)定申請(qǐng),按本方法第十一條要求辦理。第十四條高新技術(shù)企業(yè)經(jīng)營(yíng)業(yè)務(wù)、生產(chǎn)技術(shù)活動(dòng)等發(fā)生重大改變(如并購(gòu)、重組、轉(zhuǎn)業(yè)等),應(yīng)在十五日內(nèi)向認(rèn)定管理機(jī)構(gòu)匯報(bào);改變后不符合本方法要求條件,應(yīng)自當(dāng)年起終止其高新技術(shù)企業(yè)資格;需要申請(qǐng)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定,按本方法第十一條要求辦理。高新技術(shù)企業(yè)更名,由認(rèn)定機(jī)構(gòu)確認(rèn)并經(jīng)公告、立案后重新核發(fā)認(rèn)定證書(shū),編號(hào)與使用期不變。第四章罰則第十五條已認(rèn)定高新技術(shù)企業(yè)有下述情況之一,應(yīng)取消其資格:(一)在申請(qǐng)認(rèn)定過(guò)程中提供虛假信息;(二)有偷、騙稅等行為;(三)發(fā)生重大安全、質(zhì)量事故;(四)有環(huán)境等違法、違規(guī)行為,受到關(guān)于部門(mén)處罰。被取消高新技術(shù)企業(yè)資格企業(yè),認(rèn)定機(jī)構(gòu)在5年內(nèi)不再受理該企業(yè)認(rèn)定申請(qǐng)。第十六條參加高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定工作各類(lèi)機(jī)構(gòu)和人員對(duì)所負(fù)擔(dān)認(rèn)定工作負(fù)有誠(chéng)信以及合規(guī)義務(wù),并對(duì)申報(bào)認(rèn)定企業(yè)關(guān)于資料信息負(fù)有保密義務(wù)。違反高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定工作相關(guān)要求和紀(jì)律,給予對(duì)應(yīng)處理。第五章附則第十七條原<國(guó)家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)外高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定條件和方法>(國(guó)科發(fā)怒字[1996]018號(hào))、原<國(guó)家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定條件和方法>(國(guó)科發(fā)怒字[]324號(hào)),自本方法實(shí)施之日起停頓執(zhí)行。第十八條本方法由科技部、財(cái)政部、稅務(wù)總局負(fù)責(zé)解釋。第十九條科技部、財(cái)政部、稅務(wù)總局另行制訂<高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作指導(dǎo)>。第二十條本方法自1月1日起實(shí)施。附:國(guó)家重點(diǎn)支持高新技術(shù)領(lǐng)域附:輔助降血脂、降血壓、降血糖功效食品;抗氧化功效食品;減肥功效食品;輔助改進(jìn)老年記憶功效食品;功效化傳統(tǒng)食品;以及功效性食品有效成份檢測(cè)技術(shù)和功效因子生物活性穩(wěn)態(tài)化技術(shù);食品安全生物檢測(cè)技術(shù)等。1、鋁、鎂、鈦輕合金材料深加工技術(shù)

環(huán)境保護(hù)、節(jié)能新工藝新技術(shù)生產(chǎn)高純金屬鎂、高潔凈鎂合金和高強(qiáng)度、高韌性、耐腐蝕鋁合金、鎂合金、鈦合金材料,及其在航空、汽車(chē)、信息、高速列車(chē)等行業(yè)應(yīng)用技術(shù);大斷面、中空大型鈦合金及鋁合金板材,鎂及鎂合金液態(tài)鑄軋技術(shù),鎂、鋁、鈦合金線、板、帶、薄板(箔)、鑄件、鍛件、異型材等系列化產(chǎn)品加工與焊接技術(shù),后加工成形技術(shù)和著色、防腐技術(shù)以及相關(guān)配套設(shè)備;精密壓鑄技術(shù)生產(chǎn)高性能鋁合金、鎂合金材及鑄件;鈦及鈦合金低成本生產(chǎn)技術(shù)及其應(yīng)用技術(shù),鈦及鈦合金焊接管生產(chǎn)技術(shù)。*高污染高能耗皮江法生產(chǎn)金屬鎂及鎂合金、常規(guī)鋁合金、仿不銹鋼鋁建材和通常民用鋁制品除外。先進(jìn)高溫合金材料及其民用制品生產(chǎn)技術(shù);超細(xì)晶粒高強(qiáng)度、高韌性、強(qiáng)耐蝕鋼鐵材料生產(chǎn)技術(shù);為提升鋼鐵材料潔凈度、均勻度、組織細(xì)度等影響材料性能,提升冶金行業(yè)資源、能源利用效率,實(shí)現(xiàn)節(jié)能、環(huán)境保護(hù),促進(jìn)鋼鐵行業(yè)可連續(xù)發(fā)展配套相關(guān)材料、部件制造技術(shù);高強(qiáng)度、高韌性、高導(dǎo)性、耐腐蝕、高抗磨、耐高(低)溫等特殊鋼材料、高溫合金材料、工模具材料制造技術(shù);超細(xì)組織鋼鐵材料軋制工藝、先進(jìn)微合金化、高均質(zhì)連鑄坯、高潔凈鋼冶煉工藝,高強(qiáng)度耐熱合金鋼及鑄鍛工藝和焊接技術(shù),高性能碳素結(jié)構(gòu)鋼、高強(qiáng)度低合金鋼、超高強(qiáng)度鋼、高牌號(hào)冷軋硅鋼生產(chǎn)工藝;高性能銅合金材(高強(qiáng)、高導(dǎo)、無(wú)鉛黃銅等)生產(chǎn)技術(shù)、采取金屬橫向強(qiáng)迫塑性變形和冷軋一次成型工藝生產(chǎn)熱交換器用銅及銅合金無(wú)縫高翅片管技術(shù);經(jīng)過(guò)連鑄、拉拔制成合金管線材技術(shù)。高純超細(xì)粉、納米粉體和多功效金屬?gòu)?fù)合粉生產(chǎn)技術(shù),包含銅、鎳、鈷、鋁、鎂、鈦等有色金屬和特殊鐵基合金粉末冶金材料粉體成型和燒結(jié)致密化技術(shù);采取粉末預(yù)處理、燒結(jié)擴(kuò)散制成高性能銅等有色金屬預(yù)合金粉制造技術(shù);高性能、特殊用途鎢、鉬深加工材料及應(yīng)用技術(shù),超細(xì)晶粒(納米晶)硬質(zhì)合金材料及高端硬質(zhì)合金刀具等制造技術(shù)。*超細(xì)鎢粉及碳化鎢粉和傳統(tǒng)工藝生產(chǎn)常規(guī)粉末冶金材料及制品除外。4、低成本、高性能金屬?gòu)?fù)合材料加工成型技術(shù)

耐高壓、耐磨損、抗腐蝕、改進(jìn)導(dǎo)電、導(dǎo)熱性等方面具備顯著優(yōu)勢(shì)金屬與多個(gè)材料復(fù)合新材料及結(jié)構(gòu)件制、熱交換器用銅鋁復(fù)合管材新工藝;低密度、高強(qiáng)度、高彈性模量、耐疲勞顆粒增強(qiáng)、纖維增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料產(chǎn)業(yè)化成型加工技術(shù)以及低成本高性能增強(qiáng)劑生產(chǎn)技術(shù)。*鋁塑復(fù)合管材、鋼(鋁)塑門(mén)窗等通常民用產(chǎn)品除外。5、電子元器件用金屬功效材料制造技術(shù)

制取電容器用高壓、超高比容鉭粉金屬熱還原、球團(tuán)化造粒、熱處理、脫氧等技術(shù);制成超細(xì)徑電容器用鉭絲粉末冶金方法成型燒結(jié)技術(shù);特種導(dǎo)電和焊接用集成電路引線及引線框架材料、電子級(jí)無(wú)鉛焊料、焊球、焊粉、焊膏、賤金屬專(zhuān)用電子漿料制造技術(shù);異形接觸點(diǎn)材料和大功率無(wú)銀觸頭材料制造技術(shù);高磁能積、高內(nèi)稟矯頑力高性能鐵氧體永磁材料和高導(dǎo)磁、低功耗、抗電磁干擾軟磁體材料(高于OP8F、CL11F、PW40牌號(hào)性能)制造技術(shù),片式電感器用高磁導(dǎo)率、低溫?zé)Y(jié)鐵氧體(NiCuZn)、高性能屏蔽材料、鋰離子電池負(fù)極載體、覆銅板用高均勻性超薄銅薄制造技術(shù);電真空用無(wú)夾雜、無(wú)氣孔不銹鋼及無(wú)氧銅材料規(guī)?；a(chǎn)技術(shù)。*常規(guī)電力電工用金屬電線、電纜及漆包線材料,貴金屬漿料及陰極、陽(yáng)極鋁箔等除外。6、半導(dǎo)體材料生產(chǎn)技術(shù)經(jīng)拉晶、切割、研磨、拋光、清洗加工制成直徑大于8英寸超大規(guī)模集成電路用硅單晶及拋光片和外延片加工技術(shù);太陽(yáng)能電池用大直徑(8英寸)硅單晶片拉晶技術(shù);低成本、低能耗多晶硅材料及產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化技術(shù);大直徑紅外光學(xué)鍺單晶材料及大面積寬帶隙半導(dǎo)體(氮化鎵、碳化硅、氧化鋅等)單晶和外延材料制造技術(shù)。高純銅、高純鎳、高純鈷、高純銀、高純銠、高純鉍、高純銻、高純銦、高純鎵等高純及超純有色金屬材料精煉提純技術(shù)等。7、低成本超導(dǎo)材料實(shí)用化技術(shù)

實(shí)用化超導(dǎo)線材、塊材、薄膜制備技術(shù)和應(yīng)用技術(shù)。8、特殊功效有色金屬材料及應(yīng)用技術(shù)

形狀記憶鈦鎳合金、銅合金材及制品;高阻尼銅合金材;高電位、高電容量鎂犧牲陽(yáng)極;高性能新型釋汞、吸汞、吸氣材料等。9、高性能稀土功效材料及其應(yīng)用技術(shù)

高純度稀土氧化物和稀土單質(zhì)分離、提取無(wú)污染、生產(chǎn)過(guò)程廢棄物綜合回收新工藝技術(shù);生產(chǎn)高性能燒結(jié)釹鐵硼永磁材料和各向異性粘結(jié)釹鐵硼永磁材料及新型稀土永磁材料新工藝技術(shù);新型高性能稀土發(fā)光顯示材料,LCD顯示器用稀土熒光粉、PDP顯示器用低壓(電壓幾百伏)熒光粉和綠色節(jié)能電光源材料制備和應(yīng)用技術(shù),高亮度、長(zhǎng)余輝紅色稀土貯光熒光粉制備和應(yīng)用技術(shù);大尺寸稀土超磁致伸縮材料及應(yīng)用技術(shù);稀土激光晶體和玻璃稀土精密陶瓷材料,稀土磁光存放材料,稀土磁致冷材料和巨磁阻材料,稀土生物功效材料制備和應(yīng)用技術(shù)。應(yīng)用于燃?xì)?、石化和環(huán)境保護(hù)領(lǐng)域新型高效稀土催化劑和滿(mǎn)足歐Ⅳ標(biāo)準(zhǔn)稀土汽車(chē)尾氣催化劑制造技術(shù);高性能稀土鎂、鋁、銅等有色金屬材料熔鑄加工技術(shù);用于集成電路、平面顯示、光學(xué)玻璃高純、超細(xì)稀土拋光材料制備技術(shù)。*性能為N45以下和磁能積加內(nèi)稟矯頑力之和小于60常規(guī)燒結(jié)NdFeB永磁體,燈用三基色熒光粉、綠黃色長(zhǎng)余輝稀土發(fā)光粉和普通CRT熒光粉除外。10、金屬及非金屬材料先進(jìn)制備、加工和成型技術(shù)

用來(lái)制造高性能、多功效高精、超寬、薄壁、特細(xì)、超長(zhǎng)新型材料及先進(jìn)加工和成形技術(shù);超細(xì)和納米晶粒組織快速凝固制造技術(shù)及超大形變加工技術(shù);高速、高精、超寬、薄壁連鑄連軋和高度自動(dòng)化生產(chǎn)板、帶、箔技術(shù);金屬半固態(tài)成型和近終成型技術(shù);短流程生產(chǎn)工藝技術(shù);超細(xì)、高純、低氧含量、無(wú)(少)夾雜合金粉末制備技術(shù),以及實(shí)現(xiàn)致密化、組織均勻化、結(jié)構(gòu)功效一體化或梯度化粉末冶金成型與燒結(jié)技術(shù)(包含機(jī)械合金化粉末,快速凝固非晶納米晶粉末,高壓水及限制式惰性氣體氣霧化粉末;溫壓成型、注射成型、噴射成型、熱等靜壓成型、高速壓制等成型;壓力燒結(jié)、微波、激光、放電、等離子等快速致密化燒結(jié)技術(shù)及低溫?zé)Y(jié));摩擦焊接技術(shù);物理和化學(xué)表面改性技術(shù)。*常規(guī)鑄造、常規(guī)機(jī)加工項(xiàng)目,電弧噴涂、鍍鋅磷化、電鍍硬鉻(銅)、火焰噴涂、噴焊、滲氮滲碳等中低級(jí)表面工程技術(shù)用以修復(fù)部件項(xiàng)目除外。(二)無(wú)機(jī)非金屬材料1、高性能結(jié)構(gòu)陶瓷強(qiáng)化增韌技術(shù)

制造強(qiáng)度高、耐高溫、耐磨損、耐腐蝕、耐沖刷、抗氧化、耐燒蝕等優(yōu)越性能結(jié)構(gòu)陶瓷超細(xì)粉末制備技術(shù)、控制燒結(jié)工藝和晶界工程及強(qiáng)化、增韌技術(shù);當(dāng)代工業(yè)用陶瓷結(jié)構(gòu)件制備技術(shù);可代替進(jìn)口和特殊用途高性能陶瓷結(jié)構(gòu)件制備技術(shù);有主要應(yīng)用前景高性能陶瓷基復(fù)合材料和超硬復(fù)合材料制備技術(shù);陶瓷-金屬?gòu)?fù)合材料,高溫過(guò)濾及凈化用多孔陶瓷材料,連續(xù)陶瓷纖維及其復(fù)合材料制備技術(shù),高性能、細(xì)晶氧化鋁產(chǎn)品,低溫復(fù)相陶瓷產(chǎn)品、碳化硅陶瓷產(chǎn)品等制備技術(shù)。2、高性能功效陶瓷制造技術(shù)

經(jīng)過(guò)成份優(yōu)化調(diào)整,生產(chǎn)高性能功效陶瓷粉末制備、成型及燒結(jié)工藝控制技術(shù),包含大規(guī)模集成電路封裝、貼片專(zhuān)用高性能電子陶瓷材料制造技術(shù);微電子和真空電子用新型高頻高導(dǎo)熱絕緣陶瓷材料制造技術(shù);新型微波器件及電容器用介電陶瓷和鐵電陶瓷材料制造技術(shù);傳感器和執(zhí)行器用各類(lèi)敏感功效陶瓷材料制造技術(shù);激光元件(激光調(diào)制、激光窗口等)用功效陶瓷材料制造技術(shù);光傳輸、光轉(zhuǎn)換、光放大、紅外透過(guò)、光開(kāi)關(guān)、光存放、光電耦合等用途光功效陶瓷、薄膜制造技術(shù)等。3、人工晶體生長(zhǎng)技術(shù)

新型非線性光學(xué)晶體、激光晶體材料制備技術(shù);高機(jī)電耦合系數(shù)、高穩(wěn)定性鐵電、壓電晶體材料制備技術(shù);特殊應(yīng)用光學(xué)晶體材料制備技術(shù);低成本高性能類(lèi)金剛石膜和金剛石膜制品制備技術(shù);衰減時(shí)間短、能量分辨率高、光產(chǎn)額高新型閃爍晶體材料制備技術(shù)等。*鉭酸鋰、鈮酸鋰、釩酸釔、六面頂金剛石、藍(lán)寶石