拋光知識及拋光技能

拋光工序基礎(chǔ)知識一、拋光的本質(zhì):拋光的過程是十分復(fù)雜的，經(jīng)過大量的實驗研究，大致可以歸納為三種理論：機械磨削理論、化學(xué)作用理論和熱的表面流動理論。迄今為止，一種綜合性的觀點被人們所承認，即拋光的本質(zhì)是機械、化學(xué)和物理三種作用的錯綜復(fù)雜的過程。二、拋光的目的：光學(xué)零件的拋光是獲得光學(xué)表面最主要的工序。目的一：去除精磨的破壞層，達到規(guī)定的表面質(zhì)量要求。目的二：精修面型，達到圖紙要求的光圈和局部光圈，最后形成透明規(guī)則的表面。三、影響拋光效率的工藝因素拋光機轉(zhuǎn)速和壓力。在高速拋光中速度和壓力的增加與拋光速率的提高近似成線形關(guān)系。拋光液的影響。實驗表明，對于聚氨酯模，液溫在30?35之間為宜；拋光液的濃度從0?15%拋光速率成線形增加，當(dāng)超過30%時反而降低；拋光液的酸度，對拋光質(zhì)量、拋光速率和加工表面的腐蝕影響都很大，通常PH值應(yīng)控制在6~7之間的弱酸性為好；拋光液的供給量，流量過大或過小拋光速率都降低，其大小應(yīng)與拋光液的濃度和溫度等參數(shù)配合；拋光粉的粒度，其粒度應(yīng)根據(jù)表面疵病要求選擇，一般表面疵病要求較高時，采用粒度較細的拋光粉。玻璃種類及精磨后的表面粗糙度等，對拋光效率和零件的表面質(zhì)量都有重要影響。拋光技能光圈的識別：a）三個概念：1、被檢光學(xué)表面的曲率半徑相對于參考表面曲率半徑的偏差稱半徑偏差。2、被檢光學(xué)表面與參考光學(xué)表面在兩個相互垂直方向上產(chǎn)生的光圈數(shù)不等所對應(yīng)的偏差稱像散偏差。3、被檢光學(xué)表面與參考光學(xué)表面在任一方向上所產(chǎn)生的干涉條紋的局部不規(guī)則程度稱局部偏差。半徑偏差 像散偏差局部偏差b）高低光圈的判定高光圈：為正..i.周邊加壓時，光帶向邊緣移動。ii. 一邊加壓時，光帶中心和施力點一致。

周邊加壓flh周邊加壓一側(cè)加壓低光圈：為負周邊加壓時，光帶向中心移動。一邊加壓時，光帶中心和施力點相反。周邊加壓2、光圈的度量1）在光圈數(shù)多的情況下紋數(shù)的一半來度量。AV周邊加壓2、光圈的度量1）在光圈數(shù)多的情況下紋數(shù)的一半來度量。川一側(cè)加壓N=3 N=3 N=2以有效檢驗范圍內(nèi)直徑方向上最多條N=3 N=3 N=2N=12）在光圈數(shù)少的情況下，光圈數(shù)以通過直徑方向上干涉條紋的彎曲量h相對于條紋的間距H的比值來度量。N=h/H3）象散光圈的度量a、以兩個相互垂直方向上的光圈數(shù)N的最大代數(shù)差的絕對值來度量?；栊腘=3AN=I3-2I=1 N=2aN=I2-（-1）I=34象散光圈數(shù)少時的判斷在樣板的相互垂直方向上作周邊加壓或一側(cè)加壓，當(dāng)N>1時光圈呈橢圓；當(dāng)N<1時，兩垂直方向上