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半導(dǎo)體物理基礎(chǔ)
1關(guān)于能帶的幾個(gè)基本概念能帶(energyband)包括允帶和禁帶。允帶(allowedband):允許電子能量存在的能量范圍。禁帶(forbiddenband):不允許電子存在的能量范圍。允帶又分為空帶、滿帶、導(dǎo)帶、價(jià)帶。空帶(emptyband):不被電子占據(jù)的允帶。滿帶(filledband):允帶中的能量狀態(tài)(能級(jí))均被電子占據(jù)。導(dǎo)帶(conductionband):電子未占滿的允帶(有部分電子。)價(jià)帶(valenceband):被價(jià)電子占據(jù)的允帶(低溫下通常被價(jià)電子占滿)。2導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體的能帶3空穴硅二維晶格結(jié)構(gòu)在0k時(shí),所有的外層價(jià)電子都處于共價(jià)鍵中(處于價(jià)帶中,滿帶),因而不能導(dǎo)電。E熱激發(fā),一個(gè)電子打破共價(jià)鍵而游離,成為準(zhǔn)自由電子在電場(chǎng)作用下,空位的移動(dòng)形成電流。電子躍遷后留下的空位叫空穴4空穴的主要特征:荷正電:+q;空穴濃度表示為p(電子濃度表示為n);EP=-En(能量方向相反)mP*=-mn*空穴的意義:可以把價(jià)帶大量電子的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)用很少的空穴的運(yùn)動(dòng)表示出來(lái)??昭‥k5有效質(zhì)量問題:什么叫質(zhì)量?如何測(cè)量一個(gè)物體的質(zhì)量?
F=ma質(zhì)量(慣性)是和作用力改變運(yùn)動(dòng)狀態(tài)有關(guān)的量。對(duì)于晶格中的某一個(gè)電子來(lái)說:Fint非常復(fù)雜,難以確定。因而我們將公式簡(jiǎn)寫為:其中加速度a直接與外力有關(guān)。參數(shù)m*對(duì)外力Fext表現(xiàn)出類似于慣性質(zhì)量的性質(zhì),叫做有效質(zhì)量。所謂有效是指:“有效”的意義在于“它是有效的,但不是真實(shí)的”6費(fèi)米分布函數(shù)與費(fèi)米能級(jí)能量為E的電子態(tài)能被電子占據(jù)的幾率服從Fermi-Dirac分布:—空穴的費(fèi)米分布函數(shù)
沒有被電子占有的幾率:7費(fèi)米分布函數(shù)與費(fèi)米能級(jí)8例:量子態(tài)的能量E
比EF
高或低5kT當(dāng)E-EF
5kT
時(shí):f(E)0.007當(dāng)E-EF
-5kT
時(shí):f(E)0.993溫度不很高時(shí):
能量大于EF
的量子態(tài)基本沒有被電子占據(jù)
能量小于EF
的量子態(tài)基本為電子所占據(jù)
電子占據(jù)EF
的概率在各種溫度下總是1/2費(fèi)米分布函數(shù)與費(fèi)米能級(jí)9EF
的意義:
EF的位置比較直觀地反映了電子占據(jù)電子態(tài)的情況。即標(biāo)志了電子填充能級(jí)的水平。EF越高,說明有較多的能量較高的電子態(tài)上有電子占據(jù)。費(fèi)米分布函數(shù)與費(fèi)米能級(jí)10玻爾茲曼分布電子的玻氏分布:11玻爾茲曼分布例如:E-EF=5kT時(shí):12本征Si:所以,導(dǎo)帶底電子滿足玻爾茲曼統(tǒng)計(jì)規(guī)律。玻爾茲曼分布13玻爾茲曼分布空穴的玻氏分布:E↑,空穴占有幾率增加;EF↑,空穴占有幾率下降,即電子填充水平增高。14玻爾茲曼分布服從Fermi分布的電子系統(tǒng)稱為簡(jiǎn)并系統(tǒng)
相應(yīng)的半導(dǎo)體稱為簡(jiǎn)并半導(dǎo)體非簡(jiǎn)并系統(tǒng):服從Boltzmann分布的電子系統(tǒng)相應(yīng)的半導(dǎo)體稱為非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體15熱平衡時(shí)非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度導(dǎo)帶中的電子濃度no:導(dǎo)帶的有效狀態(tài)密度其中:導(dǎo)帶中的電子濃度是Nc
中有電子占據(jù)的量子態(tài)數(shù)。16熱平衡時(shí)非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度價(jià)帶中的空穴濃度po
:其中:——價(jià)帶的有效狀態(tài)密度價(jià)帶中的空穴濃度等于Nv
中有空穴占據(jù)的量子態(tài)數(shù)。17熱平衡時(shí)非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度Nc(cm-3)Nv(cm-3)Si2.8×10191.2×1019
Ge
1.04×1019
6.1×1018
GaAs
4.7×10177×1018
在室溫時(shí):18熱平衡時(shí)非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度影響no和po
的因素1.mdn
和mdp
的影響—材料的影響2.溫度的影響●NC、NV~T●f(EC)
、f(EV)~T19熱平衡時(shí)非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度Nc、Nv
~TT↑,NC、NV↑no、po↑20占據(jù)EC、EV的幾率與T有關(guān)T,幾率
熱平衡時(shí)非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度21熱平衡時(shí)非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度3.EF位置的影響●EF→EC,EC-EF↓,no↑—EF越高,電子的填充水平越高?!?/p>
EF→EV,EF-EV↓,po↑—EF越低,電子的填充水平越低。no和po與摻雜有關(guān),決定于摻雜的類型和數(shù)量。22載流子濃度積nopo
及影響因素?zé)崞胶鈺r(shí)非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度23本征半導(dǎo)體本征半導(dǎo)體:純凈的半導(dǎo)體,電子和空穴濃度相等。n0
=p0
=niFermi能級(jí)Ei
在禁帶中線附近。室溫下(300K)的硅ni
=9.65×109cm-324本征半導(dǎo)體本征半導(dǎo)體的費(fèi)米能級(jí):電中性條件25本征半導(dǎo)體
26本征半導(dǎo)體
Ge:mdp=0.37mo,mdn=0.56mo室溫時(shí),kT
=0.026eV27本征半導(dǎo)體(Eg)Ge
=0.67eV∴對(duì)Si、GaAs
一樣,對(duì)InSb,Eg
=0.17eV,28本征半導(dǎo)體一般溫度下,Si、Ge、GaAs等本征半導(dǎo)體的Ei近似在禁帶中央,只有溫度較高時(shí),EF才會(huì)偏離Ei。
29本征載流子濃度及影響因素
本征載流子濃度ni30影響ni
的因素(1)mdn、mdp、Eg——材料(2)T的影響T↑,lnT↑,1/T↓,ni↑本征載流子濃度及影響因素
31本征半導(dǎo)體在應(yīng)用上的限制純度達(dá)不到本征激發(fā)是載流子的主要來(lái)源(雜質(zhì)原子/總原子<<本征載流子/總原子)Si:原子密度1023/cm3,室溫時(shí),ni
=1010/cm3本征載流子/總原子=1010/1023=10-13>雜質(zhì)原子/總原子要求Si的純度必須高于99.9999999999999%!32●本征載流子濃度隨溫度變化很大在室溫附近:Si:T↑,8Kni↑
一倍Ge:T↑,12Kni↑
一倍本征半導(dǎo)體在應(yīng)用上的限制33摻雜半導(dǎo)體在硅內(nèi)摻入適量III、V族雜質(zhì)后,將根本上改變半導(dǎo)體的本征導(dǎo)電性。摻入V族雜質(zhì)(施主雜質(zhì))后,F(xiàn)ermi能級(jí)EF
移向?qū)У赘浇?,使電子的?shù)量大于空穴的數(shù)量,成為N型半導(dǎo)體。摻入III族雜質(zhì)(受主雜質(zhì))后,F(xiàn)ermi能級(jí)EF
移向價(jià)帶頂附近,使空穴的數(shù)量大于電子的數(shù)量,成為P型半導(dǎo)體。34N型半導(dǎo)體施主雜質(zhì)提供導(dǎo)電電子,使半導(dǎo)體成為N型。施主雜質(zhì)本身成為帶正電荷的離子。35N型半導(dǎo)體導(dǎo)帶電子電離施主P+P原子中這個(gè)多余的電子的運(yùn)動(dòng)半徑遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于其余四個(gè)電子,所受到的束縛最小,極易擺脫束縛成為自由電子。施主雜質(zhì)具有提供電子的能力!36P型半導(dǎo)體受主雜質(zhì)提供導(dǎo)電空穴,使半導(dǎo)體成為P型。受主雜質(zhì)本身成為帶負(fù)電荷的離子37P型半導(dǎo)體
在Si中摻入BB-+B-B獲得一個(gè)電子變成負(fù)離子,成為負(fù)電中心,周圍產(chǎn)生帶正電的空穴。受主雜質(zhì)具有提供空穴的能力!38N型半導(dǎo)體:電子濃度遠(yuǎn)大于空穴濃度,稱電子為多數(shù)載流子(多子),空穴為少數(shù)載流子(少子)P型半導(dǎo)體:空穴濃度遠(yuǎn)大于電子濃度,空穴為多數(shù)載流子,電子為少數(shù)載流子摻雜半導(dǎo)體摻雜半導(dǎo)體載流子濃度積與ni
關(guān)系39應(yīng)用在常溫下,已知施主濃度ND,并且全部電離,求導(dǎo)帶電子濃度no和價(jià)帶空穴濃度po∵施主全部電離∴no=NDn型半導(dǎo)體40應(yīng)用在常溫下,已知受主濃度NA,并且全部電離,求導(dǎo)帶電子濃度no和價(jià)帶空穴濃度po
∵受主全部電離∴po
=NAP型半導(dǎo)體41平衡態(tài)載流子分布室溫下平衡態(tài)雜質(zhì)均勻摻雜的非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體N型半導(dǎo)體平衡態(tài)多子(電子)濃度:nn0=ND
(摻雜濃度為ND)
N型半導(dǎo)體平衡態(tài)少子(空穴)濃度:pn0=ni2/NDP型半導(dǎo)體平衡態(tài)多子(空穴)濃度:pp0=NA
(摻雜濃度為NA)P型半導(dǎo)體平衡態(tài)少子(電子)濃度:np0=ni2/NA42非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度電子占據(jù)ED的幾率:空穴占據(jù)EA的幾率:雜質(zhì)能級(jí)上的電子和空穴濃度43若施主濃度和受主濃度分別為ND、NA,則施主能級(jí)上的電子濃度nD
為:—未電離的施主濃度電離的施主濃度nD+為:非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度44●ED-EF>>kT●EF-ED>>kTnD→0,nD+→ND,施主幾乎全電離●EF=EDnD
→ND,nD+→0,施主幾乎都未電離非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度45受主能級(jí)上的空穴濃度pA
為:電離的受主濃度pA-為:-沒有電離的受主濃度非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度46非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度●EF-EA>>kT●EA-EF>>kTpA→0,pA-→NA,受主幾乎全電離●EF=EApA→NA,pA-→0,受主幾乎都未電離47非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度EF高時(shí),受主全電離;EF低時(shí),受主未電離;施主相反,EF高時(shí),施主未電離;EF低時(shí),施主全電離。48非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度雜質(zhì)半導(dǎo)體載流子濃度和費(fèi)米能級(jí)帶電粒子有:電子、空穴、電離的施主和電離的受主電中性條件:no
+pA-
=po
+nD+49非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度以只含施主雜質(zhì)的n型半導(dǎo)體為例電中性條件:no
=po
+nD+隨著溫度從低到高,進(jìn)一步簡(jiǎn)化:1.雜質(zhì)電離區(qū)本征激發(fā)可以忽略,導(dǎo)帶電子主要由電離施主提供,進(jìn)一步化簡(jiǎn)為:no
=nD+,即50非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度(1)低溫弱電離區(qū)
溫度很低時(shí),電離施主極少,此時(shí)電中性條件化簡(jiǎn)為:解得:將其代入解得:51非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度1/Tlnn0T-3/4-△ED/(2k)低溫弱電離時(shí),lnn0T-3/4與1/T關(guān)系近似為直線,其斜率為-△ED/(2k)。由此便可測(cè)得施主電離能△ED52非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度EF隨溫度T的變化:T→0K時(shí),NC→0,但:費(fèi)米能級(jí)位于導(dǎo)帶底和施主能級(jí)的中線處說明EF
上升很快53非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度T↑,NC↑,dEF/dT↓,說明EF
隨T
的升高而增大的速度變小了。但:54非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度當(dāng)T↑↑,達(dá)到Tmax時(shí):EF達(dá)到最大值:
55非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度當(dāng)T>Tmax
后,56非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度當(dāng)T=T1時(shí):當(dāng)ND↑時(shí),EF
~T的變化規(guī)律不變,但Tmax↑,EFmax↑中間電離區(qū)57非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度TEECEDEFNC=0.11ND低溫弱電離區(qū)EF
與T
的關(guān)系58非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度中等電離區(qū)中性條件仍為:no
=nD+,由直接解得:59非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度強(qiáng)電離區(qū)(飽和電離區(qū))
溫度繼續(xù)升高,雜質(zhì)接近全部電離,電中性條件變?yōu)椋簄0=ND,將代入得:在一定的溫度范圍內(nèi),本征激發(fā)還不顯著,在此過程中n0基本上保持不變,所以強(qiáng)電離區(qū)又稱為飽和區(qū)如何區(qū)分弱電離和強(qiáng)電離?60非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度弱電離要求:弱電離條件:強(qiáng)電離:要求:強(qiáng)電離條件:61非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度2.過渡區(qū)
當(dāng)溫度較高本征激發(fā)不能被忽略,此時(shí)空穴濃度不能被忽略,電中性條件為n0=ND+p0,再利用n0p0=ni2,得;將代入,得若ni<<ND,則n0≈ND為強(qiáng)電離情形,由此可知ni是否可與ND相比擬是區(qū)別強(qiáng)電離和過渡區(qū)的條件62非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度3.本征激發(fā)區(qū)(高溫)當(dāng)溫度進(jìn)一步升高,使本征激發(fā)所產(chǎn)生的載流子濃度遠(yuǎn)大于雜質(zhì)電離產(chǎn)生的載流子濃度(即ni>>ND),電中性條件為:n0=p0。
此時(shí)雜質(zhì)半導(dǎo)體呈現(xiàn)本征的特點(diǎn),不能正常工作!63非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度ND0niTnn
型硅中電子濃度與溫度關(guān)系n200400600雜質(zhì)弱電離區(qū)雜質(zhì)強(qiáng)電離區(qū)(飽和區(qū))過渡區(qū)本征區(qū)64非簡(jiǎn)并雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度計(jì)算摻雜半導(dǎo)體的載流子濃度時(shí),需首先考慮屬于何種溫區(qū)。一般:T:300K左右,且摻雜濃度>>ni屬于飽和電離區(qū)注意:N型:no=NDP型:po=NA65簡(jiǎn)并半導(dǎo)體簡(jiǎn)并半導(dǎo)體的載流子濃度其中:
1.EF位于導(dǎo)帶中
66簡(jiǎn)并半導(dǎo)體
費(fèi)米積分ξ -4 -3-2 -1 -1/201/2F1/2(ξ)0.0160.0430.1150.290.450.6890.991 2 3 41.3962.5023.9775.77167簡(jiǎn)并半導(dǎo)體2.EF位于價(jià)帶中
簡(jiǎn)并化條件
非簡(jiǎn)并:簡(jiǎn)并:68簡(jiǎn)并半導(dǎo)體0·1-4-2024680.20·5251020費(fèi)米經(jīng)典no169簡(jiǎn)并半導(dǎo)體EC-
EF2kT,非簡(jiǎn)并0<
EC
-EF≤2kT,弱簡(jiǎn)并
EF-EC≥0或EC
-EF
≤0,簡(jiǎn)并n型半導(dǎo)體的簡(jiǎn)并條件:EF-EC≥0P型半導(dǎo)體的簡(jiǎn)并條件:EV-EF≥070簡(jiǎn)并半導(dǎo)體no=nD+
∵簡(jiǎn)并時(shí),EF=EC,∴ED<EF,n
型半導(dǎo)體簡(jiǎn)并時(shí)的施主濃度
71簡(jiǎn)并半導(dǎo)體72簡(jiǎn)并半導(dǎo)體ND~NC
至少處于同一數(shù)量級(jí);P型簡(jiǎn)并半導(dǎo)體,NA~NVND≥2.34NC當(dāng):EF=EC,ξ=0,F(xiàn)1/2
(0)≈0.68973簡(jiǎn)并半導(dǎo)體重?fù)诫s:
當(dāng)半導(dǎo)體中的雜質(zhì)濃度超過一定數(shù)量時(shí),載流子開始簡(jiǎn)并化的現(xiàn)象。雜質(zhì)濃度越高,簡(jiǎn)并化就越容易發(fā)生。雜質(zhì)能帶:在簡(jiǎn)并半導(dǎo)體中,雜質(zhì)濃度高,導(dǎo)致雜質(zhì)原子之間電子波函數(shù)發(fā)生交疊,使孤立的雜質(zhì)能級(jí)擴(kuò)展為雜質(zhì)能帶。禁帶變窄效應(yīng):重?fù)诫s時(shí),雜質(zhì)能帶進(jìn)入導(dǎo)帶或價(jià)帶,形成新的簡(jiǎn)并能帶,簡(jiǎn)并能帶的尾部深入到禁帶中,稱為帶尾,從而導(dǎo)致禁帶寬度變窄。74簡(jiǎn)并半導(dǎo)體導(dǎo)帶Eg施主能級(jí)價(jià)帶施主能帶本征導(dǎo)帶簡(jiǎn)并導(dǎo)帶能帶邊沿尾部EgE′g價(jià)帶△ED→0,Eg→Eg'
禁帶變窄75Fermi能級(jí)與載流子濃度76非平衡系統(tǒng)和非平衡載流子半導(dǎo)體內(nèi)同時(shí)存在導(dǎo)帶、價(jià)帶、施主能級(jí)以及受主能級(jí)四個(gè)子系統(tǒng)。四個(gè)子系統(tǒng)原則上各自具有自己的Fermi能級(jí)來(lái)確定電子和空穴在半導(dǎo)體中的分布。對(duì)于一個(gè)由這些能帶和能級(jí)組成的平衡系統(tǒng),這四個(gè)Fermi
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