2021年中國光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及重點企業(yè)對比分析

2021年中國光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及重點企業(yè)對比分析一、現(xiàn)狀

光刻膠又稱“光致抗蝕劑”，是光刻成像的承載介質，其作用是利用光化學反應的原理將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信息轉化為化學能量，進而完成掩模圖形的復制。一定程度上來說，光刻出的電路圖案越精密，就代表著芯片性能越好。采用不同的光刻光線，對應地需要搭配不同的光刻膠。目前，根據(jù)不同的光波長，光刻膠大致可以分為G線、I線、KrF、ArF、EUV這幾類。

近年來，隨著半導體行業(yè)的蓬勃發(fā)展，尤其是下游晶圓廠產能擴建帶來的的龐大需求，光刻膠市場需求保持了良好的增長態(tài)勢。據(jù)TECHCET數(shù)據(jù)顯示，2021年全球光刻膠市場規(guī)模約22億美元，同比增漲7.84%。

國內光刻膠原料生產領域尚處于起步階段，呈現(xiàn)出產品種類較少、生產規(guī)模較小的特征。2020年中國大陸光刻膠市場規(guī)模約84億元，預計到2024年，中國大陸光刻膠市場規(guī)模將增長至140億元以上，復合增長率約10%。

根據(jù)TECHCET統(tǒng)計，2020年ArF干式和浸沒式光刻膠占據(jù)了48%的市場份額，KrF和G線/I線光刻膠分別占據(jù)34%和16%的市場份額。預計至2025年ArF干式及浸沒式光刻膠仍然能占據(jù)45%的市場份額。

二、重點企業(yè)對比

伴隨全球半導體產業(yè)東移，加上我國持續(xù)增長的下游需求和政策支持力度，越來越多的企業(yè)進入到了這個行業(yè)。其中，南大光電、晶瑞電材、彤程新材和上海新陽是我國最早規(guī)模量產光刻膠的為數(shù)不多的幾家企業(yè)之一。

從南大光電、晶瑞電材、彤程新材和上海新陽光刻機產品看，晶瑞電材擁有最多的光刻膠產品，晶瑞電材擁有負型光刻膠系列、寬譜正膠系列、g線系列、i線光刻膠系列、KrF光刻膠系列等數(shù)十個型號產品，ArF光刻膠的研發(fā)工作有序開展中，且具備1200噸/年光刻膠產能。從光刻機看彤程新材是國內唯一擁有荷蘭ASML曝光機的光刻膠公司，且公司全部投產后，光刻膠產能達6000噸。

從營業(yè)情況看，2021年南大光電半導體材料營業(yè)收入為9.84億元，較2020年增加了3.89億元，同比增漲65.46%；2021年南大光電半導體材料營業(yè)成本為5.32億元，同比增漲了58.08%。

2021年晶瑞電材光刻膠及配套材料營業(yè)收入為2.74億元，較2020年增加了0.95億元，同比增漲53.04%；2021年晶瑞電材光刻膠及配套材料營業(yè)成本為1.55億元，較2020年增加了0.79億元。

2021年彤程新材電子材料業(yè)營業(yè)收入為1.4億元，較2020年減少了0.38億元；2021年彤程新材電子材料業(yè)營業(yè)成本為1.04億元，較2020年減少了0.35億元。

2021年上海新陽半導體行業(yè)營業(yè)收入為5.02億元，較2020年增加了1.75億元，同比增漲53.65%；2021年上海新陽半導體行業(yè)營業(yè)成本為2.75億元，較2020年增加了0.88億元，同比增漲47.42%。

從光刻膠相關毛利率看，國內半導體光刻膠廠商毛利率較高。南大光電、晶瑞電材和上海新陽光刻膠相關毛利率維持在40%以上，彤程新材光刻膠相關毛利率也在20%以上。

三、綜合分析

由于光刻膠屬于高技術產業(yè)，從產品技術分布看，晶瑞電材擁有：負型光刻膠系列、寬譜正膠系列、g線系列、i線光刻膠系列、KrF光刻膠系列等數(shù)十個型號產品。從產能看，彤程新材公司