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文檔簡介
第三章
薄膜制備的化學方法概念:薄膜制備過程中,凡是需要在一定化學反應發(fā)生的前提下完成薄膜制備的
技術方法,統(tǒng)稱為薄膜沉積的化學方法。條件:化學反應需要能量輸入和誘發(fā)優(yōu)、缺點:設備簡單、成本較低、甚至無需真空環(huán)境即可進行;
化學制備、工藝控制復雜、有可能涉及高溫環(huán)境。分類:
CVD法制備薄膜過程描述(四個階段)(1)反應氣體向基片表面擴散;(2)反應氣體吸附于基片表面;(3)在基片表面發(fā)生化學反應;(4)在基片表面產(chǎn)生的氣相副產(chǎn)物脫離表面,向空間擴散或被抽氣系統(tǒng)抽走;基片表面留下不揮發(fā)的固相反應產(chǎn)物----薄膜?;瘜W氣相沉積(CVD)在熱CVD法中,把含有要生成膜材料的揮發(fā)性化合物(稱為源)汽化,盡可能均勻地送到加熱至高溫的基片上,在基片上進行分解、還原、氧化、置換等化學反應,并在基片上生成薄膜。作為揮發(fā)性化合物使用的有鹵化物、有機化合物、碳氫化合物、碳酰等。一、概述:3)分類:電化學鍍膜方法概念:電流通過在電解液中的流動而產(chǎn)生化學反應,在陽極或陰極上沉積薄膜的方法。具體地,即利用電解反應,在
一、概念:
將III、V、VI族金屬/半金屬元素的有機化合物和無機鹽(氯化物、硝酸鹽、乙酸鹽)溶于有機溶劑(乙酸、丙酮等)中獲得溶膠鍍液,采用浸漬或離心甩膠等方法涂覆于基片表面,因溶膠水解而獲得膠體膜,之后再進行干燥脫水處理獲得氧化物等固體薄膜的方法。膜厚取決于溶液中金屬有機化合物的濃度、溶膠液的溫度和黏度、基片的旋轉(zhuǎn)速度、角度以及環(huán)境溫度等。二、典型實例
(制備TiO2光催化功能薄膜):
水解:Ti(OC2H5)(鈦酸乙酯)+4H2OH4TiO4+4C2H5OH(乙醇)
脫水:3.3溶液化學鍍膜方法溶膠-凝膠技術LB技術Langmuir-Blodgett技術(LB技術)是指把液體表面的有機單分子膜轉(zhuǎn)移到固體襯底表面上的一種成膜技術。得到的有機薄膜稱為LB薄膜。原理:將有機分子分散在水面上,沿水平方向?qū)λ媸┘訅毫?,使分子在水面上緊密排列,形成一層排列有序的不溶性單分子層。再利用端基與固體基片表面的吸附作用,將單分子層沉積在基片上。CH3CH2COOH親水基親油基水
其分子具有兩性基:親水基:羧基(-COOH),醇基(-OH)等;不親水基(疏水基):CH3等;
單分子層的轉(zhuǎn)移(沉積)根據(jù)薄膜分子在基片上的相對取向,LB薄膜結構可分為X型、Y型、Z型三種類型。基片每次進出水面時都有分子沉積。LB薄膜每層分子的親水基與親水基相連,親油基與親油基相連。只有基片
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