(工藝技術(shù))納米加工平臺(tái)工藝申請(qǐng)表

納米加工平臺(tái)工藝申請(qǐng)表（20108月版）批號(hào):申請(qǐng)人付費(fèi)人申請(qǐng)日期

課題編號(hào)

樣品材料

申請(qǐng)人郵箱付費(fèi)人郵箱

樣品尺寸

申請(qǐng)人簽字付費(fèi)人簽字試驗(yàn)?zāi)康募罢f(shuō)明 樣品數(shù)量與編號(hào)序號(hào)工藝名稱 工藝要求及說(shuō)明

日期 工藝記錄和檢測(cè)結(jié)果

工藝員 計(jì)價(jià)和確認(rèn) 備注清洗樣品數(shù)量：2片；需清洗材料：氮化鋁，尺寸：4英寸；預(yù)去除污染物：清洗液：設(shè)備類型：廢液處理方式：本步工藝程序確認(rèn)：合格（簽字：不合格（簽字工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：使用設(shè)備：八槽清洗機(jī)/超聲清洗機(jī)/手動(dòng)容器廢液處理方法：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：檢測(cè)結(jié)果：加工數(shù)量：3片；勻膠 襯底：材料：硅片，尺寸：4英寸、6英寸；

勻膠機(jī)類型：開(kāi)始時(shí)間：

本步工藝計(jì)價(jià)：￥KS-L150ST22＋KW-4A

光刻膠類型：AZ1500；厚度：1.2±0.4微米HDMS預(yù)處理：需要；使用勻膠機(jī)類型：SSE、國(guó)產(chǎn)小勻膠機(jī)、Track

完成時(shí)間：襯底尺寸：勻膠次數(shù)：

工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：檢測(cè)結(jié)果：光刻MA6/BA6URE-2000/35NSR1755i7B

加工數(shù)量：3片；襯底材料/尺寸/厚度：硅片/4/525光刻膠類型/厚度：AZ1500/1-1.6；光刻最小線寬：2微米；套刻要求：正反面對(duì)準(zhǔn)，對(duì)準(zhǔn)精度：±5使用光刻機(jī)類型：SussMA6/BA6,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)加工數(shù)量：3片；襯底材料/尺寸/厚度：硅片/4/525光刻膠類型/厚度：EPL/1-1.6；光刻最小線寬：2微米；

開(kāi)始時(shí)間：完成時(shí)間：本工藝總用時(shí)：檢測(cè)結(jié)果：電子束光刻套刻精度：±1微米；電子束光刻套刻精度：±1微米；加工數(shù)量：1片；襯底材料/尺寸/厚度：硅片/4/525光刻膠類型/厚度：AZ1500/1-1.6；開(kāi)始時(shí)間：完成時(shí)間：本工藝總用時(shí)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：JBX-5500ZA光刻最小線寬：30nm；套刻要求：套刻誤差小于40nm；檢測(cè)結(jié)果：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：拼接要求：誤差小于40nm

本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：顯影機(jī)類型：本步工藝計(jì)價(jià)：顯影加工數(shù)量：3片；襯底：材料：硅片，尺寸：4英寸；開(kāi)始時(shí)間：完成時(shí)間：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：OPTIspinST22顯影液類型：標(biāo)配TMAH；使用顯影機(jī)類型：SSE,Track本工藝總用時(shí)：檢測(cè)結(jié)果：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：干法去膠M4L

加工數(shù)量：3片；批次：1批材料：硅片，尺寸：4需去除光刻膠類型：AZ1500需去除膠厚：50nm；

去膠功率：300W開(kāi)始時(shí)間：去膠功率：300W開(kāi)始時(shí)間：本步工藝計(jì)價(jià)：噴膠加工數(shù)量：3片；襯底材料：硅片，尺寸：4英寸；完成時(shí)間：本工藝總用時(shí)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：ST20i光刻膠類型：AZ4620； 目標(biāo)膠厚：30微圖形深寬比：1：2檢測(cè)結(jié)果：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：鍵合對(duì)數(shù)： 單次鍵合用本步工藝計(jì)價(jià)：晶片鍵合加工數(shù)量：3對(duì)；材料：硅片和玻璃尺寸：4英寸；時(shí)：開(kāi)始時(shí)間：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：CB6L鍵合類型：陽(yáng)極鍵合；是否需要套刻：是 （套刻精度：5微米）完成時(shí)間：檢測(cè)結(jié)果：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：磁控濺射加工數(shù)量：3片；批次：1批濺射批數(shù)：本步工藝計(jì)價(jià)：LAB18襯底材料：硅片，尺寸：2英寸開(kāi)始時(shí)間：￥

本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：膜層材料/厚度：Ti/Al/Ti/Au, 厚度均勻性要求：±5%襯底加熱溫度：200℃工藝氣體：Ar或N2加工數(shù)量：3片；批次：1批襯底材料：硅片，尺寸：6英寸電子束蒸發(fā) 膜層材料和厚度：

完成時(shí)間：本工藝總用時(shí)：濺射各層材料/厚度：檢測(cè)結(jié)果：使用蒸發(fā)臺(tái)： 蒸鍍數(shù)：開(kāi)始時(shí)間：完成時(shí)間：

工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：ei-5zEBE-09熱蒸發(fā)EVA-09-2

Ti/Al/Ti/Au, 50nm/200nm/50nm/100nm厚度均勻性要求：±5%襯底溫度：200℃蒸發(fā)臺(tái)類型：ei-5z,EBE-09加工數(shù)量：1片；批次：1批襯底材料：硅片，尺寸：2英寸膜層材料和厚度：AG/Au, 厚度均勻性要求：±5%

本工藝總用時(shí)：蒸鍍各層材料/厚度：檢測(cè)結(jié)果：蒸鍍次數(shù)：開(kāi)始時(shí)間：完成時(shí)間：本工藝總用時(shí)：蒸鍍材料/厚度：

工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥襯底溫度：檢測(cè)結(jié)果：襯底溫度：檢測(cè)結(jié)果：PECVD加工數(shù)量：3批次：3襯底材料：硅片，尺寸：6膜層材料和用途：SiO2、絕緣層開(kāi)始時(shí)間：完成時(shí)間：本工藝總用時(shí)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：OXFORD100厚度：1000nm折射率:1.46厚度均勻性要求：±5%檢測(cè)結(jié)果：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：襯底溫度：300℃加工數(shù)量：3加工數(shù)量：3：1蒸鍍次數(shù)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥光學(xué)薄膜蒸發(fā)膜層材料和厚度：SiO2/ITO,厚度均勻性要求：±2%襯底溫度：200℃50nm/200nm本工藝總用時(shí)：蒸鍍各層材料/厚度：檢測(cè)結(jié)果：工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)開(kāi)始時(shí)間：本步工藝計(jì)價(jià)：氧化加工數(shù)量：201襯底材料尺寸：6完成時(shí)間：本工藝總用時(shí)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：HDC8000A氧化類型：干氧、濕氧、干濕氧厚度：1000nm厚度均勻性要求：±3%檢測(cè)結(jié)果：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：開(kāi)始時(shí)間：本步工藝計(jì)價(jià)：完成時(shí)間：￥檢測(cè)結(jié)果：開(kāi)始時(shí)間：檢測(cè)結(jié)果：開(kāi)始時(shí)間：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：加工數(shù)量：3片；批次：1批完成時(shí)間：￥襯底材料/尺寸：GaN片/2英寸本工藝總用時(shí)：工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：退火溫度/時(shí)間：600℃/120min退火氣氛：N2、壓縮空氣、氫氣檢測(cè)結(jié)果：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：

加工數(shù)量：3片；批次：1批襯底材料/尺寸：GaN片/2英寸退火溫度和時(shí)間：600℃，15sec

本工藝總用時(shí)：

工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：管式退火爐L4508-07-1L4508-07-2IBE刻蝕IBE-A-150RIETegal903eIII/VICPICP180深硅刻蝕STSMPXHRM

加工數(shù)量：3片；批次：1批需刻蝕材料：硅片，尺寸：2英寸或碎片；掩膜材料：光刻膠，Ti等刻蝕深度：2微米；粘片：需要加工數(shù)量：3片；批次：3批4掩膜材料：光刻膠刻蝕尺寸：深度：2線寬：2粘片：需要加工數(shù)量：3片；批次：1批需刻蝕材料/尺寸：GaN/2掩膜材料：SiO2刻蝕尺寸：深度：2線寬：2粘片：需要加工數(shù)量：3片；批次：3批材料：Si/SOI，尺寸：6掩膜材料：SiO2、光刻膠刻蝕尺寸：深度：10線寬：2側(cè)壁陡直度/粗糙度：89+/-1/100nm

檢測(cè)結(jié)果：檢測(cè)結(jié)果：檢測(cè)結(jié)果：檢測(cè)結(jié)果：

本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：解理TitanOSM-80TP-YLoomisLSD100

加工數(shù)量：3片；需解理材料/尺寸：藍(lán)寶石/2英寸管芯形狀：長(zhǎng)方形；管芯大小：280×320um2；切深要求：24微米；使用劃片機(jī)類型OSM-80TP-YLSD100

開(kāi)始時(shí)間：完成時(shí)間：解理刀數(shù)：檢測(cè)結(jié)果：

本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：開(kāi)始時(shí)間：本步工藝計(jì)價(jià)：壓焊點(diǎn)數(shù)：30點(diǎn)；完成時(shí)間：￥壓焊焊盤(pán)：材料：金，尺寸：80×80微米；本工藝總用時(shí)：工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：747677E焊線：材料：金，線徑：25微米；壓焊工藝類型：球焊，楔焊；檢測(cè)結(jié)果：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：開(kāi)始時(shí)間：本步工藝計(jì)價(jià)：加工數(shù)量：3片；完成時(shí)間：￥裂片需裂片材料/尺寸/片厚：GaN/2英寸/80微米；本工藝總用時(shí)：工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：OBM-90TP管芯形狀：長(zhǎng)方形；管芯尺寸：300×300微米；檢測(cè)結(jié)果：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：倒裝焊FC150加工數(shù)量：3片；基底：材料：Si，尺寸：10×10芯片：材料：Si，尺寸：10×10焊料：金錫溫度/時(shí)間：200℃/30min開(kāi)始時(shí)間：完成時(shí)間：本工藝總用時(shí)：檢測(cè)結(jié)果：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：工藝氣體：甲酸、N2焊接工藝類型：熱壓焊，回流焊；SRO702CMPHRG-150CMPAL-380FCMPAP-380F

加工數(shù)量：3片；批次：1批基底：材料：Si，尺寸：10×10毫米；基底焊盤(pán)材料：金，尺寸：50×50微米芯片：材料：Si，尺寸：10×10毫米；芯片焊盤(pán)材料：金，尺寸：50×50微米焊料：金錫 溫度/時(shí)間：200℃/30min真空度：5mTorr加工數(shù)量：3片；批次：3批需減薄材料/尺寸/厚度：Si/4/400減薄后厚度：100加工數(shù)量：3片；批次：2批需研磨材料/尺寸/厚度：Si/4/100研磨后厚度：90加工數(shù)量：3片；批次：2批需拋光材料/尺寸/厚度：Si/4/90拋光后厚度：80

開(kāi)始時(shí)間：完成時(shí)間：本工藝總用時(shí)：檢測(cè)結(jié)果：檢測(cè)結(jié)果：檢測(cè)結(jié)果：檢測(cè)結(jié)果：

本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：HL-071004Lift-offWetSBSEMJSM-6390噴金儀JFC-1600

加工數(shù)量：3片；批次：1批需清洗材料/尺寸/厚度：Si/4/525使用清洗液：12加工數(shù)量：3片；批次：3批需剝離襯底材料/尺寸/厚度：Si/4/525光刻膠類型：AZ4620；圖形線寬/厚度：100nm/200nm加工數(shù)量：3片；材料：碳納米線，尺寸：50nm；是否噴金：是掃描模式：二次電子像/背散射加工數(shù)量：3片；批次：1批襯底材料：硅片，尺寸：10×10毫米；噴Pt厚度：10nm

檢測(cè)結(jié)果：檢測(cè)結(jié)果：噴金次數(shù)：噴金檢測(cè)結(jié)果：

本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：本步工藝計(jì)價(jià)：￥工藝負(fù)責(zé)人確認(rèn)：工藝申請(qǐng)人確認(rèn)：加工平臺(tái)批準(zhǔn)人簽字加工平臺(tái)批準(zhǔn)人簽字最終服務(wù)質(zhì)量評(píng)價(jià)（請(qǐng)簽名）非常滿 基本滿