制藥設(shè)備在生產(chǎn)過程中污染的防控措施_第1頁
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文檔簡介

1、 制藥設(shè)備在生產(chǎn)過程中污染的防控措施 制藥設(shè)備在生產(chǎn)過程中污染的防控措施  在制藥生產(chǎn)中影響藥品質(zhì)量的因素許多,其中很重要的因素是來自各種污染。如何解決污染問題,是保證藥品質(zhì)量的一個重要方面。   1    影響藥品質(zhì)量的要素  藥品的質(zhì)量關(guān)系到患者的用藥平安,要生產(chǎn)出優(yōu)質(zhì)合格的藥品,必需具備3個要素:(1)合格的人員;(2)符合GMP的軟件,如合理的劑型、處方和工藝,合格的原輔材料,各項規(guī)格和管理制度等;(3)符合GMP的硬件,包括合格的生產(chǎn)環(huán)境與生產(chǎn)條件,符合要求的廠房、設(shè)備等。  

2、;2    制藥設(shè)備對生產(chǎn)中污染的防控含義  從上可知,生產(chǎn)環(huán)境與生產(chǎn)條件、設(shè)備是影響藥品質(zhì)量要素的一個方面。而在藥品生產(chǎn)中,生產(chǎn)環(huán)境與生產(chǎn)條件的污染一般有微生物、粉塵、微粒、腐蝕、差錯及交叉污染等。制藥設(shè)備對生產(chǎn)中污染的防控包含兩層意思,第一設(shè)備自身不對藥物產(chǎn)生污染,也不會對環(huán)境產(chǎn)生污染;其次應(yīng)具有有效掌握污染手段。為此,GMP對直接參加藥品生產(chǎn)的制藥設(shè)備作了若干個指導(dǎo)性規(guī)定,其基本點是保證藥品質(zhì)量,防止在生產(chǎn)過程對藥物可能造成的各種污染,以及可能影響環(huán)境和對人體健康的危害等因素。因此,制藥設(shè)備的設(shè)計要符合GMP的要求,削減污染因素,并對污染

3、要有很好的防控。  3    制藥設(shè)備的設(shè)計符合GMP的要求  制藥設(shè)備在制藥GMP這一特定條件下的產(chǎn)品設(shè)計、制造、技術(shù)、性能等方面,應(yīng)以設(shè)備GMP設(shè)計通則為綱,以推動制藥設(shè)備GMP規(guī)范的建立和完善,其詳細(xì)內(nèi)容如下:  (1)設(shè)備的設(shè)計應(yīng)符合藥品生產(chǎn)及工藝的要求,平安、穩(wěn)定、牢靠、易于清洗、消毒或滅菌,便于生產(chǎn)操作和修理保養(yǎng),并能防止差錯和交叉污染;  (2)應(yīng)嚴(yán)格掌握設(shè)備的材質(zhì)選擇。與藥物直接接觸的零部件應(yīng)采納無毒、無腐蝕、不與藥品發(fā)生化學(xué)反應(yīng)、不釋放微?;蛭剿幤返牟馁|(zhì); 

4、;     (3)與藥物直接接觸的設(shè)備內(nèi)表面及工作零件表面,盡可能不設(shè)計臺、溝、及外露的螺栓連接。表面應(yīng)平整、光滑、無死角,易清洗、消毒;  (4)設(shè)備應(yīng)不對裝置之外的環(huán)境造成污染,鑒于每類設(shè)備所產(chǎn)生的污染的狀況不同,應(yīng)實行相關(guān)的防塵、防漏、隔熱、防噪聲等措施。  (5)在易燃、易爆環(huán)境中使用的設(shè)備,應(yīng)采納防爆電器并設(shè)有消退靜電及平安保險裝置;  (6)無菌制劑的灌或分裝設(shè)備應(yīng)在相應(yīng)的干凈室內(nèi)運行,局部采納100級層流干凈空氣和正壓愛護(hù);  (7)藥液、注射用水及凈化壓縮空氣

5、管道的設(shè)計應(yīng)避開死角、盲管。材料應(yīng)無毒、耐腐蝕。內(nèi)表面應(yīng)電化拋光,易清洗;  (8)當(dāng)驅(qū)動磨擦而產(chǎn)生的微量異物或無法避開使用潤滑劑時,應(yīng)對其部件實施封閉并與工作室隔離,所用的潤滑劑不得對藥品、包裝容器等造成污染;  (9)無菌設(shè)備的清洗,尤其是直接接觸藥品的部位和部件的滅菌,應(yīng)標(biāo)明滅菌日期,必要時進(jìn)行無菌效果驗證。設(shè)備清洗最好配備CIP及SIP系統(tǒng);  (10)設(shè)備設(shè)計應(yīng)符合標(biāo)準(zhǔn)化、通用化、系列化和機(jī)電一體化的要求。實現(xiàn)生產(chǎn)過程的連續(xù)密閉,自動檢測,這是全面實施設(shè)備GMP的保證。  4  

6、60; 制藥設(shè)備對生產(chǎn)中污染的防控手段   制藥工藝的簡單性打算了設(shè)備功能的多樣性,而制藥設(shè)備的優(yōu)劣則反映在能否滿意使用要求、符合GMP和對環(huán)境污染的防控上。在藥品生產(chǎn)中,制藥設(shè)備是保證藥品質(zhì)量的關(guān)鍵手段,GMP對設(shè)備的要求主要針對削減生產(chǎn)過程中的藥品污染,達(dá)到保證藥品質(zhì)量要求這一目的,制藥設(shè)備可在功能、外觀結(jié)構(gòu)、材料選擇、設(shè)備驗證方面對污染進(jìn)行防控。  4.1    功能方面  4.1.1    凈化功能  干凈是GMP的要點之一,要達(dá)到這一標(biāo)

7、準(zhǔn)就必需在藥品加工中,凡有藥物暴露的室區(qū)干凈度達(dá)不到要求或有人機(jī)污染可能的原則上均應(yīng)設(shè)計凈化功能。不同的設(shè)備要求的這一功能形式也不盡相同。大致如下:  (1)在工藝上使用氣體的設(shè)備尤其是氣體與藥品或直接與藥包材接觸的設(shè)備,氣體需要經(jīng)終端過濾除菌處理,如泡罩包裝機(jī)的壓縮空氣;  (2)洗瓶或其它藥包材清洗設(shè)備,應(yīng)考慮到工藝用水的干凈度,一般使用注射用水或純化水,如洗瓶機(jī)、膠塞清洗等設(shè)備的用水;  (3)生產(chǎn)中產(chǎn)生粉塵的設(shè)備應(yīng)設(shè)置除塵機(jī)或捕塵機(jī)構(gòu),如粉碎機(jī)、制粒機(jī)、壓片機(jī)等;  (4)在干凈室(區(qū)),通過凈化空調(diào)系統(tǒng)對

8、各功能間凈化并保持相對的壓差,可防止粉塵集中,防止交叉污染。  4.1.2    隔離功能  根據(jù)GMP要求,制劑生產(chǎn)過程應(yīng)盡量避開微生物或微粒熱原污染,隔離是個好方法。由于無菌產(chǎn)品生產(chǎn)應(yīng)在高質(zhì)量環(huán)境下進(jìn)行配料、灌或分裝和密封,而其工藝過程中存在很多可變的影響因素,對無菌藥品生產(chǎn)提出了特別要求。而這在制劑設(shè)備設(shè)計中的一個重要體現(xiàn)是實現(xiàn)生產(chǎn)過程的密閉化,實行隔離技術(shù)。  醫(yī)藥工業(yè)的隔離技術(shù)涉及到水針、粉針、輸液等無菌制品以及醫(yī)療注射器的生產(chǎn)等諸方面。在無菌生產(chǎn)中,為避開污染,需在無菌生產(chǎn)工序的制劑設(shè)備四周設(shè)

9、計并建立隔離區(qū),將操作人員隔離在灌裝區(qū)以外,實行徹底的隔離技術(shù)和自動掌握系統(tǒng),最大限度降低操作人員對環(huán)境的影響,同時也可以大大降低無菌生產(chǎn)環(huán)境中產(chǎn)品被微生物污染的風(fēng)險。  4.1.3    在位清洗及滅菌功能  4.1.3.1    在位清洗(CIP)  在藥品生產(chǎn)中,設(shè)備的清洗和滅菌是驅(qū)除微生物污染的主要手段。CIP是一種包括設(shè)備、管道、操作規(guī)程、清洗劑配方、自動掌握和監(jiān)控要求的一整套技術(shù)系統(tǒng)。其能在盡可能不拆卸、不挪動設(shè)備和管道的狀況下,利用受控的清洗液的循環(huán)流淌,清洗污垢。GMP明確規(guī)定

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