浮法玻璃熔化成形的缺陷來源圖

1、Jack.Xu(2005.01)污污染染物物:1. 鉻: 格子磚, 配合料, 不銹鋼2. 碳化硅: 退火窯處的貼面磚, 錫槽電加熱元件, 磨盤3. 硫化鎳; 配合料, 碎玻璃, #300 不銹鋼4. 氧化鋁: 大結(jié)石, 粘土磚, 泥土5. 尖晶石: 泥土, 粘土磚, 氧化鎂與配合料反應(yīng)的產(chǎn)物6. 硅結(jié)石: 鋁上部,直徑0.6mm,壓力20千帕,含CO2/N2的7. 鐵/棕色條紋: 含鐵金屬, 泥土, 鐵碎片鐵銹等氣泡,來自于配合料的氧化還原變化，可能有8. 氧化硅結(jié)石: 未熔化的配合料, 泥土, 碹頂燒流物中度沉積物或沒有沉積物節(jié)瘤狀氧化鋯 / 多孔剛玉結(jié)石來自于前臉墻的底部,直徑0.6mm,

2、壓力15千帕,含高CO2,和小的、上部、高壓氮?dú)鈿馀?來自于唇端0.5%ArN2的氣泡,來自于配合料芒硝的化學(xué)耐火材料碎片,或閘板上的泡沫,或錫黝方石, 三斜霞石，霞石結(jié)石和節(jié)瘤來自于配變化,可能有重度的硫酸鹽沉積物槽保護(hù)氣體漏氣合料對(duì)鋁質(zhì)耐火材料的磨損和侵蝕多孔剛玉, 來自于平碹薄片鱗石英,霜霧狀鱗大的、低壓、高CO2含量、輕度沉積來自大碹燒流物的硅的Zirmul或Tamax磚石英,方石英,來自于物的氣泡，來自于與金屬接觸,或污循環(huán)和高壓氮?dú)馀莩吻宀看箜廴疚锷汉鳡铄a石,或上游閘板或平碹上的線道,帶有氧化鋁的硅灰石,來自于與玻璃的接觸大的、低壓、含SO2和H2O,有重度沉積物的氣泡,來自于水位

3、于三相點(diǎn)的下表面鱗石英，和小的下表面開口泡從閘板上脫落的鱗石英小片(上表面或下表面)析晶和硅灰石結(jié)石,大的、低壓、高CO2氣泡來自于邊角滯留不動(dòng)的玻璃液的反應(yīng)注：可能來自于底部臺(tái)階鋪面磚的磨損侵蝕鉻,鎂結(jié)石,來自于蓄析晶和硅灰石結(jié)石,和小的、低壓 小的、上部、低壓、重度沉積物氣泡，來自熱室耐火材料與配合輕度沉積物的氣泡，來自于水包于玻璃液的再度升溫(過高的FEF火焰溫度)料的反應(yīng)(尖晶石)金屬夾雜物、棕色條紋、氣泡，來自于FEF樹枝狀和節(jié)瘤狀氧化鋯,氧化鋁結(jié)石，節(jié)瘤條小的、上表面微氣泡,主要含CO2的金屬襯里，或發(fā)夾式水包紋，來自于池壁、防液滴磚（H 型剛玉磚)和和N2,并有重度沉積物,來自于

4、玻掛鉤磚，也來自于燒流物、配合料的磨損和玻璃液的再度升溫片狀氧化鋁、多孔剛玉和氣泡飛料來自于FEF的搗打料襯里倍太氧化鋁和剛玉結(jié)石，來自于H 型剛玉磚的胸墻、小爐口和掛鉤磚圖例小的、輕度沉積物、高CO2含量的氣泡，為氧化鋁沒有在“噴泉”區(qū)去除的配合料反應(yīng)氣泡氣泡金屬雜質(zhì)小的、高CO2和N2含量的底部氣泡，來自保保密密資資料料氧化硅自于底部滯留不動(dòng)的玻璃液的流動(dòng)錫氧化鋯浮浮法法玻玻璃璃熔熔窯窯缺缺陷陷來來源源ddsourceJack.Xu(2005.01)DJ CARMAN 細(xì)顆粒錫石,凹坑型滴大的、低壓、含二氧化落物(硫化錫還原). 原硫和水、有重度沉積物因在熱端槽頂、水包的氣泡，來自于水電加

5、熱元件，或者拉邊機(jī)小的、上部、高壓氣泡，來自于耐火材料碎片、閘板上的泡沫，或錫槽保護(hù)氣體漏氣沉積在電加熱元件上的玻璃助熔劑和硫化錫大的、低壓、高二氧化碳含量和輕度沉積物沉積在槽頂和水包表的氣泡，來自于于金屬的接觸，或者污染物面的硫化錫表面污物或浮渣，來自于槽內(nèi)氣氛與玻璃表面的反應(yīng)玻璃內(nèi)助熔劑的滲出，也有可能是由于玻璃下表面二氧化硫噴涂量太低或不正確析晶和硅灰石結(jié)石，以及大的低壓、高二氧大的底部開口泡，來自于錫與耐提升輥上的沾錫、灰灰灰渣渣裂裂口口: 玻璃裂口，來自于氧化錫或硫化錫在輥?zhàn)踊嫉臍馀?，來自于滯留玻璃液的反?yīng)火材料的反應(yīng)渣和劃傷，來自于錫上的粘結(jié)注: 可能來自于臺(tái)階鋪面磚的侵蝕和磨損和氧的反應(yīng)、錫槽壓灰灰渣渣劃劃痕痕: 來自板帶下表面的玻璃碎片 劃痕，這是下表面霜霧或不潔凈，是由于力不平衡，或者耙灰由于錫的氧化物或硫化物沉積物在輥?zhàn)由嫌伍l板或平碹上的珊瑚狀錫石或線道，以氧、水和錫化合物的高溫反應(yīng)裝置有問題上的堆積及粘有氧化鋁的硅灰石，來自于與玻璃液的而形成的灰灰渣渣: 氧化錫或硫化錫沉積在玻璃上接觸輥輥?zhàn)幼佑∮『酆? 玻璃下表面上的印痕或裂口，并有下表面非常微小的底部開口泡，來自于堆積物所造