真空電鍍及工藝流程

1、真空電鍍及工藝流程真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷 卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。 常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。 加熱金屬的方法：有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。 在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)， 為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使 樹脂變形，必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬 或合金不適合于蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)， 采用一定方法加熱待鍍材料， 使金屬蒸發(fā)或升華， 金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。 在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、 分子在飛向塑料制品過程中和 其他分子的碰撞， 減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)

2、反應(yīng) （如氧化等），從而提供膜層的致密度、 純度、沉積速率和與附著力。 通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa,對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。 鍍層厚度太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度時(shí)反射率 為 90% ,真空離子鍍，又稱真空鍍膜 .真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較 流行的做法，做出來的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高而相對(duì)其他的鍍膜法 來說，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用真空電鍍適用范圍較廣，如 ABS料、ABS+PC料、PC料的產(chǎn)品同時(shí)因 其工藝流程復(fù)雜、 環(huán)境、 設(shè)備要求高， 單價(jià)比水電鍍昂貴 .現(xiàn)對(duì)其工藝流程

3、作簡(jiǎn)要介紹： 產(chǎn)品表面清潔 -去靜電-噴底漆-烘烤底漆 - 真空鍍膜 -噴面漆 -烘烤面漆 -包裝 . 一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍由于素材 是塑料件，在注塑時(shí)會(huì)殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在放置時(shí)會(huì)吸入空 氣中的水分另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不 光滑，光澤低，金屬感差，并且會(huì)出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況噴上 一層底漆以后，會(huì)形成一個(gè)光滑平整的表面，并且杜絕了塑料本身存 在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以展現(xiàn) 真空電鍍可分為一般真空電鍍、 UV 真空電鍍、真空電鍍特殊 .工藝有 蒸鍍、濺鍍、槍色等 . 水電鍍因工藝較簡(jiǎn)單，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍

4、苛刻， 從而被廣泛應(yīng)用但水電鍍有個(gè)弱點(diǎn)，只能鍍 ABS料和ABS+PC料（此 料鍍的效果也不是很理想）.而ABS料耐溫只有80 °C ,這使得它的應(yīng)用 范圍被限制了 .而真空電鍍可達(dá)200C左右，這對(duì)使用在高溫的部件就 可以進(jìn)行電鍍處理了 像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)使用 PC料，這些部件均要求耐 130C的高溫另，一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在最后噴 一層 UV 油，這樣使得產(chǎn)品表面即有光澤、有耐高溫、同時(shí)又保證附 著力.兩種工藝的優(yōu)缺點(diǎn)：A、簡(jiǎn)單來說，真空電鍍不過UV油，其附著力很差，無法過百格TEST 而水電鍍的明顯好于真空電鍍！因此，為保證真空電鍍的附著力，均 需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂

5、處理 ,成本當(dāng)然高些 .B、 水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對(duì)于閃銀、 魔幻藍(lán)、 裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無能為力了 .而真空電鍍 可以解決七彩色的問題 .C、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價(jià)鉻”，這是非環(huán)保材料對(duì)于“六 價(jià)鉻”有如下的要求：歐盟：76769EEC 禁止使用； 9462EC 100ppm ；ROHS：1000ppm 如此嚴(yán)格的要求， 國內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用 “三 價(jià)鉻”來替代“六價(jià)鉻” ；而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符 合環(huán)保要求 .簡(jiǎn)單一點(diǎn)， 就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過 等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術(shù) .它

6、有真空蒸發(fā)鍍，濺射鍍，離子鍍等，獲得這些沉積方法的途徑有多 種：電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射 頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強(qiáng)等離子體、多弧等等很多種方法，可以 根據(jù)的需求和經(jīng)濟(jì)技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備 .相對(duì)于傳統(tǒng)的濕發(fā)電鍍，真空電鍍具有以下優(yōu)點(diǎn)：1. 沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金 屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛 石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系 .2. 節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性 能等相當(dāng)優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達(dá)到節(jié) 約的目的 .3. 無環(huán)境污染

7、：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉 積在工件表面，沒有溶液污染，所以對(duì)環(huán)境的危害相當(dāng)小 . 但是由于獲得真空和等離子體的儀器設(shè)備精密昂貴， 而且沉積工藝還 掌握在少數(shù)技術(shù)人員手中，沒有大量被推廣，其投資和日常生產(chǎn)維護(hù) 費(fèi)用昂貴 .但是隨著社會(huì)的不斷進(jìn)步，真空電鍍的優(yōu)勢(shì)會(huì)越來越明顯， 在某些行業(yè)取代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢(shì)所趨！ 真空離子鍍， 又稱真空鍍膜 .真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做 法，做出來的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高而相對(duì)其他的鍍膜法來說，成 本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用真空電鍍 ,這個(gè)詞不確切 .不能歸屬于電鍍 .當(dāng)然也有叫干法鍍 ,通常叫 真空鍍離子鍍等 .學(xué)科上 ,我們認(rèn)為主要考慮鍍層與基體的結(jié)合性質(zhì)機(jī)械附著還是冶金 結(jié)合