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1、真誠為您提供優(yōu)質(zhì)參考資料,若有不當(dāng)之處,請(qǐng)指正。第一章習(xí)題答案(二)6. 從結(jié)合鍵的角度分析金屬、陶瓷、高分子材料的主要性能特點(diǎn)。答案(要點(diǎn)):金屬材料:以金屬鍵為主;大多數(shù)金屬強(qiáng)度和硬度較高,塑性較好。 陶瓷材料:以共價(jià)鍵和離子鍵為主(對(duì)于玻璃材料而言,更常見的是兼有共價(jià)鍵和離子鍵的“混合鍵”);強(qiáng)度、硬度和熔點(diǎn)一般比金屬材料高;但比金屬材料脆性大,不易變形。 高分子材料:分子內(nèi)部?jī)r(jià)鍵以共價(jià)鍵為主,分子間為分子間力和氫鍵為主。高分子材料的主要性能特點(diǎn):硬度、熔點(diǎn)都比陶瓷材料和金屬低一些,某些高分子材料韌性好、塑性好,成型較容易;耐熱比較差,高溫易分解揮發(fā)。7.請(qǐng)從顆粒(晶粒)尺寸的角度,討論
2、普通(傳統(tǒng))陶瓷和精細(xì)陶瓷的主要區(qū)別是什么?(注:最好再從陶瓷材料的化學(xué)組成,所使用的原料、制備方法和主要設(shè)備,材料的性質(zhì)等方面,進(jìn)行較全面的討論)。答案(要點(diǎn)): 普通陶瓷顆粒尺寸一般為100微米以上;精細(xì)陶瓷顆粒尺寸一般為亞微米至幾十微米之間。其他:(1)化學(xué)組成上,突破了傳統(tǒng)陶瓷為硅酸鹽的界限,精細(xì)陶瓷一般是氧化物、氮化物、碳化物,等。(2)在原料上,傳統(tǒng)陶瓷以天然粘土為主要原料、與產(chǎn)地關(guān)系極大;精細(xì)陶瓷一般以化工原料為主要,原料的成分與產(chǎn)地關(guān)系不大。 (3)在制備方法上,傳統(tǒng)陶瓷常采用液相燒結(jié),以模壓和爐窯為主要生產(chǎn)手段;而精細(xì)陶瓷常采用固相燒結(jié),廣泛采用冷等靜壓,真空燒結(jié),氣氛燒結(jié)、
3、熱(等靜壓)壓等手段。 (4)在性能上,特種陶瓷有比傳統(tǒng)陶瓷優(yōu)越的高強(qiáng)度、高硬度、高韌性、耐高溫、耐腐蝕性等,還有磁、電、光、聲、生物等方面具有的特殊性質(zhì)。8. 參考本章正文和所列出的相關(guān)文獻(xiàn),試簡(jiǎn)答:(1)一次顆粒的概念和英文名稱;(2)二次顆粒的概念;(3)粉末團(tuán)聚的概念和英文名稱;(4)團(tuán)聚參數(shù)的概念;(5)硬團(tuán)聚和軟團(tuán)聚的基本概念;(6)粉末團(tuán)聚所帶來的危害。(1)一次顆粒是指粉末團(tuán)聚前的顆粒。一次顆粒的英文名稱:primary particles(2)二次顆粒是指粉末團(tuán)聚后的顆粒。(3)粉體團(tuán)聚是指一次顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接形成較大二次顆粒的現(xiàn)象。團(tuán)聚的英文名稱:
4、agglomeration,agglomerates(4)團(tuán)聚參數(shù):團(tuán)聚體平均包含粉末一次顆粒的數(shù)目,可以通過二次顆粒粒徑與一次顆粒粒徑之比求得。(5)軟團(tuán)聚能用化學(xué)法或一般的機(jī)械方法打開。硬團(tuán)聚能不用化學(xué)法或一般的機(jī)械方法打開。(6)在陶瓷燒結(jié)過程中,粉末團(tuán)聚形成的氣孔或空穴通常無法完全排除,從而形成微裂紋,根據(jù)改進(jìn)的格里菲斯(Griffith)微裂紋理論:造成材料斷裂所需要的臨界應(yīng)力與微裂紋的長(zhǎng)度2L有極大的關(guān)系,式中常數(shù)Y,所以,微裂紋的存在會(huì)導(dǎo)致材料強(qiáng)度的降低。此外,粉末團(tuán)聚還會(huì)影響材料的其他性能。9. 請(qǐng)簡(jiǎn)答:(1)陶瓷、硅酸鹽的英文名稱;(1)陶瓷:ceramics;硅酸鹽:sil
5、icate(2)適用于“精細(xì)陶瓷”的至少3種英文名稱;(2)fine ceramics;advanced ceramics;high performance ceramics;high tech. ceramics(3)XRD,SEM和TEM的英文全稱和中文名稱。(3)XRD: X-ray diffraction X射線衍射 SEM: scanning electronic microscope/-copy 掃描電子顯微鏡/法 TEM: transmission electronic microscope/-copy透射電子顯微鏡/法10 .在無機(jī)非金屬材料領(lǐng)域(如日用陶瓷、氧化鋁陶瓷、碳化硼
6、陶瓷、特種玻璃,等)里,常見一些的企業(yè)家,雖然沒有機(jī)會(huì)受到過本專業(yè)的正規(guī)訓(xùn)練;但是事業(yè)卻非常成功,而且還親自掌握了該企業(yè)的核心技術(shù)。試從學(xué)科的特點(diǎn)和技術(shù)的角度評(píng)述這一現(xiàn)象;也可以廈門及其周邊地區(qū)的知名企業(yè)為例。答案(要點(diǎn)): 無機(jī)非金屬材料領(lǐng)域的最重要的學(xué)科之一“材料科學(xué)基礎(chǔ)”或“無機(jī)材料化學(xué)”,有如下明顯的特點(diǎn):1、跳躍性思維:與基礎(chǔ)理論演繹法不同,由于演繹法還無法解決無機(jī)材料化學(xué)的許多重大問題,“猜測(cè)”的跳躍性思維往往是最常用的方法;2、綜合性:無機(jī)材料化學(xué)是材料化學(xué)家從材料科學(xué)、材料工藝與技術(shù)的角度出發(fā),把固體物理、固體化學(xué)、相關(guān)理論(例如固體力學(xué),生物學(xué), 甚至醫(yī)學(xué),等)和工程方面有關(guān)
7、無機(jī)材料研究的化學(xué)內(nèi)容集中起來,加以分析、綜合和提高,形成的一門獨(dú)立學(xué)科。3、應(yīng)用性:無機(jī)材料化學(xué)是把與物理、化學(xué)、相關(guān)理論、材料科學(xué)中與化學(xué)有關(guān)的內(nèi)容,“直接”應(yīng)用到無機(jī)材料中,把理論和實(shí)際“直接”XXX起來,表現(xiàn)了很強(qiáng)的應(yīng)用性。由于演繹法還無法推導(dǎo)出無機(jī)非金屬材料的制備條件,相關(guān)的制備關(guān)鍵往往是(在一定原則指導(dǎo)下)通過實(shí)踐摸索出來的。在無機(jī)非金屬材料領(lǐng)域,一些企業(yè)家雖然沒有機(jī)會(huì)受到過本專業(yè)的正規(guī)訓(xùn)練,但有大量的實(shí)踐,也通過各種方式掌握了材料制備與性能的一定原則,并對(duì)該領(lǐng)域有較好的宏觀了解,因而事業(yè)能成功,并且親自掌握了該企業(yè)的核心技術(shù)。從從學(xué)科的特點(diǎn)和技術(shù)的角度上來講,上述企業(yè)家的成功也是
8、一種很正常的現(xiàn)象。氣)氣孔排除。11.名詞解釋:粉末顆粒表面的-電位和功用。答案(要點(diǎn)): 固體顆粒表面因?yàn)槠奇I而帶電荷,與固體表面接觸的液體(吸附層)帶相反的電荷,產(chǎn)生雙電層;(可隨固體顆粒運(yùn)動(dòng)的)吸附層和液體不動(dòng)層之間的電位差,稱為電位。由于電位的存在,帶同種電荷的陶瓷微粒之間存在著排斥力。電位較高時(shí),顆粒間的排斥力較大;會(huì)抵消顆粒間的范德華吸引力,使顆粒呈分散狀態(tài)。12 .試簡(jiǎn)答:粉末顆粒在液體中分散的兩種主要方法。答案(要點(diǎn)): 1、調(diào)節(jié)體系的pH值或電解質(zhì)的濃度,獲得較高的-電位絕對(duì)值,使粉末顆粒在液體中分散;此即靜電穩(wěn)定機(jī)制。2、控制(兩親結(jié)構(gòu)的)高分子分散劑的種類(鏈的長(zhǎng)度等)和
9、濃度(有個(gè)最佳值),即利用高分子的空間位阻作用使粉末顆粒在液體中分散。13.試評(píng)述:用納米粉制備結(jié)構(gòu)陶瓷。(提示:從粉末團(tuán)聚和晶界兩方面討論)答案(要點(diǎn)): 即使采用無團(tuán)聚的納米粉并嚴(yán)格控制燒結(jié)條件,燒結(jié)后晶粒大小仍然在納米級(jí),也會(huì)因其晶界過多、玻璃態(tài)的比例過大,導(dǎo)致高溫蠕變和高溫強(qiáng)度等其相關(guān)性能不佳。14 .試評(píng)述:有人認(rèn)為利用斯賓那多分解(Spinodal decomposition)的原理,可以制備復(fù)合材料。答案(要點(diǎn)): 一般來說,材料發(fā)生“斯賓那多分解”后,會(huì)成為2個(gè)相,即分解成為物理和化學(xué)完全相同的2個(gè)部分。此現(xiàn)象常被應(yīng)用到高硅氧玻璃(二氧化硅含量高的玻璃)制備中。斯賓那多分解后的
10、多(兩)相結(jié)構(gòu),可直接作為制備(亞微觀層次)復(fù)合材料的基礎(chǔ)。15 .(1986年6月,Bednorz和Mller先發(fā)現(xiàn)了LaBaCuO系統(tǒng)、接著于1987年9月發(fā)現(xiàn)了YBaCuO系統(tǒng)的鈣鈦礦型高溫超導(dǎo)陶瓷)。試設(shè)計(jì)一個(gè)方案,用玻璃陶瓷(glass ceramics,即微晶玻璃)法,也獲得高溫超導(dǎo)電性;并稍解釋方案設(shè)計(jì)的思路。答案(要點(diǎn)): 例如,把YBaCuO系統(tǒng)熔化,再快速冷卻以制成玻璃,然后微晶化,滲流效應(yīng)使各個(gè)微晶體形成超導(dǎo)網(wǎng)絡(luò)。16 .試評(píng)述溫度、壓力和氣氛對(duì)精細(xì)陶瓷制備過程的意義。答案(要點(diǎn)): 高溫使固體質(zhì)點(diǎn)能充分進(jìn)行(擴(kuò)散)運(yùn)動(dòng),以順利完成固相反應(yīng)和燒結(jié)。壓力使氣孔易于排除,使燒
11、結(jié)得以順利完成。氣氛(例如H2氣氛下N2和O2的分壓為零)以利于(空氣)氣孔排除。17、簡(jiǎn)述料漿水系統(tǒng)分散的靜電穩(wěn)定性原理(zeta-pH關(guān)系).(選擇性地答一些文字性的東西就好)根據(jù)1941年蘇聯(lián)學(xué)者德查金(Darjaguin)、朗道(Landan)以及1948年荷蘭學(xué)者維韋(Verwey)和奧氟比克(Overbeek)分別獨(dú)立提出來的DLVO理論:帶電膠粒之間存在這二種相互作用力:雙電層重疊時(shí)的靜電斥力和粒子間的長(zhǎng)程范德華吸引力,它們的相互作用決定了膠體的穩(wěn)定性。當(dāng)吸引力占優(yōu)勢(shì)時(shí),溶膠發(fā)生聚沉;而當(dāng)排斥占優(yōu)勢(shì),并大到足以阻礙膠粒由于布朗運(yùn)動(dòng)而發(fā)生碰撞聚集沉?xí)r,則膠體處于穩(wěn)定狀態(tài)。熱力學(xué)電位
12、:固-液兩相之間的電位差,是體系的熱力學(xué)性質(zhì)。當(dāng)溫度和壓力一定時(shí),其只與固相本性及吸附在固相表面并建立平衡的離子活度決定。Zeta電位:固體顆粒表面因?yàn)槠奇I而帶電荷,與固體表面接觸的液體(吸附層)帶相反的電荷,產(chǎn)生雙電層;(可隨固體顆粒運(yùn)動(dòng)的)吸附層和液體不動(dòng)層之間的電位差,稱為Zeta電位,或電位或電動(dòng)電位。(1) Zeta電位-pH值關(guān)系理論曲線圖2 不同離子化特征物質(zhì)Zeta電位(由電泳遷移率數(shù)據(jù)計(jì)算獲得)隨pH變化的變化關(guān)系(a)碳?xì)浠衔镉偷?;(b)磺化聚苯乙烯油滴;(c)阿拉伯酸(羧酸聚合物)吸附的油滴(d)血清白蛋白吸附的油滴(2) 電解質(zhì)的影響從圖3可見,當(dāng)pH9時(shí)(堿性介質(zhì))
13、,-電位為負(fù)值。而且在pH=3時(shí),-電位單位達(dá)到最大正值,為183mV;而在pH=12時(shí),-電位達(dá)到最大負(fù)值。試樣的pH值控制在堿性范圍,以使粒子帶負(fù)電荷電解質(zhì)對(duì)其影響見曲線3、4。隨著高價(jià)電解質(zhì)濃度的增加,x值增大,而-電位減小 ,導(dǎo)致位能曲線下降 ,穩(wěn)定性降低 。同時(shí)出現(xiàn)第二最小值,因而呈現(xiàn)出觸變性。當(dāng)電解質(zhì)濃度進(jìn)一步增加,x值進(jìn)一步增大,-電位進(jìn)一步減小,而導(dǎo)致發(fā)生聚沉。臨界聚沉濃度在曲線23相應(yīng)的電解質(zhì)濃度之間。圖3 pH=10.4下,不同電解質(zhì)、不同濃度下的高嶺石總位能曲線(3)氧化鋁料漿體系的zeta-電位pH關(guān)系曲線不同料漿體系其zeta-電位pH關(guān)系曲線不同。圖1給出了Al2O
14、3料件的zeta電位-pH曲線和粘度-pH曲線。圖1 Al2O3漿料的-電位(實(shí)線),粘度(虛線)和pH值的關(guān)系從圖可見,當(dāng)pH9時(shí)(堿性介質(zhì)),zeta電位為負(fù)值。而且在pH=3時(shí),zeta電位單位達(dá)到最大正值,為183mV;而在pH=12時(shí),zeta電位達(dá)到最大負(fù)值。pH=9時(shí),zeta電位為0,是體系的等電位點(diǎn)(即IEP點(diǎn))。出現(xiàn)這種情況是由于Al2O3在低溫情況下(500)是兩性氧化物。在酸性介質(zhì)中,Al2O3呈堿性,它可以與算發(fā)生如下反應(yīng):由于AlCl3是水溶性的,且在水中會(huì)發(fā)生水解而生成AlOH2+、Al(OH)2+、H+和Cl-。Al2O3粒子優(yōu)先吸附AlOH2+和Al(OH)2
15、+,從而使它帶正電荷。反號(hào)離子Cl-則吸附在它的周圍而形成擴(kuò)散雙電層。在較低的pH值下,由于Cl-較多,會(huì)將雙電層壓縮,Zeta電位下降;而在較高pH值下,由于HCl較少,生成定位離子AlOH2+及Al(OH)2+較少,離子的表面電位較低,Zeta電位也下降,故在其中必然出現(xiàn)一最大值。17、簡(jiǎn)述料漿水系統(tǒng)分散的靜電穩(wěn)定性原理.Zeta電位:固體顆粒表面因破鍵而帶電荷,稱熱力學(xué)電位;與固體表面接觸的液體(吸附層)帶相反的電荷,產(chǎn)生雙電層;(可隨固體顆粒運(yùn)動(dòng)的)吸附層和液體不動(dòng)層之間的電位差,稱為(讀成zeta)電位或電動(dòng)電位。 圖1 膠體粒子的結(jié)構(gòu)及電位示意圖據(jù)DLVO理論:帶電膠粒之間存在2種
16、相互作用力:雙電層重疊時(shí)的靜電斥力和粒子間的長(zhǎng)程范德華吸引力,它們的相互作用決定了膠體的穩(wěn)定性。當(dāng)吸引力占優(yōu)勢(shì)時(shí),溶膠發(fā)生聚沉;而當(dāng)排斥占優(yōu)勢(shì),并大到足以阻礙膠粒由于布朗運(yùn)動(dòng)而發(fā)生碰撞聚集沉?xí)r,則膠體處于穩(wěn)定狀態(tài)。(1) Zeta電位-pH值關(guān)系理論曲線圖2 Zeta電位-pH值關(guān)系理論曲線(2) 電解質(zhì)的影響如下圖,出現(xiàn)極值的原因,是電解質(zhì)(離子強(qiáng)度)的影響(3)氧化鋁料漿體系的zeta-電位pH關(guān)系曲線圖1給出了Al2O3料件的zeta電位-pH曲線和粘度-pH曲線。圖3 Al2O3漿料的-電位(實(shí)線),粘度(虛線)和pH值的關(guān)系由圖可見,當(dāng)pH9時(shí)(堿性介質(zhì)),zeta電位為負(fù)值,在pH
17、=12時(shí),zeta電位的絕對(duì)值達(dá)最大。pH=9時(shí),zeta電位為0,是體系的等電位點(diǎn)(即iep點(diǎn))。出現(xiàn)這種情況是由于Al2O3是兩性氧化物;在酸性介質(zhì)中,存在Al(OH)2+或/和Al(OH)2+ 等堿性基團(tuán),Al2O3顆粒表面因“優(yōu)先吸附”它們而帶正電。在堿性介質(zhì)中,類似的分析可知Al2O3顆粒表面帶負(fù)電;在電性逆轉(zhuǎn)時(shí),出現(xiàn)iep點(diǎn)。當(dāng)pH9時(shí)(堿性介質(zhì)),隨著pH增大,zeta電位變大,也可用類似的方法解釋。Zeta電位出現(xiàn)極值,是因?yàn)閜H過大或過小時(shí),(酸、堿)電解質(zhì)的濃度過大,離子強(qiáng)度過高,壓縮雙電層,使zeta電位下降。 19、碳化硼是一種超硬材料、其晶體會(huì)比陶瓷硬骨還高,有人問,
18、為什么不把它制成晶體?因?yàn)樘蓟鹬瞥蓡尉Х浅@щy。1、所需溫度非常高、對(duì)設(shè)備的要求高2、晶體難以長(zhǎng)成較大單晶,難以達(dá)到應(yīng)用的要求3、單晶加工困難。20、早在二十年前,英國(guó)大部分材料專業(yè),其碩、博士生課題,已經(jīng)不再研究普通陶瓷,試評(píng)述這一現(xiàn)象。普通陶瓷其在性能方面存在極限,開發(fā)研究相對(duì)較簡(jiǎn)單。碩博研究生不再研究普通陶瓷基于如下2個(gè)方面:一方面這是滿足社會(huì)和科技發(fā)展對(duì)陶瓷材料性能要求的需要;普通陶瓷在性能方面已經(jīng)不能滿足科技發(fā)展對(duì)其的要求;另一方面,相對(duì)更簡(jiǎn)單的普通陶瓷的開發(fā)和研究,已不滿足碩博研究生畢業(yè)所需的水平要求。21、畫出表示:?jiǎn)尉?;玻璃;特種陶瓷;普通陶瓷簡(jiǎn)圖單晶 玻璃 特種陶瓷 普通陶
19、瓷(黑處表示玻璃態(tài)物質(zhì))23制造石英玻璃時(shí),常把天然水晶(主要成分是SiO2)燒到一定溫度,冷卻時(shí)可以發(fā)現(xiàn)其已破裂。試解釋這一原料破碎的工藝原理,并說明應(yīng)如何選擇適當(dāng)?shù)臒崽幚項(xiàng)l件。這一原料破碎的工藝原理是:從SiO2的相圖可以看出,當(dāng)溫度達(dá)到846K即573時(shí),石英與石英之間的轉(zhuǎn)變,伴隨著0.82%的體積膨脹,同時(shí)由于轉(zhuǎn)變速度較快,而且無法阻止,造成了晶體的破裂。適當(dāng)?shù)臒崽幚項(xiàng)l件是:講天然水晶加熱到1000,保溫一段時(shí)間后,迅速冷卻。24有硅磚的新窯開始使用時(shí),在846K的溫度時(shí)應(yīng)如何控制升溫速率?為什么?在846K應(yīng)該保溫一段時(shí)間或降低升溫速率。從SiO2的相圖可以看出,當(dāng)溫度達(dá)到846K即
20、573時(shí),石英與石英之間的轉(zhuǎn)變,伴隨著0.82%的體積膨脹,同時(shí)由于轉(zhuǎn)變速度較快,而且無法阻止,如果在這一溫度點(diǎn)升、降溫速度過快,會(huì)造成硅磚的破裂。25提煉單晶硅時(shí),硅石(主要成分SiO2)放在原料的頂部,為防止硅石成粉碎狀,工藝上應(yīng)采用什么溫度制度?工藝上,應(yīng)根據(jù)氧化硅相圖來制定單晶硅提煉的溫度制度,具體為:在可能發(fā)生位移式相變的幾個(gè)溫度下長(zhǎng)期保溫,使此類相變充分進(jìn)行,防止在這些溫度點(diǎn)升、降過快,造成SiO2的破裂。26新窯/爐使用時(shí),為防止耐火材料在使用過錯(cuò)中炸/開裂,往往需要先進(jìn)行烤窯/爐。試制定烤窯/爐的溫度制度(以窯/爐內(nèi)有硅磚討論)。新窯/爐常使用的耐火材料為硅磚,若硅磚在1743
21、K以上使用則會(huì)方石英化。此外,在XXX過程中也會(huì)有少量的方石英殘存于硅磚中,在窯爐冷卻時(shí),由于溫度降到室溫左右,方石英的多晶轉(zhuǎn)變,常會(huì)引起窯磚的炸裂。因此,新窯在點(diǎn)火時(shí),應(yīng)根據(jù)氧化硅相圖來制定烤窯升溫制度,在可能發(fā)生位移式相變的幾個(gè)溫度下長(zhǎng)期保溫,使此類相變充分進(jìn)行,防止它們?cè)谄渌麥囟认略俅伟l(fā)生。同時(shí),在保溫階段采取工程上的措施,使相變產(chǎn)生的體積變化在力學(xué)上得到平衡。27試評(píng)述:第二相處于晶界中引起的“釘扎效應(yīng)”。第二相在晶界中引起的“釘扎效應(yīng)”可以起到如下兩方面的作用:(1)阻止晶粒異常長(zhǎng)大;(2)在一定程度上阻止相變的發(fā)生。因此,可以合理地設(shè)計(jì)配方,利用第二相在晶界處的“釘扎效應(yīng)”來阻止主晶相晶粒的異常長(zhǎng)大和相變的發(fā)生。 28簡(jiǎn)述純堿的(至少兩個(gè))基本用途。玻璃工業(yè):玻璃工業(yè)是純堿的最大消費(fèi)部門,每噸玻璃消耗純堿0
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