EDI故障及解決方法1.doc

從多年的工程經(jīng)驗(yàn)來看，引起EDI膜塊故障的原因主要有以下幾點(diǎn)，請大家探討： 1、EDI膜塊長期在大電流，小流量運(yùn)行，積聚的熱量得不到散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量都不同程度的下降。 2、EDI膜塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)鈣鎂垢，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無法調(diào)節(jié)，最終無法使用。 3、EDI膜塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機(jī)沒有保護(hù)，EDI的膜片和通道滋生有機(jī)物，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無法調(diào)節(jié)，最終無法使用。 4、采用不合理的清洗和消毒藥劑，直接導(dǎo)致EDI樹脂損壞和破碎，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。 5、EDI系統(tǒng)手動運(yùn)行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。 6、EDI進(jìn)水前無保安濾器，直接導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無效。 7.以及前處理不佳（軟化器，亞硫酸添加系統(tǒng)，RO等）、控制系統(tǒng)故障/失靈（安全聯(lián)鎖裝置，低流量保護(hù)的問題） 、不適當(dāng)?shù)南到y(tǒng)設(shè)計（RO 初期產(chǎn)水未排放）等。E-CELL模塊清洗及消毒一、 綜述清洗隨著工作時間的累積，需要對E-Cell模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋? 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)- 在離子交換樹脂或膜形成無機(jī)物污垢（例如，硅）- 在離子交換樹脂或膜形成有機(jī)物污垢- E-Cell模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢- 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。以下的圖表簡要的概括了污垢情況以及最佳的清洗/消毒程序。高溫消毒將來要推出的MK-3Pharm 與MK-3Mini 模塊的高溫消毒型模塊，可以在 高溫 (80C / 176F)情況下進(jìn)行消毒。消毒說明將同時提供給用戶。江蘇省振興節(jié)水工程技術(shù)設(shè)備有限公司 例行的消毒最好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒, 消毒時先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。注意:1) 清洗程序僅為E-Cell系統(tǒng)（僅含一臺模塊）所使用。對于大型系統(tǒng)應(yīng)按比例增加清洗劑量: 保持化學(xué)藥品的濃度，化學(xué)藥品的用量用模塊數(shù)量乘以單個模塊系統(tǒng)所需的藥量得到。2) E-Cell系統(tǒng)清洗程序過程每次需要8小時。3) 在清洗淡水室之后，E-Cell模塊應(yīng)立刻進(jìn)行再生。再生過程最多需要16個小時。如果E-Cell系統(tǒng)要停機(jī)三天以上的話則必須履行長期關(guān)機(jī)程序。問題2 安全1) 避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學(xué)物質(zhì)。過氧化氫是氧化劑。2) 將整個管線降壓以避免高壓化學(xué)藥劑噴濺。3) E-Cell系統(tǒng)在高電壓下運(yùn)行。在任何維護(hù)工作前，確保整流器不通電并鎖定。3 清洗化學(xué)品規(guī)范所有化學(xué)品應(yīng)必須達(dá)到推薦使用的等級或者更好。氯化鈉(NaCl) ，食用級 (99.80%), ACS 或 USP級醋酸 (CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2) 30%: ACS級, 或達(dá)到水系統(tǒng)清洗的商用濃度 (例如， Minntec Minncare, Henkel-Ecolab Oxonia Active,Diversey Divosan, 或 FMC Flocide).鹽酸 (HCl) ACS 或技術(shù)級氫氧化鈉(NaOH): 球狀, NF, ACS或凈化級; 或50% w/w 溶液二、清洗設(shè)備及說明對于清洗系統(tǒng)和消毒系統(tǒng)而言有四種類型：低pH值型; 高pH值型; 低濃度氧化消毒清洗型；及高溫消毒型 。氯化鈉被用來輔助一些其他化學(xué)品的清洗。關(guān)于低 pH值型， 高 pH值型， 低濃水氧化消毒清洗型，及高溫消毒型的描述在下面的內(nèi)容中作詳細(xì)闡述。當(dāng)需要選擇高溫消毒時，則要啟動高溫消毒程序。單獨(dú)的清洗及消毒程序只針對淡水，濃水及極水管線而言。清洗及消毒的循環(huán)過程可獨(dú)立完成。獨(dú)立的循環(huán)程序也可同時進(jìn)行以減少總的清洗時間。由于極水循環(huán)的低清洗流速，大多數(shù)情況下清洗過程必須同時與濃水循環(huán)清洗和淡水循環(huán)清洗同時進(jìn)行。清洗水箱及水泵是必備的（CIP系統(tǒng)）。總共需要五條清洗流水線：兩個進(jìn)口（淡水進(jìn)口和濃水進(jìn)口）以及三個出口（淡水出口，極水出口和濃水排放）。低pH值和高pH值溶液應(yīng)根據(jù)程序所提供的清洗溶液容量以及流速，運(yùn)行30到60分鐘。低濃度氧化劑消毒程序需運(yùn)行120分鐘。氯化鈉消毒運(yùn)行10到20分鐘。清洗過程應(yīng)在盡可能的低壓情況下工作。在大多數(shù)情況中，由于流速過低，清洗過程中通過所有循環(huán)后的壓損低于1 bar (15 psi)。模塊內(nèi)部壓力應(yīng)始終保持在 6.9 bar (100 psi)。操作說明2 為清洗過程設(shè)置CIP及E-Cell系統(tǒng)參看以下獨(dú)立循環(huán)清洗程序以了解最適合您的清洗模式。 排空清洗系統(tǒng)。 若是使用直通清洗方法，則不能在開始清洗之前或在清洗步驟之間排E-Cell系統(tǒng)（如果已工作超過一個步驟）。若是使用再循環(huán)清洗方法，則在開始清洗之前或在清洗過程中排空E-Cell系統(tǒng)（如果已工作超過一個步驟）。 通過關(guān)閉E-Cell系統(tǒng)淡水進(jìn)口，淡水出口，淡水沖洗出口，濃水排放，及極水出口閥將E-Cell系統(tǒng)與上游及下游隔離開。 通過關(guān)閉濃水進(jìn)口隔離閥來將濃水管線與淡水和極水管線隔離開。操作說明直通順流及再循環(huán)模式濃水管線: 將清洗系統(tǒng)出口與濃水進(jìn)口清洗口連接。 再將濃水排放清洗口與清洗系統(tǒng)連接。淡水管線: 將清洗系統(tǒng)出口與淡水進(jìn)口清洗口連接。 再將淡水出口清洗口與清洗系統(tǒng)連接。極水管線 將清洗系統(tǒng)出口與淡水進(jìn)口清洗口連接。 再將極水出口清洗口與清洗系統(tǒng)連接。直通逆流模式淡水管線: 將清洗系統(tǒng)出口與淡水出口清洗口連接。 再將淡水進(jìn)口清洗口與清洗系統(tǒng)連接。極水管線： 將清洗系統(tǒng)出口與極水出口清洗口連接。 再將E-Cell濃水排放清洗口與清洗系統(tǒng)連接。操作說明9.6 清洗程序清洗程序 1: 濃水管線清洗及消毒清洗及消毒模式 首選清洗模式：直通，順流（低及 高 pH值都可）；再循環(huán)（氧化劑）。 可選清洗模式：再循環(huán)模式。步驟注意:以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。 步驟 1. 氯化鈉NaCl 2%, 60 L (16 gal), 3 - 6 L/min (0.8 - 1.6 gpm) 步驟 2.a) 低 pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 70 L (18.5 gal), 1.2 - 2.3 L/min (0.3 - 0.6 gpm)ORb) 高 pH值: 氫氧化鈉 NaOH 1%, 80 L (21 gal), 1.3 - 2.7 L/min (0.35 - 0.7 gpm)或c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% + 過氧化氫 H2O2 0.2%, 10 L (2.6 gal) 按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。 步驟 3 (僅按照步驟 2a或 2b ; 步驟 2c后不要求.)氯化鈉NaCl 2%, 60 L, (16 gal), 3 - 6 L/min (0.8 - 1.6 gpm) 步驟 4.水沖洗:將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水流循環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率0.02 MOhm.cm 或等同于進(jìn)水 (至少 20 L (5 gal)清洗程序清洗程序 2: 淡水管線清洗及消毒清洗及消毒模式 首選清洗模式：直通，逆流（低及 高 pH值都可）；再循環(huán)（氧化劑） 可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)注意: 由于硬度結(jié)垢幾乎完全發(fā)生在濃水室和極水室，淡水室的低PH清洗并不常用。在極端嚴(yán)重結(jié)垢或十分混亂的條件下，需要保留淡水室的低PH清洗。步驟注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。 步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 130 L (34 gal), 6.5 - 13 L/min (1.7 - 3.4 gpm) 步驟 2.a) 低 pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 170 L (45 gal), 2.8 - 5.7 L/min (0.75 - 1.5 gpm)或b) 高 pH值: 氫氧化鈉 NaOH 1%, 180 L (48 gal), 3 - 6 L/min (0.8 - 1.6 gpm)或c) 氧化劑:醋酸CH3COOOH 0.04% + 過氧化氫 H2O2 0.2%, 25 L (6.6 gal) 按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。 (僅按照步驟 2a或 2b ;步驟 2c后不要求.)氯化鈉NaCl NaCl 2%, 130 L (34 gal), 6.5 - 13 L/min (1.7 - 3.4 gpm) 步驟 4.水沖洗: 將RO水質(zhì)的水引入濃水流循環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率0.02 MOhm.cm 或等同于進(jìn)水 (至少45 L (12 gal)清洗程序清洗程序 3: 極水管線清洗及消毒清洗及消毒模式 直通逆流（低及 高 pH值都可）再循環(huán)（氧化劑） 可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)步驟注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。 步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm) 步驟 2.a) 低 pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)或b) 高 pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 - 0.06 gpm)或c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal) 按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。 (僅按照步驟 2a或 2b ;步驟 2c后不要求.)氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm) 步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中