標(biāo)準(zhǔn)解讀
GB/T 19421.1-2003是一項(xiàng)中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),專注于層狀結(jié)晶二硅酸鈉的試驗(yàn)方法,特別針對(duì)δ相層狀結(jié)晶二硅酸鈉的定性分析,采用的是X射線衍射儀技術(shù)。下面是對(duì)該標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容的詳細(xì)說明:
標(biāo)準(zhǔn)范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了利用X射線衍射儀對(duì)δ相層狀結(jié)晶二硅酸鈉進(jìn)行定性分析的方法,適用于該材料的鑒別與確認(rèn),確保其結(jié)構(gòu)特性符合特定要求。
術(shù)語和定義
雖然具體術(shù)語在此未展開,但標(biāo)準(zhǔn)中會(huì)包括對(duì)層狀結(jié)晶二硅酸鈉、特別是δ相以及X射線衍射(XRD)基本概念的明確界定,以便讀者準(zhǔn)確理解。
原理
X射線衍射技術(shù)基于布拉格定律,通過測(cè)量X射線在樣品上產(chǎn)生的衍射圖案,來分析材料的晶體結(jié)構(gòu)。對(duì)于δ相層狀結(jié)晶二硅酸鈉,其具有獨(dú)特的衍射峰位置和強(qiáng)度分布,這些特征可作為定性鑒別的依據(jù)。
儀器與設(shè)備
標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)描述了進(jìn)行測(cè)試所需的X射射線衍射儀的技術(shù)要求,包括但不限于X射線源的類型、探測(cè)器靈敏度、掃描范圍及步進(jìn)大小等參數(shù)設(shè)定,以保證測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和重復(fù)性。
樣品制備
提供了樣品預(yù)處理和制備的具體步驟,如研磨、壓片或使用特定載體等,確保樣品適合XRD分析,并減少外部因素對(duì)測(cè)試結(jié)果的影響。
測(cè)試步驟
詳述了從儀器校準(zhǔn)、樣品安裝到數(shù)據(jù)采集的全過程操作規(guī)程,包括掃描速度、角度范圍的選擇,以及如何識(shí)別和記錄衍射圖譜中的特征峰。
數(shù)據(jù)處理與分析
解釋了如何根據(jù)獲得的X射線衍射圖譜,對(duì)比標(biāo)準(zhǔn)卡片或數(shù)據(jù)庫(kù)中的數(shù)據(jù),識(shí)別出δ相層狀結(jié)晶二硅酸鈉的特征峰,從而完成定性分析。這一步驟可能還包括背景扣除、峰位匹配和強(qiáng)度比對(duì)等內(nèi)容。
試驗(yàn)報(bào)告
規(guī)定了試驗(yàn)報(bào)告應(yīng)包含的信息,如樣品描述、測(cè)試條件、主要衍射峰的位置和相對(duì)強(qiáng)度、分析結(jié)論等,確保測(cè)試結(jié)果的完整性和可追溯性。
精密度和準(zhǔn)確度
盡管標(biāo)準(zhǔn)文本未直接展示這部分內(nèi)容,通常會(huì)提及方法的再現(xiàn)性和準(zhǔn)確性要求,或是參考其他標(biāo)準(zhǔn)來評(píng)估測(cè)試結(jié)果的可靠性。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 19421-2008
- 2003-12-11 頒布
- 2004-06-01 實(shí)施



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GB-T19421.1-2003層狀結(jié)晶二硅酸鈉試驗(yàn)方法δ相層狀結(jié)晶二硅酸鈉定性分析X射線衍射儀法.pdf-免費(fèi)下載試讀頁(yè)文檔簡(jiǎn)介
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